JPS61256943A - 有色透明導電膜の形成方法 - Google Patents

有色透明導電膜の形成方法

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JPS61256943A
JPS61256943A JP10029885A JP10029885A JPS61256943A JP S61256943 A JPS61256943 A JP S61256943A JP 10029885 A JP10029885 A JP 10029885A JP 10029885 A JP10029885 A JP 10029885A JP S61256943 A JPS61256943 A JP S61256943A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive film
substrate
transparent conductive
partial pressure
colored
Prior art date
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Pending
Application number
JP10029885A
Other languages
English (en)
Inventor
Toku Tsutsugi
筒木 徳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyota Motor Corp
Original Assignee
Toyota Motor Corp
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Filing date
Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は有色透明導電膜の形成方法に関し、詳しくは、
成膜時の基板温度及び酸素分圧を調節することによって
、前記透明導電膜を、ブロンズ、ブルー、イエロー等に
着色する方法に関する。
本発明の方法によると、複雑な工程を要することなく透
明導電膜(したがって、該透明導電膜を有するガラス板
)を所望の色に着色することができる。故に、本発明の
方法によって形成した透明導電膜は、ヒータ、電極等と
して機能するばかりでなく、意匠性に富み有用である。
[従来の技術] 近年、各種電子素子用の透明電極として、あるいは、各
種車両用または冷凍ショーケース用のウィンド面ヒータ
として透明導電膜を用いることが行なわれている。
一方、意匠性の見地より、あるいは直射日光の低減を目
的として、上記各種車両または冷凍ショーケースのウィ
ンドに着色を施すことが行なわれている。
しかし、ウィンド自体への着色は、ガラス成分に各種有
色イオンを添加したり、あるいは各種元素・化合物の微
粒子をコロイド状に分散させたり、また、放射線照射に
よる着色法も用いられているが、これらガラスの溶融か
ら発色にいたる工程はかなり複雑であり、また、着色の
色あいを変える毎に、別種の色あいのガラス板を製造し
なければならないという欠点を有する。
かかる欠点の除去を目的として、有色透明フィルムを用
意し、これをウィンドに貼り付けることも行なわれてい
る。
しかしこれは、ウィンドの面積が大きくなると、前記フ
ィルムを均一に貼り付けることが困難であるという欠点
を有する。
また、ウィンド面にヒータが形成されている場合は、該
ヒータの加熱時に上記フィルムが伸びたり、あるいは、
剥がれたりするという欠点をも有する。
[発明が解決しようとする問題点] 本発明は、上記した事情に鑑み案出されたものであり、
比較的簡単な工程によって、耐久性の良い有色ウィンド
を得る方法を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段及び作用]本発明は、透
明基板表面に透明導電膜を形成するに際し、導入酸素分
圧及び基板温度を調節することによって、透明導電膜を
所望の色に着色するものである。
即ち本発明は、 真空装置内に透明基板を配置し、 該真空装置内の酸素分圧を制御し、かつ、前記透明基板
の温度を制御しつつ、 前記酸素分圧及び前記基板温度によって定まる分光特性
を有する透明導電膜を、真空成膜法によって、前記透明
基板表面に被着させることを特徴とする有色透明導電膜
の形成方法である。
上記において、透明基板の形状、大きざ等は、車両用ウ
ィンド、ショーケース用ウィンド、液晶セル用基板等、
透明導電膜を被着すべき部材の用途に応じて定める。
また、真空装置としては、従来真空成膜法の実施に使用
されている装置であって、導入する酸素ガスの分圧及び
基板温度を任意に制御し得るものであれば用いることが
できる。
前記真空装置内の酸素分圧及び前記透明基板の温度によ
って、着色の色あい、即ち、透明導電膜を透過する透過
光の分光特性(成る特定波長の光をより多く、また、成
る特定波長の光をより少なく透過させる特性)を調節す
ることができる。
例えば、酸素分圧po tが、 log (Poz)>−2,5 であれば、基板温度にかかわらず透明導電膜は、淡黄色
に着色される。
また、基板温度が高い場合は、比較的淡青色に着色され
易い。
したがって、前記成膜時の酸素分圧及び基板温度を制御
することによって、透明環N膜を所望の色に着色するこ
とができる。
なお温度制御は、通常、加熱手段を用いて行なう。なん
ら温度制御を行なわない状態において、基板温度は50
〜130℃程度の温度となるからである。加熱手段とし
ては、基板を均一に加熱し得るものであれば良い。
真空成膜法としては、スパッタリング法、電子ビーム蒸
着法等、公知の真空成膜法を用いることができる。
また、透明導電膜としては、ITO(インジウム・ティ
ン・オキサイド)等公知の透明導電膜を用いることがで
きる。なお、透明導電膜の厚さはその用途に応じて定め
る。例えば車両用ウィンドのヒータとして用いる場合は
、シート抵抗値・5Ω/口以下が望ましく、したがって
今回得られた透明導電膜の比抵抗を考慮すれば厚さは1
μ〜1゜5μ程度でよい。
[実施例] 以下、本発明を具体的な実施例に基づいて説明する。
第1図は、本発明を実施する高周波スパッタリング用真
空装置の模式図である。
ここに、基板温度は、 (a)基板加熱なしく100〜120℃)、(b)25
0℃、 (C)350℃、 の3種類とし、 また、酸素分圧Potは四重種型質量分析計により測定
し、 100PO2=−2、−3、−4、−5、−6の5種類
として合計15種類のサンプルを以下の手順で製造した
。なお、透明導電膜の膜厚は、上記(a)については0
.3μ、上記(b)(c)については1.2μとした。
(1)透明ガラス基板1のセット ガラス基板1を真空装置5の槽51内のテーブル53上
にセットし、槽51内を1X10−6Paまで排気した
後、プレスバッタリングを10分間行なって、ターゲッ
ト3の表面を清浄にした。
ここに、ターゲット3の組成は、Inz03−10wt
%5nu2(焼結密度75%)とし、ターゲット−基板
間距離は100mmとした。
(2)スパッタリング 前記所定分圧の酸素ガスを槽51内に導入し、基板1を
ヒータ52によって前記所定温度に加熱しつつ、高周波
スパッタリングを実施して、透明導電膜を基板1表面に
被着させた。ここに、印加電力は3.2w/ci2とし
た。
以上のようにして製造した各サンプルについて、比抵抗
、及び可視光透過率を測定した。その結果を第2図及び
第3図にそれぞれ示す。また、代表的サンプルについて
、分光特性を測定した。その結果を第4図に示す。
第2図かられかるように、酸素分圧Potが、10QP
O2≦−3 であれば、比抵抗ρは充分小さい。
また第3図かられかるように、可視光透過率は、いづれ
のサンプルにおいても70%以上(自動車用ウィンドの
JISMA格値)を満足している。
また、第3図かられかるように、基板温度及び酸素分圧
を調節することにより、色あいを定めることができる。
[効果] 以上、要するに本発明は、透明基板表面に透明′4電膜
を形成するに際し、導入酸素分圧及び基板温度を調節す
ることによって、透明導電膜を所望の色に着色するもの
である。
実施例に述べたところからも明らかなように、本発明の
方法によると、複雑な工程を要することなく透明導電膜
(したがって、該透明導電膜を有するガラス板)を所望
の色に着色することができる。即ち、前記成膜時の酸素
分圧及び基板温度を制御することによって、透明導電膜
を所望の色に着色することができる。
また、本発明の方法によって形成した透明導電膜は耐久
性に優れ、ヒータ、電極等として機能するばかりでなく
、意匠性に富むため自動車用ウィンド、冷凍ショーケー
ス等として有用である。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例で用いる真空装置の模式図である。第2
図は基板温度をパラメタとし、酸素分圧と比抵抗との関
係を表わすグラフであり、第3図は基板温度をパラメタ
とし、酸素分圧と可視光線透過率との関係を表わすグラ
フである。また第4図は基板加熱を行なわなかったサン
プル、250″Cで加熱したサンプル、350″Cで加
熱したサンプルの分光特性を表わすグラフである。 1・・・透明基板  3・・・ターゲット5・・・真空
装置

