RU2112076C1 - Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия - Google Patents
Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия Download PDFInfo
- Publication number
- RU2112076C1 RU2112076C1 RU97108544A RU97108544A RU2112076C1 RU 2112076 C1 RU2112076 C1 RU 2112076C1 RU 97108544 A RU97108544 A RU 97108544A RU 97108544 A RU97108544 A RU 97108544A RU 2112076 C1 RU2112076 C1 RU 2112076C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- coating
- deposition
- transparent coating
- tin
- magnetron sputtering
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение может быть использовано для получения прозрачных электродов и прозрачных электронагревательных элементов. Способ нанесения прозрачного проводящего покрытия включает реактивное магнетронное распыление и осаждение металлического индия с добавлением олова в атмосфере газовой смеси инертного газа и кислорода при одновременной ионной стимуляции процесса осаждения. Способ позволяет получать покрытия без предварительного нагрева, что значительно сокращает время нанесения покрытия.
Description
Изобретение относится к области нанесения покрытий, в частности к магнетронному распылению электропроводящих покрытий в среде реактивных газов, и может быть использовано для получения прозрачных электродов и прозрачных электрообогревательных элементов.
Известен способ получения проводящих прозрачных покрытий из оксида индия (SU, авт.св. N 950798, кл. C 23 C 14/08 от 09.07.80).
Известный способ осуществляется в сложном составе атмосферы в камере и с низкой скоростью нанесения покрытия, а также требует предварительного охлаждения подложки.
Наиболее близким по технической сущности к заявляемому изобретению является способ формирования прозрачных электропроводных пленок оксида индия, включающий в себя реактивное магнетронное распыление в атмосфере газовой смеси инертного газа и кислорода при использовании мишени из металлического индия с добавлением олова (JP, заявка 63-54788, кл. C 23 C 14/08 от 14.11.80).
Основным недостатком данного способа является необходимость предварительного нагрева стеклянной подложки.
Задача, на решение которой направлено данное изобретение, заключается в разработке способа, позволяющего получать проводящее прозрачное покрытие из оксида индия с добавлением олова без предварительной подготовки подложки, заключающейся в ее нагреве, или охлаждении, или без последующего высокотемпературного отжига стеклянной подложки с нанесенным на нее проводящим прозрачным покрытием, а также позволяющего значительно сократить время нанесения покрытия.
Поставленная задача решается тем, что способ получения проводящих прозрачных покрытий, включающий реактивное магнетронное распыление и осаждение металлического индия с добавлением олова в атмосфере газовой смеси инертного газа и кислорода, проводится с ионной стимуляцией процесса осаждения покрытия.
Отличительный признак - ионная стимуляция осаждения покрытия - является существенным. Ионная стимуляция осаждения заключается в бомбардировке ионами с кинетической энергией не менее 50 эВ поверхностных слоев материала покрытия. В этой области энергий бомбардирующих ионов процесс ионной стимуляции приводит к разрыву или восстановлению химических связей, что вызывает десорбцию или химическую реакцию, изменяющую структуру покрытия.
В результате получают высококачественную структуру покрытия оптически прозрачную - в видимом диапазоне светопропускание составляет 85-90%, с удельным поверхностным сопротивлением ≈ 50-100 Ом/м.
Осаждение прозрачного электропроводящего покрытия проводят путем распыления металлического индия с добавлением олова в соотношении In - 80-90%, Sn - 10-20% методом реактивного магнетронного распыления в атмосфере газовой смеси инертного газа Ar - 50-75%, O2 - 25-50% и общем давлении в камере 1•10-3 - 3•10-3 мм рт.ст., при этом напряжение разряда магнетрона составляет 400-600 В. Одновременная ионная стимуляция процесса осаждения покрытия проводится ионным ускорителем при напряжении разряда 1000-1500 В, токе пучка 50-100 мА и энергии ионов 50-100 эВ. Угол наклона траектории ионов по отношению к поверхности подложки составляет 75-90o. Время нанесения покрытия 4-6 мин, получаемая толщина покрытия 0,06-0,1 мкм.
