JP2016173588A - 電子機器 - Google Patents

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舜平 山崎
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Jun Koyama
潤 小山
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Yasuyuki Arai
康行 荒井
郁子 川俣
Ikuko Kawamata
郁子 川俣
厚 宮口
Atsushi Miyaguchi
厚 宮口
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Yoshitaka Moriya
芳隆 守屋
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Abstract

【課題】可撓性を有するパネルを取り扱う際に、駆動回路が壊れることを低減する電子書
籍を提供することを目的の一とする。または、構造を簡略化した電子書籍を提供すること
を目的の一とする。
【解決手段】走査線駆動回路及び信号線駆動回路により表示制御が行われる表示部を有す
る複数の可撓性の表示パネルと、複数の表示パネルを固定する綴じ部とを有し、綴じ部の
内側に信号線駆動回路を設け、表示パネルにおいて綴じ部と垂直方向の端部に走査線駆動
回路を設ける。
【選択図】図1

Description

技術分野は、電子書籍に関する。
近年、デジタル化技術の進歩に伴い、新聞、雑誌などの文字情報や画像情報を電子データ
として提供するという提供態様が採られるようになっている。この種の電子データは、一
般に、PCなどが備える表示装置に表示されることで、その内容が閲覧されるという特徴
を有している。
上述の電子データを表示する表示装置としては、設置型の表示装置以外に携帯型のものが
存在する。携帯型の表示装置としては、電子書籍が代表的である。電子書籍は通常、本体
前面に表示部を備え、本体外周部に備えられたページの切替キーを操作することで次ペー
ジや前ページのデータを表示部に表示する構成が採用されている。
しかしながら、このような構成を採用した電子書籍は、新聞、雑誌などの紙媒体とは取り
扱い方が大きく異なっている。特に、キー操作でページの切替を行うという行為は、紙媒
体の書籍の取り扱い習慣からはかけ離れたものである。このため、このような取り扱い方
の違いに起因して、文字の読み取り効率や文章理解の効率、画像の認識効率などが低下す
るという問題がある。
上述の紙媒体との相違点を解消すべく、両面表示装置を用いた電子書籍が提案されている
(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。
特開2005−38608号公報 特開2003−58081号公報
開示する発明の一態様では、可撓性を有するパネルを取り扱う際に、駆動回路が壊れるこ
とを低減する電子書籍を提供することを目的の一とする。または、開示する発明の一態様
では、構造を簡略化した電子書籍を提供することを目的の一とする。
開示する発明の一態様は、走査線駆動回路及び信号線駆動回路により表示制御が行われる
表示部を有する複数の可撓性の表示パネルと、複数の表示パネルを固定する綴じ部とを有
し、綴じ部には、信号線駆動回路が設けられ、表示パネルには、綴じ部と垂直方向の端部
に走査線駆動回路が設けられている電子書籍である。
開示する発明の一態様において、走査線駆動回路及び信号線駆動回路はトランジスタを有
し、走査線駆動回路を構成するトランジスタと信号線駆動回路を構成するトランジスタの
構造が異なる電子書籍でもよい。
開示する発明の一態様において、走査線駆動回路を構成するトランジスタのチャネル層は
、非単結晶半導体であり、信号線駆動回路を構成するトランジスタのチャネル層は、単結
晶半導体である電子書籍でもよい。
開示する発明の一態様において、非単結晶半導体は、アモルファスシリコン、微結晶シリ
コン、ポリシリコン又は酸化物半導体である電子書籍でもよい。
開示する発明の一態様において、表示部はトランジスタを有し、且つ表示部を構成するト
ランジスタと走査線駆動回路を構成するトランジスタのチャネル層が同じ材料で設けられ
ている電子書籍でもよい。
開示する発明の一態様において、綴じ部は、信号線駆動回路に加えて、バッテリー、アン
テナ、CPU、メモリのいずれか一を有する電子書籍でもよい。
開示する発明の一態様において、走査線駆動回路は、複数の回路部を有し、複数の回路部
は互いに離間して設けられている電子書籍でもよい。
開示する発明の一態様において、複数の回路部の間に応力集中領域を有する電子書籍でも
よい。
開示する発明の一態様において、複数の表示パネルは、第1の表示部を有する第1の表示
パネルと、第2の表示部を有する第2の表示パネルと、第1の表示パネルと第2の表示パ
ネルの間に設けられ、第1の面に第3の表示部を有し且つ第1の面と反対側の第2の面に
第4の表示部を有する第3の表示パネルとを有し、第3の表示パネルは、第1の表示パネ
ル及び第2の表示パネルより曲がりやすい電子書籍でもよい。
開示する発明の一態様において、第1の表示パネルは、第1の表示部及び第3の表示部の
表示の有無を制御する第1の光センサを有し、第2の表示パネルは、第2の表示部及び第
4の表示部の表示の有無を制御する第2の光センサを有し、第3の表示パネルは、第1の
光センサ及び第2の光センサと重なる領域に遮光部を有する電子書籍でもよい。
また、本明細書等において半導体装置とは、半導体特性を利用することで機能しうる装置
全般を指し、電気光学装置、半導体回路および電子機器は全て半導体装置に含まれる。
また、本明細書等において表示装置とは、発光装置や液晶表示装置を含む。発光装置は発
光素子を含み、液晶表示装置は液晶素子を含む。発光素子は、電流または電圧によって輝
度が制御される素子をその範疇に含んでおり、具体的には無機EL(Electro L
uminescence)素子、有機EL素子等がある。
開示する発明の一態様によれば、駆動回路が壊れることを低減し丈夫な電子書籍を提供す
ることができる。
開示する発明の一態様によれば、構造を簡略化し電子書籍の低コスト化することができる
電子書籍の一形態を説明する図である。 電子書籍の一形態を説明する図である。 電子書籍の一形態を説明する図である。 電子書籍の一形態を説明する図である。 電子書籍の綴じ部内に構成される回路の一形態を説明する図である。 電子書籍の一形態を説明する図である。 電子書籍の一形態を説明する図である。 電子書籍の一形態を説明する図である。 電子書籍の一形態を説明する図である。 電子書籍の一形態を説明する図である。 電子書籍の一形態を説明する図である。 電子書籍の一形態を説明する図である。 電子書籍の一形態を説明する図である。 電子書籍の一形態を説明する図である。 電子書籍の一形態を説明する図である。 電子書籍の一形態のブロック図を説明する図である。 表示パネルの一形態を説明する図である。 表示パネルの一形態を説明する図である。 表示パネルの一形態を説明する図である。 表示パネルの一形態を説明する図である。 電子書籍に適用できるトランジスタの一形態を説明する図である。 表示パネルの一形態を説明する図である。
以下、実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、発明は以下に示す実施
の形態の記載内容に限定されず、本明細書等において開示する発明の趣旨から逸脱するこ
となく形態および詳細を様々に変更し得ることは当業者にとって自明である。また、異な
る実施の形態に係る構成は、適宜組み合わせて実施することが可能である。なお、以下に
説明する発明の構成において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号を
用い、その繰り返しの説明は省略する。
なお、各実施の形態の図面等において示す各構成の、大きさ、層の厚さ、又は領域は、明
瞭化のために誇張されて表記している場合がある。よって、必ずしもそのスケールに限定
されない。
なお、本明細書にて用いる「第1」、「第2」、「第3」等などの用語は、構成要素の混
同を避けるために付したものであり、数的に限定するものではないことを付記する。
(実施の形態1)
本実施の形態では、電子書籍の一例について、図面を参照して説明する。
本実施の形態で示す電子書籍は、走査線駆動回路及び信号線駆動回路により表示制御が行
われる表示部を有する複数の表示パネルと、当該複数の表示パネルを固定する綴じ部とを
有し、綴じ部の内側に信号線駆動回路が設けられ、複数の表示パネルにそれぞれ走査線駆
動回路が設けられている。
図1は、複数の表示パネルを有する電子書籍の一例として、2枚の表示パネル(第1の表
示パネル4311と第2の表示パネル4312)の端部に綴じ部4308を設けて書籍と
する場合を示している。以下に図1を参照して、第1の表示パネルと第2の表示パネルか
ら構成される電子書籍について、具体的に説明する。なお、図1(A)は電子書籍を開い
た状態を示し、図1(B)は電子書籍を閉じた状態を示し、図1(C)は電子書籍を半分
開いた状態を示している。
図1に示す電子書籍は、第1の表示部4301を有する第1の表示パネル4311と、第
2の表示部4307を有する第2の表示パネル4312と、第1の表示パネル4311と
第2の表示パネル4312の一端部に設けられた綴じ部4308と、第1の表示部430
1の表示制御を行う走査線駆動回路4321a、4321bと、第2の表示部4307の
表示制御を行う走査線駆動回路4322a、4322bと、第1の表示部4301及び第
2の表示部4307の表示制御を行う信号線駆動回路4323とを有している。
走査線駆動回路4321a、4321bは第1の表示パネル4311に設けられ、走査線
駆動回路4322a、4322bは第2の表示パネル4312に設けられ、信号線駆動回
路4323は綴じ部4308の内部に設けられている。
第1の表示パネル4311は、可撓性を有する構成とすることができる。この場合、プラ
スチック等の可撓性を有する基板上に第1の表示部4301を構成する画素回路と、走査
線駆動回路4321a、4321bを設ければよい。
第2の表示パネル4312も、第1の表示パネル4311と同様に可撓性を有する構成と
することができる。この場合も、プラスチック等の可撓性を有する基板上に第2の表示部
4307を構成する画素回路と、走査線駆動回路4322a、4322bを設ければよい
綴じ部4308は、少なくとも第1の表示パネル4311及び第2の表示パネル4312
より曲がりにくい(剛性が高い)構成とすることが好ましい。一例として、綴じ部430
8を構成する筐体を、第1の表示パネル4311及び第2の表示パネル4312より厚い
プラスチックや金属等で形成することができる。この場合、電子書籍を綴じ部4308以
外の部分で曲がる(湾曲する)構成とすることができる。
綴じ部4308を設ける場所は特に限定されないが、一例として、第1の表示パネル43
11及び第2の表示パネル4312の一端部に沿って綴じ部4308を設けることができ
る。例えば、図1に示すように、第1の表示パネル4311及び第2の表示パネル431
2を矩形状とする場合には、所定の一辺に沿って(一辺を固定するように)綴じ部430
8を設けることができる。なお、ここでいう矩形状とは、角部が丸まっている場合も含む
ものとする。
信号線駆動回路4323は、綴じ部4308の内部に設けられる。例えば、綴じ部430
8を中空を有する柱状または円柱状の筐体で設け、当該中空部分に信号線駆動回路432
3を設けることができる。信号線駆動回路4323を綴じ部4308の内部に設けること
により、表示パネルの曲げに起因する信号線駆動回路4323の破損を防止できる。
また、図1に示すように、走査線駆動回路4321a、4321bを、第1の表示パネル
4311において、綴じ部4308と概略垂直方向の端部に設けることが好ましい。同様
に、走査線駆動回路4322a、4322bを、第2の表示パネル4312において、綴
じ部4308と概略垂直方向の端部に設けることが好ましい。これにより、走査線駆動回