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)真空装置内に透明基板を配置し、 該真空装置内の酸素分圧を制御し、かつ、前記透明基板
    の温度を制御しつつ、 前記酸素分圧及び前記基板温度によって定まる分光特性
    を有する透明導電膜を、真空成膜法によって、前記透明
    基板表面に被着させることを特徴とする有色透明導電膜
    の形成方法。
  2. (2)前記酸素分圧は、10^−^7Pa〜10^−^
    1Paの範囲内である特許請求の範囲第1項記載の有色
    透明導電膜の形成方法。
  3. (3)前記透明基板の温度制御は、該透明基板を加熱す
    ることによって行なう特許請求の範囲第1項記載の有色
    透明導電膜の形成方法。
  4. (4)前記透明基板の加熱温度は、50℃〜450℃で
    ある特許請求の範囲第3項記載の有色透明導電膜の形成
    方法。
  5. (5)前記真空成膜法は、高周波スパッタリング法であ
    る特許請求の範囲第1項記載の有色透明導電膜の形成方
    法。
JP10029885A 1985-05-10 1985-05-10 有色透明導電膜の形成方法 Pending JPS61256943A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005183346A (ja) * 2003-12-24 2005-07-07 Konica Minolta Holdings Inc 電気光学素子及び透明導電膜の形成方法
WO2016190429A1 (ja) * 2015-05-27 2016-12-01 株式会社アルバック 光学薄膜製造方法、光学フィルム製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005183346A (ja) * 2003-12-24 2005-07-07 Konica Minolta Holdings Inc 電気光学素子及び透明導電膜の形成方法
WO2016190429A1 (ja) * 2015-05-27 2016-12-01 株式会社アルバック 光学薄膜製造方法、光学フィルム製造方法
CN107614738A (zh) * 2015-05-27 2018-01-19 株式会社爱发科 光学薄膜制造方法、光学膜片制造方法
JPWO2016190429A1 (ja) * 2015-05-27 2018-02-22 株式会社アルバック 光学薄膜製造方法、光学フィルム製造方法

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