JP3746526B2 - 表面プラスモン共鳴分析用担体の製造方法 - Google Patents

表面プラスモン共鳴分析用担体の製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、表面プラスモン共鳴のための担体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
表面プラスモン共鳴(surface plasmon resonance) 又はSPRは、銀の薄膜を被覆した表面に付着する抗体の分析に用いることができる技法である。SPR系のセンサーについては、J. Electron Spectroscopy (1993) に掲載された I. Faulkner, W.R. Flavell, J. Davies, R.F. Sunderland及びC.S. Nunnerly による論文「SPR-based sensors studied by electron energy loss spectroscopy and attenuated total reflection」に論じられている。表面に被膜を適用する方法がSPRの観点から得られる表面特性に重要な結果をもたらすので、被覆方法の制御が重要である。現在のところ、被覆をスパッタリングで行うことが一般的であるが、制御が良好ではない。再現性のよいSPRを得るためには、均一な金属層からフィルムを形成させることが重要である。このため、SPR用のフィルムを製造する方法の改善が望まれている。
【0003】
【課題を解決するための手段】
本発明によると、銀層を含む金属フィルム(好ましくは金属薄膜)を表面に付着させる表面プラスモン共鳴分析用担体の製造方法において、前記銀層を付着させた後前記フィルムにそれをアニールするのに十分な温度に加熱するアニール工程を施すことを特徴とする前記製造方法が提供される。
【0004】
アニール工程において、フィルムをベークし、よってフィルムを配向させてその物理特性を向上させるために有効にアニールする。
【0005】
本発明の方法を実施する際には、表面(ガラス面が適している)に、銀層を被覆する前に適当な前処理を施すことが好ましい。適当な前処理は、洗浄工程、反応性グロー放電処理工程及びその後の予備金属層の付着工程を包含する。予備金属層は薄いことが好ましい。その後、予備金属層の上に銀層を付着させる。銀層を付着させた後にそれをアニールする。
【0006】
アニール工程は金属フィルムを効果的にベークするよう実施される。この工程はフィルムを配向させてその物理特性を向上させる効果を有する。アニール工程はチャンバー内で赤外線加熱する方法で実施するのが適当である。好ましい処理時間は1.5〜4時間の範囲内である。好ましい温度は125〜175℃の範囲内である。150℃の温度が特に好ましい。アニール温度は、SPRを用いて抗体の結合を分析する場合に重要である。それは、デキストランのような化合物の結合を分析する場合にはさほど重要ではない。
【0007】
表面はガラス面であることが好ましい。適当ないずれのガラス面でも使用できるが、好ましい表面は二酸化珪素の層面である。特に適した種類のガラスは「PERMABLOC 」(商標)及びその初期製品「PERMASHEET」(商標)のガラスであり、どちらもPilkington Glass社(St Helens, England)の製品である。それらは二酸化珪素の均一な上層を有する。
【0008】
前処理の際にガラスを適当な何らかの手段で洗浄することができる。好ましい処理には、フレオン(商標)処理及び/又は超音波処理並びにその後の蒸気浴又はブロー乾燥処理が含まれる。
【0009】
洗浄後、ガラスに酸素含有ガスによる処理を施すことが適当である。表面を増感させるに十分な程度に酸素イオンを表面に注入させる適当ないずれの処理法でも採用することができる。好ましくは、不活性ガス(特にアルゴン)と酸素の混合物を適宜使用する反応性グロー放電処理を表面に施す。表面をクリーンルーム環境にある真空装置の中に置くことができる。次いで、その表面に、酸素を適宜5〜15%含有する酸素と稀ガスの混合物を使用して反応性グロー放電処理を施す。好ましい処理は、アルゴン(90%)と酸素(10%)の混合物を使用するものである。処理時間は1〜5分が適当であり、中でも2分が好ましい。この処理工程に先立ち、チャンバーをポンプ排気して高真空にしておくことが適当である。有機物蒸気は少量であるか無視できることが適当である。
【0010】
前処理において、反応性グロー放電処理の完了後、ガラス表面に薄い予備金属層を適宜付着させて銀層のためのベースを形成する。この予備層は、チタン、ニッケル及び/又はクロムを主成分に適宜含むが、好ましくはこれら金属の1種(好ましくはニッケル)から実質的に成る。予備層は電子ビーム源を用いて適宜付着される。予備層の厚さは20〜40Å、好ましくは20〜30Å、とりわけ25〜30Åの範囲にあることが適当である。
【0011】