Claims (1)
- Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия, включающий реактивное магнетронное распыление и осаждение металлического индия с добавлением олова в атмосфере газовой смеси инертного газа и кислорода, отличающийся тем, что осаждение покрытия ведут с ионной стимуляцией процесса.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU97108544A RU2112076C1 (ru) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU97108544A RU2112076C1 (ru) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2112076C1 true RU2112076C1 (ru) | 1998-05-27 |
RU97108544A RU97108544A (ru) | 1998-08-27 |
Family
ID=20193311
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU97108544A RU2112076C1 (ru) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2112076C1 (ru) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2448197C1 (ru) * | 2011-04-05 | 2012-04-20 | Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России) | Способ нанесения прозрачного электропроводящего покрытия |
RU2499079C2 (ru) * | 2008-06-13 | 2013-11-20 | Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф. | Способ получения прозрачного проводящего покрытия из оксида металла путем импульсного высокоионизирующего магнетронного распыления |
RU2637044C2 (ru) * | 2016-04-15 | 2017-11-29 | Закрытое Акционерное Общество "Светлана - Оптоэлектроника" | Способ получения покрытия на основе оксида индия и олова |
RU2682744C2 (ru) * | 2016-12-02 | 2019-03-21 | Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения" | Устройство для вакуумно-плазменного осаждения материалов с ионной стимуляцией |
-
1997
- 1997-05-22 RU RU97108544A patent/RU2112076C1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JP, * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2499079C2 (ru) * | 2008-06-13 | 2013-11-20 | Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф. | Способ получения прозрачного проводящего покрытия из оксида металла путем импульсного высокоионизирующего магнетронного распыления |
RU2448197C1 (ru) * | 2011-04-05 | 2012-04-20 | Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России) | Способ нанесения прозрачного электропроводящего покрытия |
RU2637044C2 (ru) * | 2016-04-15 | 2017-11-29 | Закрытое Акционерное Общество "Светлана - Оптоэлектроника" | Способ получения покрытия на основе оксида индия и олова |
RU2682744C2 (ru) * | 2016-12-02 | 2019-03-21 | Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения" | Устройство для вакуумно-плазменного осаждения материалов с ионной стимуляцией |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0636702B1 (en) | Methods for producing functional films | |
JP3708564B2 (ja) | 低イオンビームを用いた金属酸化物等の薄層の改質処理方法 | |
RU2561419C2 (ru) | Низкоэмиссионное стекло и способ его получения | |
CN1271784A (zh) | 在衬底表面上淀积膜的方法和由该方法制造的衬底 | |
US3920533A (en) | Light filter and process for producing the same | |
KR100336621B1 (ko) | 고분자 기판 위의 인듐산화물 또는 인듐주석산화물 박막증착 방법 | |
RU2112076C1 (ru) | Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия | |
US5206060A (en) | Process and device for the deposition of thin layers and product made thereby | |
JP2000173768A (ja) | 薄膜電界発光装置及びその製造方法 | |
RU2241065C2 (ru) | Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия | |
RU2407820C1 (ru) | Способ нанесения покрытия на изделия из керамики в вакууме | |
RU2448197C1 (ru) | Способ нанесения прозрачного электропроводящего покрытия | |
JPS6210269A (ja) | 真空蒸着装置及び薄膜の製造方法 | |
RU2052538C1 (ru) | Способ нанесения вакуумного металлизированного покрытия на диэлектрические подложки | |
JPH058527B2 (ru) | ||
RU2075537C1 (ru) | Экзотермическое стекло и способы его изготовления | |
SU1499573A1 (ru) | Способ получени прозрачных провод щих пленок на основе оксидов инди и олова | |
JPS63203760A (ja) | ガラス基板面への無機質膜の形成方法及びその装置 | |
JPH073438A (ja) | 撥水性ハードコート被膜の製造方法 | |
JPH0314906B2 (ru) | ||
JPS628408A (ja) | 改良されたスパツタリング法 | |
EP0961806A1 (de) | Verfahren zur modifizierung von substratoberflächen aus polymeren oder copolymeren mit methacrylatanteil | |
JP2604850B2 (ja) | スパッタ装置および薄膜製造方法 | |
JPH0465803A (ja) | 酸化物誘電体薄膜作成方法 | |
JPS63206464A (ja) | インライン型複合表面処理装置 |