路及び信号線駆動回路を一箇所(例えば、綴じ部4308の内部)に設ける場合と比較し
て、配線の引き回しを低減し、構造を簡略化することができる。
また、走査線駆動回路4321a、4321bと第1の表示部4301を構成する画素回
路を同じプロセスで可撓性を有する基板上に形成することにより、走査線駆動回路432
1a、4321bの湾曲を可能とすると共に、低コスト化を図ることができる。同様に、
走査線駆動回路4322a、4322bと第2の表示部4307を構成する画素回路を同
じプロセスで可撓性を有する基板上に形成することにより、走査線駆動回路4322a、
4322bの湾曲を可能とすると共に、低コスト化を図ることができる。
第1の表示部4301を構成する画素回路、第2の表示部4307を構成する画素回路及
び走査線駆動回路4321a、4321b、4322a、4322bを構成する素子とし
ては、薄膜トランジスタ等で形成することができる。一方で、信号線駆動回路4323等
の高速動作する回路は、珪素(シリコン)等の半導体基板やSOI基板を用いて形成され
たIC(Integrated Circuit)を用いて形成し、当該ICを綴じ部4
308の内部に設けることができる。
このように、信号線駆動回路等の高速動作させる回路が形成されたICを綴じ部の内部に
設け、走査線駆動回路と表示部を構成する画素回路を可撓性を有する基板上に薄膜トラン
ジスタ等の素子で形成することにより、信号線駆動回路及び走査線駆動回路をICで設け
る場合と比較して、表示パネルを曲げることを容易にする共に表示パネルの曲げに起因す
るICの破壊を抑制し、さらに低コスト化を図ることができる。また、走査線駆動回路を
、表示パネルにおいて綴じ部と垂直方向の端部に設けることにより、配線の引き回しを抑
止し構造を簡略化することができる。
なお、図1では、走査線駆動回路を第1の表示パネル4311の両端部に形成する場合を
示したが、一方の端部にのみ(走査線駆動回路4321aと走査線駆動回路4321bの
いずれか一方のみ)設ける構成としてもよい。同様に、走査線駆動回路を第2の表示パネ
ル4312の両端部に形成する場合を示したが、一方の端部にのみ設ける構成としてもよ
い。
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能
である。
(実施の形態2)
本実施の形態では、上記図1に示した電子書籍の具体的な構成について、図面を参照して
説明する。なお、本実施の形態で示す構成は多くの部分で上記実施の形態1と共通してい
る。したがって、以下においては、重複する部分の説明は省略し、異なる点について詳細
に説明する。
まず、電子書籍の具体的な構成の一例について、図2を参照して説明する。なお、図2(
A)は電子書籍を閉じた状態での平面図を示し、図2(B)は図2(A)のA−B間の断
面を示し、図2(C)は断面の詳細な模式図を示している。
図2に示す電子書籍は、綴じ部4308が中空を有する筐体で形成され、当該筐体の内部
に信号線駆動回路4323が設けられている。ここでは、信号線駆動回路4323がIC
で形成され、当該ICが綴じ部4308の内部に設けられている。ICは、シリコン等の
半導体基板やSOI基板等を用いて形成することができる。もちろん、信号線駆動回路以
外の回路(例えば、CPU、メモリ等)をICに設けることができる。
また、図2では、綴じ部4308の内部に設けられるICを、TAB(Tape Aut
omated Bonding)方式を用いてFPC(Flexible Printe
d Circuit)に実装する場合を示している。
より具体的には、第1の表示部4301を制御する信号線駆動回路4323aがFPC4
324a上に設けられ、第2の表示部4307を制御する信号線駆動回路4323bがF
PC4324b上に設けられ、信号線駆動回路4323aと信号線駆動回路4323bが
プリント基板4325を介して電気的に接続されている。FPC4324aは第1の表示
パネル4311及びプリント基板4325と電気的に接続され、FPC4324bは第2
の表示パネル4312及びプリント基板4325と電気的に接続されている。
また、図2において、プリント基板4325を綴じ部4308を構成する筐体に接して設
けることができる。この場合、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312が
綴じ部4308により固定される。
図2に示すように、FPC上に信号線駆動回路を設ける場合、第1の表示パネル4311
と第2の表示パネル4312の一方又は双方に応力集中領域4326を設けることが好ま
しい。応力集中領域4326を表示パネルに設けることにより、電子書籍を開く場合(第
1の表示パネル4311及び/又は第2の表示パネル4312を折り曲げる場合)にFP
Cに加わる応力を低減し、FPC上に設けられた信号線駆動回路の破壊を抑制することが
できる。
なお、応力集中領域とは、切り込み等による部材の変形や、部材の貼付等による曲げ、延
びに対する強度の変更により形成される、応力の集中する領域のことをいう。具体的には
、第1の表示パネル4311又は第2の表示パネル4312の折り曲げたい部分に、切り
込み部(凹部、溝)を設けることにより応力集中領域4326を形成することができる。
例えば、第1の表示パネル4311を、素子基板4331aと封止基板4332aを用い
て形成し、素子基板4331aと封止基板4332aの一方又は双方に切り込み部を設け
た構成とすることができる。図2では、封止基板4332aに切り込み部を設けることに
より応力集中領域4326を形成する場合を示している。また、ここで示す構造において
、素子基板4331aには第1の表示部4301を駆動する画素回路と走査線駆動回路4
321a、4321bを形成し、これらの回路とFPC4324aを電気的に接続するこ
とができる。
同様に、第2の表示パネル4312を、素子基板4331bと封止基板4332bを用い
て形成し、素子基板4331bと封止基板4332bの一方又は双方に入り込み部を設け
た構成とすることができる。なお、素子基板4331bには第2の表示部4307を駆動
する画素回路と走査線駆動回路4322a、4322bを形成し、これらの回路とFPC
4324bを電気的に接続することができる。
また、応力集中領域4326は、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312
を折り曲げたい方向に沿って設ければよい。例えば、図2(A)において、綴じ部430
8に概略平行な方向に沿って第1の表示パネル4311及び/又は第2の表示パネル43
12の上端から下端まで切り込み部を設けることにより、表示パネルを折り曲げる方向を
制御できる(綴じ部4308と垂直な方向に表示パネルを選択的に折り曲げることができ
る)と共に、FPC上に設けられた信号線駆動回路の破壊を抑制することができる。
応力集中領域4326は、綴じ部4308の内部又は外部に設けることができる。例えば
、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312を閉じた状態において、綴じ部
4308を第1の表示パネル4311又は第2の表示パネル4312に接するように設け
る場合には、綴じ部4308の外側(例えば、綴じ部4308と表示部との間)に応力集
中領域4326を設けることが好ましい。
図2では、第1の表示部4301を制御する信号線駆動回路4323aと第2の表示部4
307を制御する信号線駆動回路4323bを別々のICを用いて形成し、プリント基板
4325を介して信号線駆動回路4323aと信号線駆動回路4323bを電気的に接続
する場合を示しているがこれに限られない。信号線駆動回路4323aと信号線駆動回路
4323bを1つのICに作り込んだ構成としてもよい。
次に、図2と異なる電子書籍の構成について、図3を参照して説明する。図3(A)は電
子書籍を閉じた状態での平面図を示し、図3(B)は図3(A)のA−B間の断面を示し
、図3(C)は断面の詳細な模式図を示している。
図3は、綴じ部4308に設けられるICを、COG(Chip On Glass)方
式を用いて、第1の表示パネル4311、第2の表示パネル4312に実装する場合を示
している。
より具体的に説明すると、第1の表示部4301を制御する信号線駆動回路4323aが
第1の表示パネル4311を構成する素子基板4331a上に設けられ、第2の表示部4
307を制御する信号線駆動回路4323bが第2の表示パネル4312を構成する素子
基板4331b上に設けられ、信号線駆動回路4323aと信号線駆動回路4323bが
FPC4324a、4324b及びプリント基板4325を介して電気的に接続されてい
る。
図3に示すように、表示パネル上に信号線駆動回路を設ける場合、上記図2と同様に、第
1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312の一方又は双方に応力集中領域43
26を設けることが好ましい。この場合、応力集中領域4326は、信号線駆動回路が設
けられた領域と異なる領域(信号線駆動回路が設けられた領域を避けた領域)に設ける。
例えば、封止基板側に設けることにより、電子書籍を開く場合(第1の表示パネル431
1又は第2の表示パネル4312を折り曲げる場合)に信号線駆動回路に加わる応力を低
減し、信号線駆動回路の破壊を抑制することができる。
次に、図2、図3と異なる電子書籍の構成について、図4を参照して説明する。図4(A
)は電子書籍を閉じた状態での平面図を示し、図4(B)は図4(A)のA−B間の断面
を示し、図4(C)は断面の詳細な模式図を示している。
図4に示す電子書籍は、信号線駆動回路等の回路が形成されたICをプリント基板に設け
、当該プリント基板と表示パネルをFPCを用いて接続する場合を示している。
より具体的に説明すると、第1の表示部4301を制御する信号線駆動回路4323aが
プリント基板4327a上に設けられ、第2の表示部4307を制御する信号線駆動回路
4323bがプリント基板4327b上に設けられ、信号線駆動回路4323aと信号線
駆動回路4323bがFPC4329を介して電気的に接続されている。FPC4329
はプリント基板4327aとプリント基板4327bに電気的に接続され、FPC432
4aは第1の表示パネル4311及びプリント基板4327aと電気的に接続され、FP
C4324bは第2の表示パネル4312及びプリント基板4327bと電気的に接続さ
れている。
図4では、表示パネルの折り曲げをFPC4324a、FPC4324bで行うことがで
きるため、第1の表示パネル4311、第2の表示パネル4312に応力集中領域を設け
ない構成とすることができる。
次に、綴じ部4308と当該綴じ部4308に設けることができる回路の構成の一例につ
いて、図5を参照して説明する。
図5では、綴じ部4308に信号線駆動回路を含む表示制御部200を内蔵する場合につ
いて説明する。これらの回路は、上述したようにシリコン等の半導体基板やSOI基板を
用いて形成されたICを用いて形成することができる。
表示制御部200は、CPU201、記憶部203、給電部205、電源供給回路207
、映像信号発生回路215、信号線駆動回路4323a、4323b、操作部219等を
有する構成とすることができる。また、各構成はインターフェース等を介して接続するこ
とができる。また、表示制御部200は、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル
4312と電気的に接続されている。ここでは、操作部219を綴じ部4308に設ける
場合を示しているが、操作部219を第1の表示パネル4311及び/又は第2の表示パ
ネル4312上に設けることもできる。
CPU201は、電子書籍全体の動作を制御する。
データ入力部211は、外部機器から第1の表示部4301及び/又は第2の表示部43
07で表示する情報が入力される。なお、データ入力部211は、外部機器とのデータの
送受信を行うために、アンテナ216を有してもよい。この場合、データ入力部211は
、アンテナ216で受信したデータや記録媒体(外部メモリ213)に記憶されたデータ