何らかの前処理が完了した時点で、適切には予備金属層の形成後まもなく、好ましくは形成直後に、予備金属層の上に銀層を付着させる。銀層の厚さは、適切には500〜600Åの範囲内、好ましくは520Åである。これが最適なSPR応答を与えることがわかった。銀層の付着は、低速、好ましくは0.5〜5.0Å/秒、特に1.0Å/秒で行うことが適切である。
【0012】
銀層を付着させた後にアニール工程を実施する。アニール工程は銀層の付着直後に実施することが好ましいが、中間に1又は2以上の工程が介在することを除外するものではない。
【0013】
【実施例】
本発明を以下の実施例で説明する。
【0014】
Pilkingtons Glass 社(St Helens, England)から入手した1枚の「PERMASHEET」(商標)ガラスをフレオン(商標)液によって超音波処理した後、フレオン蒸気乾燥して縞マークを除いて洗浄した。
【0015】
次いで、洗浄後のシートをクリーンルーム環境中の真空装置内に配置し、そして油分を含まない環境中で約10-7ミリバールまで排気した。次いで、アルゴンを90%、酸素を10%含むガス混合物を用いて反応性グロー放電処理を2分間施した。この処理は、少量のガス混合物を装置内に入れて、電極に300Vの電圧を2分間印加しながら20〜60ミクロンの圧力においてポンプ排気することによって行った。この処理の結果、酸素イオンはガラス表面に注入してそれを増感させるに十分なエネルギーを有する。用いた装置は、Sycon コントローラーを具備したTelemark 4 るつぼ式電子銃蒸発(e-gun evaporation) によるTemescale 2550コーティング装置とした。
【0016】
反応性グロー放電処理後、装置を約10-7ミリバールまで再排気した。次いで、電子ビーム源を使用してガラス表面にMaterials Research社(MCR) 製の純度99.9%のインゴットからニッケルの薄層を付着した。典型的なビーム電流は10KeV のエネルギーにおいて60mAとした。層の厚さは25〜30Åであった。蒸着時間は1Å/秒において25〜30秒とした。
【0017】
ニッケル層を付着した直後に同じ技法でMCR製の純度99.9%のインゴットから銀層を付着した。典型的なビーム電流は10KeV において50mAとした。銀層の厚さは520Åであった。蒸着時間は1Å/秒において8.5分とした。
【0018】
銀層を付着した後、その被覆されたガラス表面をチャンバー内に配置し、それに150℃の赤外線加熱を4時間施すことによってアニール工程を実施した。
【0019】
得られた銀被覆ガラス表面は非常に適切なSPR応答を示した。図1は、アッセイ材料を金表面から除去した約410Åの金(光学濃度で測定)を有する典型的な市販のスライドの空気SPRを示すものである。図2は、光学濃度によって測定したアンダーレイを含む約560Åの銀による本発明の方法によって調製されたスライド及び空気SPRを示すものである。これらの図から、本発明によって得られる特性が優れており、曲線において尖鋭でより明確な最小値を与えることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【図1】常用の市販のSPR装置について斜めの位置に対する光透過率を示すグラフである。
【図2】本発明の実施例の装置について斜めの位置に対する光透過率を示すグラフである。

Claims (9)

  1. 銀層を含む金属フィルムを表面に付着させる表面プラスモン共鳴分析用担体の製造方法において、前記銀層を付着させた後前記フィルムに、125〜175℃の温度範囲内で加熱するアニール工程を施すことを特徴とする前記製造方法。
  2. 前記アニール工程の際に前記フィルムを1.5〜4時間の時間範囲内で加熱することを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  3. 前記表面が二酸化珪素表面層で被覆されたガラスであることを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
  4. 前記銀層の厚さが500〜600Åの範囲内にあることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 前記銀層の前にチタン、ニッケル及び/又はクロムを主成分とする予備金属層を付着させることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
  6. 前記予備金属層をニッケルから形成することを特徴とする、請求項5に記載の方法。
  7. 前記予備金属層の厚さが20〜40Åの範囲内にあることを特徴とする、請求項5又は6に記載の方法。
  8. 前記銀層の付着前に、前記表面に、洗浄工程、反応性グロー放電処理工程及びその後の予備金属層の付着工程を含む前処理を施すことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
  9. 前記反応性グロー放電処理が酸素を5〜15%含有する酸素とアルゴンの混合物を使用することを特徴とする、請求項8に記載の方法。
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