を内部メモリ209に転送する機能を有する。
記憶部203は、内部メモリ209、データ入力部211及び外部メモリ213を有する
構成とすることができる。内部メモリ209、データ入力部211及び外部メモリ213
には、第1の表示部4301及び第2の表示部4307に表示する情報や電子書籍を動作
させるプログラム等を記録することができる。
内部メモリ209は、給電部205、操作部219等からの信号に基づいて映像信号発生
回路215及び/または電源供給回路207に出力する信号をCPU201で処理するた
めのプログラムや、データ入力部211から転送されるデータ等を記憶する記憶部を有す
る。内部メモリ209の一例として、DRAM(Dynamic Random Acc
ess Memory)、SRAM(Static Random Access Me
mory)、マスクROM(Read Only Memory)、PROM(Prog
rammable Read Only Memory)等で構成されるものである。
外部メモリ213としては、ICカード、メモリカード等の記憶媒体がある。
給電部205は、2次電池、キャパシタ等で構成される。二次電池としては、例えばリチ
ウム電池、好ましくはゲル状電解質を用いるリチウムポリマー電池、リチウムイオン電池
等を用いることで、小型化が可能である。勿論、充電可能な電池であればなんでもよく、
ニッケル水素電池、ニカド電池、有機ラジカル電池、鉛蓄電池、空気二次電池、ニッケル
亜鉛電池、銀亜鉛電池などの充電放電可能な電池であってもよい。キャパシタとしては、
電気二重層キャパシタ、リチウムイオンキャパシタや他の大容量のキャパシタなどを用い
ることができる。キャパシタは、充放電の回数が増えても劣化が小さく、急速充電特性に
も優れているため好適である。給電部205の形状としては、シート状、円柱状、角柱状
、板状、コイン状等を適宜選択すればよい。
また、給電部205を、無線により電力が供給される構成とすることができる。この場合
、給電部205にアンテナを設ければよい。
電源供給回路207は、CPU201の制御に応じて、第1の表示パネル4311及び第
2の表示パネル4312の表示、非表示を行うために、表示素子への電源供給を制御する
ための回路である。
操作部219は、キーボード、操作ボタン等で設けることができる。また、操作部219
を第1の表示パネル4311及び/又は第2の表示パネル4312に設ける場合には、第
1の表示部4301及び/又は第2の表示部4307をタッチディスプレイとして、該表
示部を操作部としても機能させることができる。
図5では、綴じ部4308に表示制御部200を内蔵した構成を示したが、さらにスイッ
チング電源やDC−DCコンバータ等のいわゆるパワーデバイスを設けてもよい。
また、図5に示した電子書籍では、操作部219を操作することにより、電源入力や表示
切り替えを行うことができる。また、第1の表示部4301及び/又は第2の表示部43
07をタッチディスプレイとして、第1の表示部4301や第2の表示部4307に指や
入力ペンなどで触れることにより操作する構成としてもよい。
このように、表示制御部200を綴じ部4308に内蔵することで、表示制御部200を
筐体で保護することができる。また、電子書籍を薄型にすることができる。
なお、実施の形態1、2では、第1の表示パネル4311において、走査線駆動回路43
21a、4321bを、綴じ部4308の垂直方向であって第1の表示部4301に沿っ
て設け、第2の表示パネル4312において、走査線駆動回路4322a、4322bを
、綴じ部4308の垂直方向であって第2の表示部4307に沿って設ける場合を示した
が、これに限られない。
例えば、図6(A)に示すように、第1の表示パネル4311において、走査線駆動回路
4321a、4321bを第1の表示部4301と比較して綴じ部4308から離間する
ように設けることができる。一般的に、走査線駆動回路4321a、4321bを構成す
る素子は、画素回路を構成する素子より集約して設けられるため、第1の表示パネル43
11が折り曲げられる部分に走査線駆動回路4321a、4321bを設けないことによ
り、走査線駆動回路4321a、4321bの破損を抑制することができる。
また、図6(B)、(C)に示すように、走査線駆動回路4321a、4321bをそれ
ぞれ複数の回路部に分割して設け、複数の回路部を互いに離間して設けることができる。
これにより、第1の表示パネル4311を湾曲させた場合であっても、走査線駆動回路4
321a、4321bに加わる応力を低減し、走査線駆動回路4321a、4321bの
破損を抑制することができる。図6(B)は、走査線駆動回路4321a、4321bを
それぞれ2つの回路部に分割して設け、図6(C)は、走査線駆動回路4321a、43
21bをそれぞれ4つの回路部に分割して設ける場合を示しているが、走査線駆動回路を
分割する数はこれに限られない。
また、図6(D)に示すように、第1の表示パネル4311において、一方の端部にのみ
(走査線駆動回路4321aと走査線駆動回路4321bのいずれか一方のみ)設ける構
成としてもよい。これにより、電子書籍の狭額縁化を図ることが可能となる。
なお、図6で示した構造は、第2の表示パネル4312にも適用することができる。
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能
である。
(実施の形態3)
本実施の形態では、複数の可撓性の表示パネルを有する電子書籍を見開きにし、湾曲させ
て使用する際に関し、上記実施の形態の作用効果について一例を示し、図7乃至図10を
参照して説明する。
はじめに、図7(A)において、ユーザが電子書籍を見開きにして使用した際の正面平面
図、図7(B)において、ユーザが電子書籍を見開きにして使用した際の上面平面図、に
ついて示し説明する。
図7(A)に示す電子書籍は、第1の表示パネル4311、第2の表示パネル4312、
綴じ部4308を有する。第1の表示パネル4311は、第1の表示部4301を有し、
第1の表示部4301は、第1の表示部4301に走査信号を供給する走査線駆動回路4
321、第1の表示部4301に画像信号を供給する信号線駆動回路4323aによって
表示の制御が行われることとなる。また第2の表示パネル4312は、第2の表示部43
07を有し、第2の表示部4307は、第2の表示部4307に走査信号を供給する走査
線駆動回路4322、第2の表示部4307に画像信号を供給する信号線駆動回路432
3bによって表示の制御が行われることとなる。また図7(A)では、ユーザの手435
0a、4350bによって第1の表示パネル4311及び第2の表示パネル4312の端
部を握持する様子について併せて図示している。また図7(A)に示す正面平面図では、
図7(B)に示す上面平面図を見る際の視線について併せて付記している。
図7(B)に示す上面平面図は、第1の表示パネル4311、第2の表示パネル4312
、綴じ部4308を示している。図7(B)に示すように、ユーザが手4350a、43
50bで電子書籍を見開きにして使用する際、可撓性を有する表示パネルには、図中Cに
示す矢印の範囲に折曲部(以下、折曲部Cという)、図中Dに示す矢印の範囲に非折曲部
(以下、非折曲部Dという)形成されることとなる。
なお図7(B)では、一例として、第1の表示パネル4311、第2の表示パネル431
2の折曲部C、非折曲部Dについて、綴じ部4308に近接する側を折曲部Cとし、綴じ
部4308から離れた側を非折曲部Dとして説明している。折曲部C、非折曲部Dの位置
は、綴じ部4308の構成及び表示パネルを構成する基板の材質に応じて、表示パネルの
湾曲の仕方が異なるものである。そのため、第1の表示パネル4311、第2の表示パネ
ル4312の折曲部C、非折曲部Dについて、綴じ部4308から離れた側が折曲部Cと
なり、綴じ部4308に近接する側が非折曲部Dとなることもある。
なお電子書籍は、綴じ部4308によって表示パネルを固定する構成であるため、綴じ部
4308の延在する方向と垂直方向(図7(B)中矢印7002)となる第1の表示パネ
ル4311及び第2の表示パネル4312に折曲部C、非折曲部Dが形成されることとな
る。そのため、信号線駆動回路4323a、信号線駆動回路4323bは、綴じ部430
8によって、表示パネルの曲げに起因する破損を防止できる。また走査線駆動回路432
1、走査線駆動回路4322を表示パネルの垂直方向の端部に設けることにより表示部と
同プロセスで作製することも可能になるため、低コスト化を図ることができ、綴じ部43
08に設ける場合と比較して表示部への配線の引き回しを低減できる。なお折曲部C、非
折曲部Dは、複数形成されても良いし、交互に形成されていてもよい。また表示パネルに
応力集中領域を設け、人為的に折曲部C、非折曲部Dを形成してもよい。
次いで、図8(A)乃至(C)では、図7(A)と同様に、電子書籍を見開きにして使用
した際の正面平面図を示し、折曲部C及び非折曲部Dに対する、走査線駆動回路4321
、走査線駆動回路4322の配置について説明する。
図8(A)では、綴じ部4308に近接する側を折曲部Cとし、綴じ部4308から離れ
た側を非折曲部Dとして説明している。そのため、走査線駆動回路4321、走査線駆動
回路4322は、それぞれ綴じ部4308から離れた側の非折曲部Dに設けるようにする
。なお、表示部における画素TFT4352への走査信号の供給は、走査線駆動回路43
21、走査線駆動回路4322から延びる配線を表示部の各走査線に引き回すことによっ
て行えばよい。なお走査線駆動回路4321、走査線駆動回路4322を駆動するための
クロック信号等の制御信号の供給は、綴じ部4308内の映像信号発生回路から延びる配
線を通して行われる。回路間の電気的な接続を行うための配線は、金属膜等の微細加工に
より形成されており、走査線駆動回路を構成するトランジスタの半導体膜は、珪素膜等の
半導体材料で形成される。金属膜は半導体材料に比べ、延性に優れ、湾曲によるダメージ
が小さい。そのため、折曲部Cにあたる箇所に走査線駆動回路に接続される配線を配設し
、非折曲部Dにあたる箇所に走査線駆動回路を構成するトランジスタを配設することによ
り、湾曲によるトランジスタの半導体膜へのダメージを小さくすることができる。その結
果、図8(A)のように走査線駆動回路4321、走査線駆動回路4322を配置するこ
とで、ユーザが手4350a、4350bで電子書籍を見開きにして使用する際、回路の
破損を抑制することができる。
図8(B)では、綴じ部4308に近接する側から離れた側に向けて折曲部Cと非折曲部
Dとを交互に設ける構成について示している。そのため、走査線駆動回路4321、走査
線駆動回路4322の配置は、非折曲部Dにおいて、それぞれの駆動回路を複数に分割し
、互いに離間して設けるようにする。なお、表示部における画素TFT4352への走査
信号の供給は、第1の走査線駆動回路4321、第2の走査線駆動回路4322から延び
る配線を引き回すことによって行えばよい。なお走査線駆動回路4321、走査線駆動回
路4322を駆動するためのクロック信号等の制御信号の供給は、綴じ部4308内の映
像信号発生回路から延びる配線を通して行われる。また、走査線駆動回路を構成するフリ
ップフロップ等のパルス信号生成回路間を伝搬する信号の供給は、配線を通して行われる
。回路間の電気的な接続を行うための配線は、金属膜等の微細加工により形成されており
、走査線駆動回路を構成するトランジスタの半導体膜は、珪素膜等の半導体材料で形成さ
れる。金属膜は半導体材料に比べ、延性に優れ、湾曲によるダメージが小さい。そのため
、折曲部Cにあたる箇所に走査線駆動回路に接続される配線を配設し、非折曲部Dにあた
る箇所に走査線駆動回路を構成するトランジスタを配設することにより、湾曲によるトラ
ンジスタの半導体膜へのダメージを小さくすることができる。また図8(B)では、駆動
回路を複数に分割し、互いに離間して設けており、湾曲させた際に走査線駆動回路に掛か
る応力を分散させることが出来る。その結果、図8(B)のように走査線駆動回路432
1、走査線駆動回路4322を配置することで、ユーザが手4350a、4350bで電
子書籍を見開きにして使用する際、より効果的に、回路の破損を抑制することができる。
なお、図8(B)において、走査線駆動回路4321、走査線駆動回路4322を表示部
の上下に、走査線駆動回路4321a、走査線駆動回路4321b、走査線駆動回路43
22a、走査線駆動回路4322bとして配置し、冗長化する構成、または走査信号を出
力する機能を分散させる構成としてもよい。図8(C)では、図8(B)で説明した構成
を表示パネルの上下に配置した図である。画素TFT4352に供給する走査信号を、走
査線駆動回路4321aと走査線駆動回路4321bを上下に、及び走査線駆動回路43
22aと走査線駆動回路4322bを上下に配置して供給することで、走査線駆動回路を
構成するフリップフロップ等のパルス信号生成回路を削減することができるため、ユーザ
が手4350a、4350bで電子書籍を見開きにして使用する際、回路の破損を抑制す
ることができる。
以上図8(B)、(C)では、具体的な一例を示すことにより、折曲部Cとなる領域に走
査線駆動回路を配置せず、非折曲部Dとなる領域に走査線駆動回路を配置する利点につい
て説明している。当該構成により、湾曲させた際に走査線駆動回路に掛かる応力を分散さ
せることができ、ユーザが手4350a、4350bで電子書籍を見開きにして使用する
際、回路の破損を抑制することができる。
次いで図8(B)、(C)に説明するように駆動回路を複数に分割し、互いに離間して設
けた際、表示パネルにおける折曲部C及び非折曲部Dを人為的に形成するための応力集中
領域を設ける一例について、図9、図10で説明する。
図9(A)では第1の表示パネル4311、綴じ部4308、第1の表示部4301、走
査線駆動回路4321、信号線駆動回路4323aについて示している。走査線駆動回路
4321は2つに分割して示しており、配線920を介して互いに離間して設けられてい
る。応力集中領域921は、配線920と重畳するように形成することが好ましい。図9
(B)には、綴じ部4308と垂直方向の断面図の一例について示しており、配線920
と重畳する応力集中領域921では、封止基板923に切り込み部922aを設け、素子
基板924に切り込み部922bを設ければよい。なお、図9(C)に示すように、素子
基板924及び封止基板に923の走査線駆動回路4321上に、補強板925を貼付す
ることで、切り込み部922a及び切り込み部922bを形成する構成としてもよい。な
お切り込み部922a及び切り込み部922bは、綴じ部4308の長軸方向に平行に設
けても良いし、一部にのみ設ける構成としてもよい。
なお応力集中領域とは、切り込み等による部材の変形や、部材の貼付等による曲げ、延び
に対する強度の変更により形成される、応力の集中する領域のことをいう。
なお走査線駆動回路の分割とは、TFT等の回路素子と配線とが混在して繰り返しのレイ
アウトとなる領域が、配線引き回しに充てられる領域によって分割される状態のことをい
う。
また図10(A)では、図9(A)と同様に、第1の表示パネル4311、綴じ部430
8、第1の表示部4301、走査線駆動回路4321、信号線駆動回路4323aについ
て示している。走査線駆動回路4321は4つに分割され、配線920を介して互いに離
間して設けられている。応力集中領域921は、複数の配線920と重畳するように形成
することが好ましい。図10(B)には、綴じ部と垂直方向の断面図の一例について示し
ており、配線920と重畳する応力集中領域921では、封止基板923に複数の切り込
み部922aを設け、素子基板924に複数の切り込み部922bを設ければよい。なお
、図10(C)に示すように、素子基板924及び封止基板に923の走査線駆動回路4
321上に、補強板925を貼付することで、複数の切り込み部922a及び複数の切り
込み部922bを形成する構成としてもよい。なお複数の切り込み部922a及び複数の
切り込み部922bは、綴じ部4308の長軸方向に平行に設けても良いし、一部にのみ
設ける構成としてもよい。
なお、図9,図10に示した走査線駆動回路の分割数は、説明のための一例であり、適宜
任意の数に分割して設ければよい。
以上説明したように、本実施の形態の構成により、ユーザが電子書籍を見開きにして使用
する際に走査線駆動回路の破損をより効果的に抑制できる。また本実施の形態の構成によ
ると、表示パネルに対し予め切り込み部等による応力集中領域を設けることで、より効果
的に、走査線駆動回路の破損を抑制できる。
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能
である。
(実施の形態4)
本実施の形態では、上記実施の形態1で説明した複数の表示パネルを有する電子書籍の構
成に加えて、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312の間に、両面表示型
の第3のパネルを搭載した例について説明する。図11(A)は、電子書籍を見開きにし
た状態であり、図11(B)は電子書籍を閉じた状態である。また、図12は電子書籍の
横方向の断面図である。
図11(A)、(B)に示す電子書籍は、第1の表示部4301を有する第1の表示パネ
ル4311と、操作部4304及び第2の表示部4307を有する第2の表示パネル43
12と、第3の表示部4302及び第4の表示部4310を有する第3の表示パネル43
13と、第1の表示パネル4311と、第2の表示パネル4312と、第3の表示パネル
4313との一端部に設けられた綴じ部4308と、を有している。第3の表示パネル4
313は、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312の間に挿入されている
。図11(A)、(B)の電子書籍は第1の表示部4301、第2の表示部4307、第
3の表示部4302、及び第4の表示部4310の4つの表示画面を有している。
第1の表示パネル4311、第2の表示パネル4312、及び第3の表示パネル4313
は可撓性を有しており、曲がりやすい。また、第1の表示パネル4311、第2の表示パ
ネル4312にプラスチック基板を用い、第3の表示パネル4313に薄いフィルムを用
いると、薄型な電子書籍とすることができる。すなわち、図12に一例として電子書籍の
横方向の断面図を示すと、第3の表示パネル4313は、第1の表示パネル4311及び
第2の表示パネル4312より曲がりやすい電子書籍とすることができる。そのため、第
3の表示パネル4313より外側の表示パネルを硬くすることにより、書籍のような感覚
で取り扱えることができると共に、第3の表示パネル4313の破損を抑制できる。
第3の表示パネル4313は第3の表示部4302及び第4の表示部4310を有する両
面表示型パネルである。第3の表示パネル4313は、両面射出型の表示パネルを用いて
もよいし、片面射出型の表示パネルを貼り合わせて用いてもよい。また、間にバックライ
ト(好適には薄型のEL発光パネル)を挟んだ2つの液晶表示パネルを用いてもよい。
また図11(A)、(B)に示す電子書籍は、第1の表示部4301の表示制御を行う走
査線駆動回路(図示せず)と、第2の表示部4307の表示制御を行う走査線駆動回路4
322a、4322bと、第3の表示部4302及び/または第4の表示部4310の表
示制御を行う走査線駆動回路(図示せず)と、第1の表示部4301、第2の表示部43
07、第3の表示部4302、及び/または第4の表示部4310の表示制御を行う信号
線駆動回路4323とを有している。なお走査線駆動回路4321a、4321bは第1
の表示パネル4311に設けられ、走査線駆動回路4322a、4322bは第2の表示
パネル4312に設けられ、信号線駆動回路4323は綴じ部4308の内部に設けられ
ている。
また図11(A)、(B)に示す電子書籍において、第2の表示パネル4312は、操作
部4304を有し、電源入力スイッチや、表示切り替えスイッチなど、各機能を対応づけ
ることができる。
また図11(A)、(B)に示す電子書籍の入力操作は、第1の表示部4301や第2の
表示部4307に指や入力ペンなどで触れること、又は操作部4304の操作により行わ
れる。なお、図11(A)では、第2の表示部4307に表示された表示ボタン4309
を図示しており、指などで触れることにより入力を行うことができる。
また図11(A)、(B)に示す第3の表示パネル4313を挿入した電子書籍の使い方
の例としては、第1の表示部4301及び第4の表示部4310で文章を読み、第2の表
示部4307及び第3の表示部4302で図を参照するのは便利である。このとき、第3
の表示パネル4313は、第3の表示部4302と第4の表示部4310を同時に表示す
ることはできないため、ページをめくり始めたときに、第3の表示部4302の表示から
第4の表示部4310の表示に切り替わるものとする。
また、第1の表示部4301から第3の表示部4302を読んで、次のページ、第3の表
示パネル4313をめくり始めた時に、ある角度で第4の表示部4310及び第2の表示
部4307は次のページの表示を行い、また、第4の表示部4310及び第2の表示部4
307を使い終わり、第3の表示パネル4313をめくり始めると、ある角度で第3の表
示部4302及び第1の表示部4301が次のページを表示する。これにより、画面の切
り替わりを目に見えないようにし、視覚的な違和感等を抑えることが可能となる。
次いで第1の表示パネル4311、第2の表示パネル4312、及び第3の表示パネル4
313を有する電子書籍の具体的な構成の一例について、図2(A)、(B)と同様に、
図13(A)、(B)を参照して説明する。なお、図13(A)は電子書籍を閉じた状態
での平面図を示し、図13(B)は図13(A)のA−B間の断面を示している。
図13に示す電子書籍は、綴じ部4308が中空を有する筐体で形成され、当該筐体の内
部に信号線駆動回路4323が設けられている。ここでは、信号線駆動回路4323がI
Cで形成され、当該ICが綴じ部4308の内部に設けられている。ICは、シリコン等
の半導体基板やSOI基板等を用いて形成することができる。もちろん、信号線駆動回路
以外の回路(例えば、CPU、メモリ等)をICに設けることができる。
また、図13では、綴じ部4308の内部に設けられるICを、TAB(Tape Au
tomated Bonding)方式を用いてFPC(Flexible Print
ed Circuit)に実装する場合を示している。
より具体的には、第1の表示部4301を制御する信号線駆動回路4323が形成された
ICがFPC4324上に設けられ、同様に第2の表示部4307を制御する信号線駆動
回路4323が形成されたICがFPC4324上に設けられ、第3の表示部4302及
び第4の表示部4310を制御する信号線駆動回路4323が形成されたICがFPC4
324上に設けられ、信号線駆動回路4323がプリント基板4325を介して電気的に
接続されている。FPC4324は第1の表示パネル4311、第2の表示パネル431
2、及びプリント基板4325と電気的に接続されている。
また、図13において、プリント基板4325を綴じ部4308を構成する筐体に接着す
るように設けることができる。
図13に示すように、FPC上に信号線駆動回路を設ける場合、上記図2(C)で説明し
たように、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312の一方又は双方に応力
集中領域4326を設けることが好ましい。応力集中領域4326を表示パネルに設ける
ことにより、電子書籍を開く場合(第1の表示パネル4311及び/又は第2の表示パネ
ル4312を折り曲げる場合)にFPC4324に加わる応力を低減し、FPC4324
上に設けられた信号線駆動回路4323の破壊を抑制することができる。なお第3の表示
パネル4313に薄いフィルムに形成されており、電子書籍を見開きにして使用する際に
十分なフレキシビリティを有しており、書籍のような感覚で取り扱えることができる。
次に、図13と異なる電子書籍の構成について、図14を参照して説明する。図14(A
)は電子書籍を閉じた状態での平面図を示し、図14(B)は図14(A)のA−B間の
断面を示している。
図14に示す電子書籍は、綴じ部4308に設けられるICを、COG(Chip On
Glass)方式を用いて、第1の表示パネル4311、第2の表示パネル4312に
実装する場合を示している。
より具体的には、第1の表示部4301を制御する信号線駆動回路4323が形成された
ICが第1の表示パネル4311を構成する素子基板上に設けられ、同様に第2の表示部
4307を制御する信号線駆動回路4323が形成されたICが第2の表示パネル431
2を構成する素子基板上に設けられ、第3の表示部4302及び第4の表示部4310を
制御する信号線駆動回路4323が形成されたICが第3の表示パネル4313を構成す
る素子基板上に設けられ、信号線駆動回路4323がFPC4324及びプリント基板4
325を介して電気的に接続されている。
次に、図13、図14と異なる電子書籍の構成について、図15を参照して説明する。図
15(A)は電子書籍を閉じた状態での平面図を示し、図15(B)は図15(A)のA
−B間の断面を示している。
図15に示す電子書籍は、信号線駆動回路等の回路が形成されたICをプリント基板に設
け、当該プリント基板と表示パネルをFPCを用いて接続する場合を示している。
より具体的には、第1の表示部4301を制御する信号線駆動回路4323が形成された
ICがプリント基板4325上に設けられ、同様に第2の表示部4307を制御する信号
線駆動回路4323が形成されたICがプリント基板上に設けられ、第3の表示部430
2及び第4の表示部4310を制御する信号線駆動回路4323が形成されたICが第3
の表示パネル4313を構成する素子基板上に設けられ、信号線駆動回路4323がFP
C4324を介して電気的に接続されている。FPC4324はそれぞれプリント基板4
325に電気的に接続される。
図15では、表示パネルの折り曲げをFPC4324で行うことができるため、折り曲げ
部を設けない構成とすることができる。
次いで、第1の表示パネル4311と第2の表示パネル4312の間に、両面表示型の第
3のパネルを搭載した電子書籍の構成及びその機能について、ブロック図等を用いて説明
する。なお、本実施形態における電子書籍は、表示パネルに用いる表示素子として、自発
光型の発光素子、またはバックライト等の光の透過を制御する液晶素子等の場合に特に好
適である。なお電子書籍が表示素子としては、電気泳動素子等の他の表示素子であっても
適用可能であることを付記する。
図16に本実施の形態で説明する電子書籍のブロック図を示す。図16に示す電子書籍は
、第1の表示パネル701と、第2の表示パネル702と、第3の表示パネル703と、
第4の表示パネル704と、表示制御部705を有する。第1の表示パネル701は、走
査線駆動回路706A、第1の表示部707Aを有する。第2の表示パネル702は、走
査線駆動回路706B、第2の表示部707Bを有する。第3の表示パネル703は、走
査線駆動回路706C、第3の表示部707Cを有する。第4の表示パネル704は、走
査線駆動回路706D、第4の表示部707Dを有する。
なお、上記実施の形態で説明したように、第1の表示パネル701乃至第4の表示パネル
704はそれぞれ可撓性を有し、上記実施の形態で述べた信号線駆動回路を含む表示制御
部705を内設する綴じ部によって固定されているものである。
なお、第3の表示パネル703と、第4の表示パネル704とは、両面射出型の表示パネ
ルを用いることにより、第3の表示部707Cと、第4の表示部707Dとを兼備した第
3の表示パネル703とすることができ、電子書籍の薄型化、低コスト化を図ることが出
来る。
第1の表示部707A乃至第4の表示部707Dは、それぞれ複数の画素708を有して
おり、それぞれ複数の画素708には表示素子を制御するための画素回路710がある。
画素回路710には薄膜トランジスタ等が含まれており、それらを一括で形成すると低コ
スト化を図れる。また、第1の表示部707Aは光センサ709Aを有し、第2の表示部
707Bは光センサ709Bを有し、第3の表示部707Cは光センサ709Cを有し、
第4の表示部707Dは光センサ709Dを有する。
なお走査線駆動回路706A乃至走査線駆動回路706Dは、画素708における画素回
路710に走査信号を供給するものである。
光センサ709A乃至709Dは、上記実施の形態で説明したように、第1の表示パネル
701及び第3の表示パネル703を視認している状態、または第2の表示パネル702
及び第4の表示パネル704を視認している状態を検知する機能を有する。そのため、表
示パネル等に傾き検出部、または別の開閉検出手段によって、本実施の形態で説明する機
能を実現することも可能である。
なお、光センサ709C、及び/または光センサ709Dは、光センサ709A、及び/
または光センサ709Bの照度の精度を高めることによって、省略することができる。な
お光センサ709C、及び/または光センサ709Dの代わりに、遮光部を配設すること
により光センサ709A、及び/または光センサ709Bの照度の精度を高めることがで
き、また透光性の基板を用いた場合であっても光センサで検出することができ、好適であ
る。
なお光センサ709A乃至709Dは、画素回路710が有する薄膜トランジスタが形成
される基板上に、フォトダイオードまたはフォトトランジスタ等によるフォトセンサとし
て形成してもよい。光センサ709A乃至709Dを薄膜トランジスタと共に形成するこ
とで電子書籍の低コスト化を図ることが出来る。
綴じ部4308内に位置する表示制御部705は、光強度比較回路711、CPU712
、内部メモリ713、映像信号発生回路714、電源供給回路715、信号送受信部71
6、給電部717、操作部718、信号線駆動回路714A乃至信号線駆動回路714D
を有し、各構成はインターフェース等を介して接続されている。なお信号送受信部716
は、外部機器とのデータの送受信を行うためのアンテナ部719を具備する構成であって
もよい。
光強度比較回路711は、光センサ709A乃至光センサ709Dからの信号を検知し、
照度に応じた信号の強度を比較する回路である。光強度比較回路711は、得られる各光
センサの強度に応じた信号を符号化する。そして第1の表示パネル701及び/または第
3の表示パネル703が有する光センサ709A及び/または光センサ709Cと、第2
の表示パネル702及び/または第4の表示パネル704が有する光センサ709B及び
/または光センサ709Dと、で照度に応じた信号を比較する。比較した結果の信号はC
PU712に送られ、CPU712は当該信号に応じた処理を行うこととなる。なお、C
PU712は操作部718での操作に応じた処理等も行うこととなる。
信号送受信部716は、アンテナ部719で受信したデータ、または記録媒体に記憶され
たデータを内部メモリ713に転送する機能を有する。内部メモリ713には、インター
フェース等を介してデータが記憶される。なお信号送受信部716より内部メモリ713
に転送するデータとしては、表示パネルで表示するための映像信号の他、ユーザID等の
情報を記憶するものであってもよい。
内部メモリ713は、光強度比較回路711、給電部717、操作部718等からの信号
に基づいて映像信号発生回路714、及び/または電源供給回路715に出力する信号を
CPU712で処理するためのプログラムや、信号送受信部716から転送されるデータ
、を記憶する記憶部を有する。一例としては、内部メモリ713は、ROM(Read
Only Memory)やRAM(Random Access Memory)で構
成されるものである。
給電部717は、無線、または有線による電力の給電、または電池、コンデンサ等の蓄電
手段による電力の給電を行う機能を有する。また、操作部718は、タッチパネル、可動
部を操作できる操作ボタン等に基づくユーザによる操作を符号化し、CPU712に転送
する手段を有する。
映像信号発生回路714は、CPU712の制御に応じて、第1の表示パネル701乃至
第4の表示パネル704の表示、非表示を行うために、走査線駆動回路を駆動するための
クロック信号、スタートパルス等を各走査線駆動回路706A乃至走査線駆動回路706
Dに供給、及び綴じ部内に設けられた信号線駆動回路を駆動するためのクロック信号、ス
タートパルス、映像信号等を各信号線駆動回路714A乃至信号線駆動回路714Dに供
給、するための回路である。
なお信号線駆動回路714A乃至信号線駆動回路714Dは、画素708における画素回
路710に信号線を介して画像信号を供給するものである。
電源供給回路715は、CPU712の制御に応じて、第1の表示パネル701乃至第4
の表示パネル704の表示、非表示を行うために、表示素子への電源供給を制御するため
の回路である。図16では説明のため、電源供給回路715内に、第1の表示部707A
に電源供給を行う電源供給回路715A、第2の表示部707Bに電源供給を行う電源供
給回路715B、第3の表示部707Cに電源供給を行う電源供給回路715C、第4の
表示部707Dに電源供給を行う電源供給回路715D、を示している。
図16に示す電子書籍の動作について一例を用いて説明する。まず光センサ709A乃至
709Dによって得られる各表示パネルの表示面の照度を光強度比較回路711にて比較
する。CPU712は、光強度比較回路711で比較した結果、または操作部718から
の信号によって、ユーザがどの表示パネルを視認しているかを判定する。例えば光センサ
709A及び/または光センサ709Cの照度と、光センサ709B及び/または光セン
サ709Dの照度と、を比較し、光センサ709A及び/または光センサ709Cの照度
が光センサ709B及び/または光センサ709Dの照度より大きければ、ユーザが第1
の表示部707A及び/または第3の表示部707Cを視認していると判定する。CPU
712でのユーザがどの表示パネルを視認しているかの判定により、映像信号発生回路7
14が第1の表示パネル701乃至第4の表示パネル704に供給する映像信号及び制御
信号、及び/または電源供給回路715が第1の表示パネル701乃至第4の表示パネル
704に供給する電源供給を制御する。具体的には、ユーザが視認していない第2の表示
部707B及び第4の表示部707Dを具備する第2の表示パネル702及び第4の表示
パネル704への電源供給を停止することにより、低消費電力化、表示パネルの長寿命化
を図ることができる。
図16に示す電子書籍は、ユーザが視認しているページを光センサ及び光強度比較回路に
て判定することで、表示パネルへの画像信号の供給、電源供給等の選択的な切り替えを行
うことができる。そのため低消費電力化、表示パネルの長寿命化を実現した電子書籍を提
供することができる。
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能
である。
(実施の形態5)
本実施の形態では、電子書籍に設ける表示パネルの例を示す。表示パネルは様々の表示素
子を有する表示パネルを適用することができ、パッシブマトリクス型でもアクティブマト
リクス型でもよい。
表示パネルとしては、電子ペーパー、発光表示パネル(EL(エレクトロルミネッセンス
)パネル)、液晶表示パネルなどを用いることができる。表示パネルは、表示素子が封止
された状態にあるパネルであり、コネクター、例えばFPC(Flexible pri
nted circuit)もしくはTAB(Tape Automated Bond
ing)テープもしくはTCP(Tape Carrier Package)が取り付
けられ信号線駆動回路を含む外部回路と電気的に接続する。信号線駆動回路であるICが
、COG(Chip On Glass)方式により表示パネルに直接実装されてもよい
表示パネルは、両面に表示を行う両面表示型でも片面のみに表示を行う片面表示パネルを
用いてもよい。
実施の形態4において、第3の表示パネル4313は第3の表示部4302及び第4の表
示部4310を有する両面表示型パネルである。第3の表示パネル4313は、両面射出
型の表示パネルを用いてもよいし、片面射出型の表示パネルを貼り合わせて用いてもよい
。また、間にバックライト(好適には薄型のELパネル)を挟んだ2つの液晶表示パネル
を用いてもよい。
両面表示型パネル例を第3の表示パネル4313を用いて図17(A)乃至(C)に示す
。なお、図17(A)乃至(C)において、矢印は光の射出方向を示している。
図17(A)は表示素子102を基板100及び基板101に挟持した第3の表示パネル
4313であり、基板100側に第3の表示部4302、基板101側に第4の表示部4
310が設けられている。表示素子102によって、第3の表示部4302及び第4の表
示部4310が表示されるため、基板100及び基板101は透光性を有する。表示素子
102は、自発光型の発光素子であるEL素子を用いると好ましい。なお、第3の表示パ
ネル4313に入射する光を利用する場合、表示素子102として液晶表示素子や電気泳
動表示素子を用いることもできる。
図17(B)は、基板110及び基板112に挟持された表示素子114を含む片面表示
パネル、及び基板111と基板113に挟持された表示素子115とを含む片面表示パネ
ルを積層した第3の表示パネル4313であり、基板110側に第3の表示部4302、
基板111側に第4の表示部4310が設けられている。表示素子114によって第3の
表示部4302が表示され、表示素子115によって第4の表示部4310が表示される
ため基板110及び基板111は透光性を有する。一方、基板112及び基板113は透
光性を有する必要はなく、反射性を有していてもよい。なお、片面表示パネル同士は、基
板112及び基板113を接着層によって接着して貼り合わせればよい。また、基板11
2及び基板113のどちらか一方のみを用いてもよい。
表示素子114及び表示素子115は、EL素子を用いると好ましい。なお、第3の表示
パネル4313に入射する光を利用する場合表示素子114及び表示素子115として液
晶表示素子や電気泳動表示素子を用いることもできる。光の取り出し効率を向上させるた
め、片面表示型の表示パネルとして反射型の表示パネルを用いると好ましい。
透光型液晶表示パネルの間にバックライトを設け、第3の表示パネル4313としてもよ
い。図17(C)は、基板120及び基板122に挟持された表示素子124を含む透光
型液晶表示パネル、及び基板121と基板123に挟持された表示素子125とを含む透
光型液晶表示パネルを、光源となるバックライト126を介して積層した第3の表示パネ
ル4313であり、基板120側に第3の表示部4302、基板121側に第4の表示部
4310が設けられている。バックライト126の光及び表示素子124によって第3の
表示部4302が表示され、バックライト126の光及び表示素子125によって第4の
表示部4310が表示されるため基板120、基板121、基板122及び基板123は
透光性を有する。
なお、片面表示パネル、及びバックライトは、接着層によって接着して貼り合わせればよ
い。また、基板122及び基板123のどちらか一方のみを用いてもよい。バックライト
126としては、薄型のELパネルを用いると、第3の表示パネル4313を薄型化でき
るため好ましい。
なお、片面表示型パネルとする場合は表示部を設けない面に非透光性又は反射性の筐体を
設けると、表示パネルの強度を向上できるため好ましい。
表示パネルの一形態について、図18乃至図20を用いて説明する。図18乃至図20は
、図4(A)のM−Nにおける断面図に相当する。図18乃至図20、及び図22は、画
素回路を有する第1の表示部4301及び走査線駆動回路4322aを有する第1の表示
パネル4311にFPC4324が取り付けられた例であり、素子基板4331a上に設
けられた第1の表示部4301及び走査線駆動回路4322aは、シール材4005によ
って封止基板4332aで封止されている。
図18乃至図20、及び図22で示すように、第1の表示パネル4311は接続端子電極
4015及び端子電極4016を有しており、接続端子電極4015及び端子電極401
6はFPC4324が有する端子と異方性導電膜4019を介して、電気的に接続されて
いる。
接続端子電極4015は、第1の電極層4030と同じ導電膜から形成され、端子電極4
016は、薄膜トランジスタ4010、4011のソース電極層及びドレイン電極層と同
じ導電膜で形成されている。
また、上記図4に示すように、別途用意された基板上に単結晶半導体膜又は多結晶半導体
膜で形成された信号線駆動回路4323aはFPCによって実装され、綴じ部4308内
に設けられている。信号線駆動回路4323a、走査線駆動回路4322a及び第1の表
示部4301に与えられる各種信号及び電位は、FPC4324から供給される。
なお、信号線駆動回路4323aの接続方法は、特に限定されるものではなく、COG方
法、ワイヤボンディング方法、或いはTAB方法などを用いることができる。
また素子基板4331a上に設けられた第1の表示部4301と、走査線駆動回路432
1aは、薄膜トランジスタを複数有しており、図18乃至20では、第1の表示部430
1に含まれる薄膜トランジスタ4010と、走査線駆動回路4321aに含まれる薄膜ト
ランジスタ4011とを例示している。薄膜トランジスタ4010、4011上には絶縁
層4020、4021が設けられている。なお、絶縁膜4023は下地膜として機能する
絶縁膜である。
薄膜トランジスタ4010、4011は、特に限定されず様々な薄膜トランジスタを適用
することができる。図18乃至20では、薄膜トランジスタ4010、4011として、
ボトムゲート構造の逆スタガ薄膜トランジスタを用いる例を示す。薄膜トランジスタ40
10、4011はチャネルエッチ型を示すが、半導体層上にチャネル保護膜を設けたチャ
ネル保護型の逆スタガ薄膜トランジスタを用いてもよい。
第1の表示部4301に設けられた薄膜トランジスタ4010は表示素子と電気的に接続
し、表示パネルを構成する。表示素子は表示を行うことがでれば特に限定されず、様々な
表示素子を用いることができる。
表示パネルとして電子ペーパーを用いることができる。電子ペーパーにおいては像書き込
み手段として電界、磁界、光、又は熱の利用、表示媒体の変化については形状や位置変化
の利用、物理的変化の利用など様々な組み合わせで多くの方式がある。例えば、ツイスト
ボール方式、電気泳動方式、粉体系方式(トナーディスプレイとも呼ばれる)、液晶方式
などが挙げられる。
図18及び図22に第1の表示パネル4311としてアクティブマトリクス型の電子ペー
パーを用いた例を示す。電子ペーパーは、紙と同じ読みやすさ、他の表示パネルに比べ低
消費電力、薄くて軽い形状とすることが可能という利点を有している。
図18(A)(B)及び図22は、表示パネルの例としてアクティブマトリクス型の電子
ペーパーを示す。
図18(A)の電子ペーパーは、ツイストボール表示方式を用いた表示装置の例である。
ツイストボール表示方式とは、白と黒に塗り分けられた球形粒子を表示素子に用いる電極
層間に配置し、電極層間に電位差を生じさせての球形粒子の向きを制御することにより、
表示を行う方法である。
薄膜トランジスタ4010と接続する第1の電極層4030と、封止基板4332aに設
けられた第2の電極層4031との間には黒色領域4615a及び白色領域4615bを
有し、周りに液体で満たされているキャビティ4612を含む球形粒子4613が設けら
れており、球形粒子4613の周囲は樹脂等の充填材4614で充填されている。第2の
電極層4031が共通電極(対向電極)に相当する。第2の電極層4031は、共通電位
線と電気的に接続される。
また、ツイストボールの代わりに、電気泳動素子を用いることも可能である。表示素子と
して電気泳動素子を用いる例を図18(B)に示す。透明な液体4712と、第1の粒子
として負に帯電した黒い微粒子4715aと、第2の粒子として正に帯電した白い微粒子
4715bとを封入した直径10μm〜200μm程度のマイクロカプセル4713を用
いる。
第1の電極層4030と第2の電極層4031との間に設けられるマイクロカプセル47
13は、第1の電極層4030と第2の電極層4031によって、電場が与えられると、
白い微粒子4715bと、黒い微粒子4715aが逆の方向に移動し、白または黒を表示
することができる。この原理を応用した表示素子が電気泳動表示素子である。電気泳動表
示素子は、反射率が高いため、補助ライトは不要であり、また消費電力が小さく、薄暗い
場所でも表示部を認識することが可能である。また、表示部に電源が供給されない場合で
あっても、一度表示した像を保持することが可能であるため、電波発信源から表示パネル
を遠ざけた場合であっても、表示された像を保存しておくことが可能となる。
なお、第1の粒子および第2の粒子は染料を含み、電界がない場合において移動しないも
のである。また、第1の粒子および第2の粒子の色は異なるもの(無色を含む)とする。
上記マイクロカプセルを溶媒中に分散させたものが電子インクと呼ばれるものであり、こ
の電子インクはガラス、プラスチック、布、紙などの表面に印刷することができる。また
、カラーフィルタや色素を有する粒子を用いることによってカラー表示も可能である。
なお、マイクロカプセル中の第1の粒子および第2の粒子は、導電体材料、絶縁体材料、
半導体材料、磁性材料、液晶材料、強誘電性材料、エレクトロルミネセント材料、エレク
トロクロミック材料、磁気泳動材料から選ばれた一種の材料、またはこれらの複合材料を
用いればよい。
また、粉体系方式として電子粉流体(登録商標)を用いることも可能である。表示素子と
して電子粉流体を用いる例を図22に示す。第1の電極層4030、第2の電極層403
1、及びリブ4814に区切られた空間4812に、正に帯電した黒い粉粒体4815a
と負に帯電した白い粉粒体4815bとを充填する。なお空間4812は空気である。
第1の電極層4030と第2の電極層4031によって、電場が与えられると、黒い粉粒
体4815aと、白い粉粒体4815bが逆の方向に移動し、白または黒を表示すること
ができる。粉粒体として赤、黄、青のようなカラー粉体を用いてもよい。
また、表示素子としては、エレクトロルミネッセンスを利用する発光素子(EL素子)を
用いてもよい。エレクトロルミネッセンスを利用する発光素子は、発光材料が有機化合物
であるか、無機化合物であるかによって区別され、一般的に、前者は有機EL素子、後者
は無機EL素子と呼ばれている。
有機EL素子は、発光素子に電圧を印加することにより、一対の電極から電子および正孔
がそれぞれ発光性の有機化合物を含む層に注入され、電流が流れる。そして、それらキャ
リア(電子および正孔)が再結合することにより、発光性の有機化合物が励起状態を形成
し、その励起状態が基底状態に戻る際に発光する。このようなメカニズムから、このよう
な発光素子は、電流励起型の発光素子と呼ばれる。
無機EL素子は、その素子構成により、分散型無機EL素子と薄膜型無機EL素子とに分
類される。分散型無機EL素子は、発光材料の粒子をバインダ中に分散させた発光層を有
するものであり、発光メカニズムはドナー準位とアクセプター準位を利用するドナー−ア
クセプター再結合型発光である。薄膜型無機EL素子は、発光層を誘電体層で挟み込み、
さらにそれを電極で挟んだ構造であり、発光メカニズムは金属イオンの内殻電子遷移を利
用する局在型発光である。なお、ここでは、発光素子として有機EL素子を用いて説明す
る。
発光素子は発光を取り出すために少なくとも一対の電極の一方が透明であればよい。そし
て、基板上に薄膜トランジスタ及び発光素子を形成し、基板とは逆側の面から発光を取り
出す上面射出や、基板側の面から発光を取り出す下面射出や、基板側及び基板とは反対側
の面から発光を取り出す両面射出構造の発光素子があり、どの射出構造の発光素子も適用
することができる。
図19に第1の表示パネル4311として発光表示パネル(ELパネル)を用いた例を示
す。表示素子である発光素子4513は、表示部4301に設けられた薄膜トランジスタ
4010と電気的に接続している。なお発光素子4513の構成は、第1の電極層403
0、電界発光層4511、第2の電極層4031の積層構造であるが、示した構成に限定
されない。発光素子4513から取り出す光の方向などに合わせて、発光素子4513の
構成は適宜変えることができる。
隔壁4510は、有機樹脂膜、無機絶縁膜または有機ポリシロキサンを用いて形成する。
特に感光性の材料を用い、第1の電極層4030上に開口部を形成し、その開口部の側壁
が連続した曲率を持って形成される傾斜面となるように形成することが好ましい。
電界発光層4511は、単数の層で構成されていても、複数の層が積層されるように構成
されていてもどちらでも良い。
発光素子4513に酸素、水素、水分、二酸化炭素等が侵入しないように、第2の電極層
4031及び隔壁4510上に保護膜を形成してもよい。保護膜としては、窒化珪素膜、
窒化酸化珪素膜、DLC膜等を形成することができる。また、素子基板4331a、封止
基板4332a、及びシール材4005によって封止された空間には充填材4514が設
けられ密封されている。このように外気に曝されないように気密性が高く、脱ガスの少な
い保護フィルム(貼り合わせフィルム、紫外線硬化樹脂フィルム等)やカバー材でパッケ
ージング(封入)することが好ましい。
充填材4514としては窒素やアルゴンなどの不活性な気体の他に、紫外線硬化樹脂また
は熱硬化樹脂を用いることができ、PVC(ポリビニルクロライド)、アクリル、ポリイ
ミド、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、PVB(ポリビニルブチラル)またはEVA(エ
チレンビニルアセテート)を用いることができる。例えば充填材として窒素を用いればよ
い。
また、必要であれば、発光素子の射出面に偏光板、又は円偏光板(楕円偏光板を含む)、
位相差板(λ/4板、λ/2板)、カラーフィルタなどの光学フィルムを適宜設けてもよ
い。また、偏光板又は円偏光板に反射防止膜を設けてもよい。例えば、表面の凹凸により
反射光を拡散し、映り込みを低減できるアンチグレア処理を施すことができる。
図20に第1の表示パネル4311として液晶表示パネルを用いた例を示す。図20にお
いて、表示素子である液晶素子4013は、第1の電極層4030、第2の電極層403
1、及び液晶層4008を含む。なお、液晶層4008を挟持するように配向膜として機
能する絶縁膜4032、4033が設けられている。第2の電極層4031は封止基板4
332a側に設けられ、第1の電極層4030と第2の電極層4031とは液晶層400
8を介して積層する構成となっている。
また4035は絶縁膜を選択的にエッチングすることで得られる柱状のスペーサであり、
液晶層4008の膜厚(セルギャップ)を制御するために設けられている。なお球状のス
ペーサを用いていても良い。
また、図20の液晶表示装置では図示しないが、カラーフィルタ(着色層)、ブラックマ
トリクス(遮光層)、偏光部材、位相差部材、反射防止部材などの光学部材(光学基板)
などは適宜設ける。例えば、偏光基板及び位相差基板による円偏光を用いてもよい。また
、光源としてバックライト、サイドライトなどを用いてもよい。バックライトとしてはE
Lパネルを用いると薄型化できるために好ましい。
また、配向膜を用いないブルー相を示す液晶を用いてもよい。ブルー相は液晶相の一つで
あり、コレステリック液晶を昇温していくと、コレステリック相から等方相へ転移する直
前に発現する相である。ブルー相は狭い温度範囲でしか発現しないため、温度範囲を改善
するために5重量%以上のカイラル剤を混合させた液晶組成物を用いて液晶層4008に
用いる。ブルー相を示す液晶とカイラル剤とを含む液晶組成物は、応答速度が10μs〜
100μsと短く、光学的等方性であるため配向処理が不要であり、視野角依存性が小さ
い。
なお図20は透過型液晶表示パネルの例であるが、反射型液晶表示パネルでも半透過型液
晶表示パネルでも適用できる。
なお、図18乃至図20、及び図22において、素子基板4331a、封止基板4332
aとしては、透光性を有するプラスチックなどを用いることができる。プラスチックとし
ては、FRP(Fiberglass−Reinforced Plastics)板、
PVF(ポリビニルフルオライド)フィルム、ポリエステルフィルム、ポリエステルフィ
ルムまたはアクリル樹脂フィルムを用いることができる。また、アルミニウムホイルをP
VFフィルムやポリエステルフィルムで挟んだ構造のシートを用いることもできる。
絶縁層4020は薄膜トランジスタの保護膜として機能する。
なお、保護膜は、大気中に浮遊する有機物や金属物、水蒸気などの汚染不純物の侵入を防
ぐためのものであり、緻密な膜が好ましい。保護膜は、スパッタ法を用いて、酸化珪素膜
、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜、窒化酸化珪素膜、酸化アルミニウム膜、窒化アルミニウ
ム膜、酸化窒化アルミニウム膜、又は窒化酸化アルミニウム膜の単層、又は積層で形成す
ればよい。
また、平坦化絶縁膜として機能する絶縁層4021は、ポリイミド、アクリル、ベンゾシ
クロブテン、ポリアミド、エポキシ等の、耐熱性を有する有機材料を用いることができる
。また上記有機材料の他に、低誘電率材料(low−k材料)、シロキサン系樹脂、PS
G(リンガラス)、BPSG(リンボロンガラス)等を用いることができる。なお、これ
らの材料で形成される絶縁膜を複数積層させることで、絶縁層を形成してもよい。
絶縁層4020、絶縁層4021の形成法は、特に限定されず、その材料に応じて、スパ
ッタ法、SOG法、スピンコート、ディップ、スプレー塗布、液滴吐出法(インクジェッ
ト法、スクリーン印刷、オフセット印刷等)、ドクターナイフ、ロールコーター、カーテ
ンコーター、ナイフコーター等を用いることができる。絶縁層を材料液を用いて形成する
場合、ベークする工程で同時に、半導体層のアニール(200℃〜400℃)を行っても
よい。絶縁層の焼成工程と半導体層のアニールを兼ねることで効率よく表示パネルを作製
することが可能となる。
表示パネルは光源又は表示素子からの光を透過させて表示を行う。よって光が透過する表
示部に設けられる基板、他絶縁膜、導電膜などの薄膜はすべて可視光の波長領域の光に対
して透光性とする。
表示素子に電圧を印加する第1の電極層4030及び第2の電極層4031(画素電極層
、共通電極層、対向電極層などともいう)においては、取り出す光の方向、電極層が設け
られる場所、及び電極層のパターン構造によって透光性、反射性を選択すればよい。
第1の電極層4030、第2の電極層4031は、酸化タングステンを含むインジウム酸
化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化
物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、インジウム錫酸化物(以下、ITOと示す。
)、インジウム亜鉛酸化物、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物などの透光性を有
する導電性材料を用いることができる。
また、第1の電極層4030、第2の電極層4031はタングステン(W)、モリブデン
(Mo)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、バナジウム(V)、ニオブ(N
b)、タンタル(Ta)、クロム(Cr)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、チタ
ン(Ti)、白金(Pt)、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、銀(Ag)等の金属、
又はその合金、若しくはその金属窒化物から一つ、又は複数種を用いて形成することがで
きる。
また、第1の電極層4030、第2の電極層4031として、導電性高分子(導電性ポリ
マーともいう)を含む導電性組成物を用いて形成することができる。導電性高分子として
は、いわゆるπ電子共役系導電性高分子が用いることができる。例えば、ポリアニリンま
たはその誘導体、ポリピロールまたはその誘導体、ポリチオフェンまたはその誘導体、若
しくはこれらの2種以上の共重合体などがあげられる。
また、薄膜トランジスタは静電気などにより破壊されやすいため、駆動回路保護用の保護
回路を設けることが好ましい。保護回路は、非線形素子を用いて構成することが好ましい
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能
である。
(実施の形態6)
本実施の形態では、電子書籍を構成する材料や素子構造の例を詳細に説明する。
信号線駆動回路は綴じ部に設けられるために、特に可撓性を有する必要はない。よって、
信号線駆動回路として、高速動作が可能な半導体基板(半導体ウエハー)を用いた半導体
集積回路チップ(IC)を用いることが好ましい。半導体基板として単結晶半導体基板及
び多結晶半導体基板を用いることができ、シリコンウエハーやゲルマニウムウエハーなど
の半導体ウエハー、ガリウムヒ素やインジウムリンなどの化合物半導体ウエハーを適用す
る。
また、信号線駆動回路に、絶縁表面に単結晶半導体層を設けたSOI構造を有する基板(
SOI基板)を用いてもよい。SOI基板は、SIMOX(Separation by
IMplanted Oxygen)法や、Smart−Cut法を用いて形成するこ
とができる。SIMOX法は、単結晶シリコン基板に酸素イオンを注入し、所定の深さに
酸素含有層を形成した後、熱処理を行い、表面から一定の深さで埋込絶縁層を形成し、埋
込絶縁層の上に単結晶シリコン層を形成する方法である。また、Smart−Cut法は
、酸化された単結晶シリコン基板に水素イオン注入を行い、所望の深さに相当する所に水
素含有層を形成し、他の半導体基板(表面に貼り合わせ用の酸化シリコン膜を有する単結
晶シリコン基板など)と貼り合わせる、加熱処理を行うことにより水素含有層にて単結晶
シリコン基板を分断し、半導体基板上に酸化シリコン膜と単結晶シリコン層との積層を形
成する方法である。
電子書籍の回路部に設けられる半導体素子としては電界効果トランジスタはもちろん、半
導体層を用いるメモリ(記憶)素子なども適用することができ、多用途に渡って要求され
る機能を満たす半導体集積回路を設けることができる。
走査線駆動回路及び表示部は表示パネルの可撓性基板上に設けられればその方法は特に限
定されない。走査線駆動回路及び表示部は可撓性基板に直接形成してもよいし、他の作製
基板上に作製し、その後作製基板から剥離法を用いて素子層のみを可撓性基板へ転置して
設けてもよい。例えば、走査線駆動回路及び表示部を同一工程で作製基板に形成し、走査
線駆動回路及び表示部を表示パネルの可撓性基板に転置して設けることができる。この場
合、走査線駆動回路及び表示部は同工程で形成されるため、同じ構造及び材料のトランジ
スタとすると低コスト化できて好ましい。よって、走査線駆動回路及び表示部を構成する
トランジスタのチャネル層が同じ材料で設けられる。
また、作製基板から可撓性の支持基板へ転置し、可撓性の支持基板ごと表示パネルの基板
へ接着して設けてもよい。例えば、作製基板に走査線駆動回路のみを複数形成し、可撓性
の支持基板に転置した後、可撓性の支持基板ごと個々の走査線駆動回路に分断して、1つ
の表示パネルに必要なだけ可撓性の支持基板上に設けられた走査線駆動回路を接着して設
けてもよい。この場合、走査線駆動回路と表示部とは別工程で作製されるため、それぞれ
種々の構成及び材料のトランジスタを選択できる。
また、上記転置法と直接形成法とを組み合わせてもよい。例えば、印刷法などを用いて、
表示部、走査線駆動回路部、FPCなどを電気的に接続する配線を表示パネルの可撓性基
板に直接形成すればよい。
作製基板は、素子層の作製工程に合わせて作製基板を適宜選択すればよい。例えば、作製
基板としては、ガラス基板、石英基板、サファイア基板、セラミック基板、表面に絶縁層
が形成された金属基板などを用いることができる。また、処理温度に耐えうる耐熱性を有
するプラスチック基板を用いてもよい。
可撓性基板として、アラミド樹脂、ポリエチレンナフタレート(PEN)樹脂、ポリエー
テルサルフォン(PES)樹脂、ポリフェニレンサルファイド(PPS)樹脂、ポリイミ
ド(PI)樹脂などを用いることができる。また、繊維に有機樹脂が含浸された構造体で
あるプリプレグを用いてもよい。
作製基板より素子層を他の基板へ転置する方法は、特に限定されず種々の方法を用いるこ
とができる。例えば作製基板と素子層との間に剥離層を形成すればよい。
なお、本明細書において素子層とは、素子基板側に設ける半導体素子層はもちろん、対向
基板側で設ける対向電極層なども含む。よって剥離工程は、素子基側及び封止基板側どち
らにも用いることができる。また、工程の簡便性を考慮し、作製基板より可撓性基板へ転
置した後、作製工程において該可撓性基板をガラス基板等に仮接着して作製工程を進める
こともできる。
剥離層は、スパッタリング法やプラズマCVD法、塗布法、印刷法等により、タングステ
ン(W)、モリブデン(Mo)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)、ニオブ(Nb)、
ニッケル(Ni)、コバルト(Co)、ジルコニウム(Zr)、亜鉛(Zn)、ルテニウ
ム(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、オスミウム(Os)、イリジウム
(Ir)、珪素(Si)から選択された元素、又は元素を主成分とする合金材料、又は前
記元素を主成分とする化合物材料からなる層を、単層又は積層して形成する。珪素を含む
層の結晶構造は、非晶質、微結晶、多結晶のいずれの場合でもよい。なお、ここでは、塗
布法は、スピンコーティング法、液滴吐出法、ディスペンス法を含む。
剥離層が単層構造の場合、好ましくは、タングステン層、モリブデン層、又はタングステ
ンとモリブデンの混合物を含む層を形成する。又は、タングステンの酸化物若しくは酸化
窒化物を含む層、モリブデンの酸化物若しくは酸化窒化物を含む層、又はタングステンと
モリブデンの混合物の酸化物若しくは酸化窒化物を含む層を形成する。なお、タングステ
ンとモリブデンの混合物とは、例えば、タングステンとモリブデンの合金に相当する。
剥離層が積層構造の場合、好ましくは、1層目としてタングステン層、モリブデン層、又
はタングステンとモリブデンの混合物を含む層を形成し、2層目として、タングステン、
モリブデン又はタングステンとモリブデンの混合物の酸化物、窒化物、酸化窒化物又は窒
化酸化物を形成する。
剥離層として、タングステンを含む層とタングステンの酸化物を含む層の積層構造を形成
する場合、タングステンを含む層を形成し、その上層に酸化物で形成される絶縁層を形成
することで、タングステン層と絶縁層との界面に、タングステンの酸化物を含む層が形成
されることを活用してもよい。さらには、タングステンを含む層の表面を、熱酸化処理、
酸素プラズマ処理、オゾン水等の酸化力の強い溶液での処理等を行ってタングステンの酸
化物を含む層を形成してもよい。またプラズマ処理や加熱処理は、酸素、窒素、一酸化二
窒素単体、あるいは前記ガスとその他のガスとの混合気体雰囲気下で行ってもよい。これ
は、タングステンの窒化物、酸化窒化物及び窒化酸化物を含む層を形成する場合も同様で
あり、タングステンを含む層を形成後、その上層に窒化珪素層、酸化窒化珪素層、窒化酸
化珪素層を形成するとよい。
なお、他の基板への転置工程は、基板と素子層の間に剥離層を形成し、剥離層と素子層と
の間に金属酸化膜を設け、当該金属酸化膜を結晶化により脆弱化して、当該素子層を剥離
する方法、耐熱性の高い基板と素子層の間に水素を含む非晶質珪素膜を設け、レーザ光の
照射またはエッチングにより当該非晶質珪素膜を除去することで、当該素子層を剥離する
方法、基板と素子層の間に剥離層を形成し、剥離層と素子層との間に金属酸化膜を設け、
当該金属酸化膜を結晶化により脆弱化し、剥離層の一部を溶液やNF、BrF、Cl
等のフッ化ハロゲンガスによりエッチングで除去した後、脆弱化された金属酸化膜に
おいて剥離する方法、素子層が形成された基板を機械的に削除又は溶液やNF、BrF
、ClF等のフッ化ハロゲンガスによるエッチングで除去する方法等を適宜用いるこ
とができる。また、剥離層として窒素、酸素や水素等を含む膜(例えば、水素を含む非晶
質珪素膜、水素含有合金膜、酸素含有合金膜など)を用い、剥離層にレーザ光を照射して
剥離層内に含有する窒素、酸素や水素をガスとして放出させ素子層と基板との剥離を促進
する方法を用いてもよい。
上記剥離方法を組み合わすことでより容易に転置工程を行うことができる。つまり、レー
ザ光の照射、ガスや溶液などによる剥離層へのエッチング、鋭いナイフやメスなどによる
機械的な削除を行い、剥離層と素子層とを剥離しやすい状態にしてから、物理的な力(機
械等による)によって剥離を行うこともできる。
また、剥離層と素子層との界面に液体を浸透させて基板から素子層を剥離してもよい。液
体としては水などを用いることができる。
本明細書で開示する電子書籍が有するトランジスタは特に限定されない。よってトランジ
スタの構造や用いる半導体材料は種々用いることができる。
薄膜トランジスタの構造の例を、図21を用いて説明する。図21は、実施の形態5にお
ける薄膜トランジスタ4010に用いることのできる薄膜トランジスタの例である。
図21(A)乃至(D)において、素子基板4331a上に絶縁膜4023が形成され、
絶縁膜4023上に薄膜トランジスタ4010a、4010b、4010c、4010d
が設けられている。薄膜トランジスタ4010a、4010b、4010c、4010d
上に絶縁層4020、絶縁層4021が形成され、薄膜トランジスタ4010a、401
0b、4010c、4010dと電気的に接続する第1の電極層4030が設けられてい
る。
薄膜トランジスタ4010aは、図18乃至図20における薄膜トランジスタ4010に
おいて、ソース電極層及びドレイン電極層として機能する配線層405a、405bと半
導体層403とがn層を介さずに接する構成である。
薄膜トランジスタ4010aは逆スタガ型の薄膜トランジスタであり、絶縁表面を有する
基板である素子基板4331a、絶縁膜4023上に、ゲート電極層401、ゲート絶縁
層402、半導体層403、ソース電極層又はドレイン電極層として機能する配線層40
5a、405bを含む。n層404a、404bは、半導体層403より低抵抗な半導
体層である。
薄膜トランジスタ4010bはボトムゲート型の薄膜トランジスタであり、絶縁表面を有
する基板である素子基板4331a、絶縁膜4023上に、ゲート電極層401、ゲート
絶縁層402、ソース電極層又はドレイン電極層として機能する配線層405a、405
b、ソース領域又はドレイン領域として機能するn層404a、404b、及び半導体
層403を含む。また、薄膜トランジスタ4010bを覆い、半導体層403に接する絶
縁層4020が設けられている。
なお、n層404a、404bを、ゲート絶縁層402と配線層405a、405bの
間に設ける構造としてもよい。また、n層404a、404bをゲート絶縁層及び配線
層の間と、配線層と半導体層の間と両方に設ける構造としてもよい。
薄膜トランジスタ4010bは、薄膜トランジスタ4010bを含む領域全てにおいてゲ
ート絶縁層402が存在し、ゲート絶縁層402と絶縁表面を有する基板である素子基板
4331aの間にゲート電極層401が設けられている。ゲート絶縁層402上には配線
層405a、405b、及びn層404a、404bが設けられている。そして、ゲー
ト絶縁層402、配線層405a、405b、及びn層404a、404b上に半導体
層403が設けられている。また、図示しないが、ゲート絶縁層402上には配線層40
5a、405bに加えて配線層を有し、該配線層は半導体層403の外周部より外側に延
在している。
薄膜トランジスタ4010cは、薄膜トランジスタ4010bにおいて、ソース電極層及
びドレイン電極層と半導体層とが、n層を介さずに接する構成である。
薄膜トランジスタ4010cは、薄膜トランジスタ4010cを含む領域全てにおいてゲ
ート絶縁層402が存在し、ゲート絶縁層402と絶縁表面を有する基板である素子基板
4331aの間にゲート電極層401が設けられている。ゲート絶縁層402上には配線
層405a、405bが設けられている。そして、ゲート絶縁層402、配線層405a
、405b上に半導体層403が設けられている。また、図示しないが、ゲート絶縁層4
02上には配線層405a、405bに加えて配線層を有し、該配線層は半導体層403
の外周部より外側に延在している。
薄膜トランジスタ4010dは、トップゲート型の薄膜トランジスタである。薄膜トラン
ジスタ4010dはプラナー型の薄膜トランジスタの例である。絶縁表面を有する基板で
ある素子基板4331a、絶縁膜4023上に、ソース領域又はドレイン領域として機能
するn層404a、404bを含む半導体層403、半導体層403上にゲート絶縁層
402が形成され、ゲート絶縁層402上にゲート電極層401が形成されている。また
層404a、404bと接してソース電極層又はドレイン電極層として機能する配線
層405a、405bが形成されている。n層404a、404bは、半導体層403
より低抵抗な半導体領域である。
薄膜トランジスタとしてトップゲート型の順スタガ薄膜トランジスタを用いてもよい。
本実施の形態では、シングルゲート構造を説明したが、ダブルゲート構造などのマルチゲ
ート構造でもよい。この場合、半導体層の上方及び下方にゲート電極層を設ける構造でも
良く、半導体層の片側(上方又は下方)にのみ複数ゲート電極層を設ける構造でもよい。
半導体層に用いられる半導体材料は特に限定されない。薄膜トランジスタの半導体層に用
いることのできる材料の例を説明する。
半導体素子が有する半導体層を形成する材料は、シランやゲルマンに代表される半導体材
料ガスを用いる気相成長法やスパッタリング法で作製される非晶質(アモルファス、以下
「AS」ともいう。)半導体、該非晶質半導体を光エネルギーや熱エネルギーを利用して
結晶化させた多結晶半導体、或いは微結晶(セミアモルファス若しくはマイクロクリスタ
ルとも呼ばれる。以下「SAS」ともいう。)半導体などを用いることができる。半導体
層はスパッタ法、LPCVD法、またはプラズマCVD法等により成膜することができる
微結晶半導体膜は、ギブスの自由エネルギーを考慮すれば非晶質と単結晶の中間的な準安
定状態に属するものである。すなわち、自由エネルギー的に安定な第3の状態を有する半
導体であって、短距離秩序を持ち格子歪みを有する。柱状または針状結晶が基板表面に対
して法線方向に成長している。微結晶半導体の代表例である微結晶シリコンは、そのラマ
ンスペクトルが単結晶シリコンを示す520cm−1よりも低波数側に、シフトしている
。即ち、単結晶シリコンを示す520cm−1とアモルファスシリコンを示す480cm
−1の間に微結晶シリコンのラマンスペクトルのピークがある。また、未結合手(ダング
リングボンド)を終端するため水素またはハロゲンを少なくとも1原子%またはそれ以上
含ませている。さらに、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、ネオンなどの希ガス元素を含
ませて格子歪みをさらに助長させることで、安定性が増し良好な微結晶半導体膜が得られ
る。
この微結晶半導体膜は、周波数が数十MHz〜数百MHzの高周波プラズマCVD法、ま
たは周波数が1GHz以上のマイクロ波プラズマCVD装置により形成することができる
。代表的には、SiH、Si、SiHCl、SiHCl、SiCl、S
iFなどの水素化珪素を水素で希釈して形成することができる。また、水素化珪素及び
水素に加え、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、ネオンから選ばれた一種または複数種の
希ガス元素で希釈して微結晶半導体膜を形成することができる。これらのときの水素化珪
素に対して水素の流量比を5倍以上200倍以下、好ましくは50倍以上150倍以下、
更に好ましくは100倍とする。
アモルファス半導体としては、代表的には水素化アモルファスシリコン、結晶性半導体と
しては代表的にはポリシリコンなどがあげられる。ポリシリコン(多結晶シリコン)には
、800℃以上のプロセス温度を経て形成されるポリシリコンを主材料として用いた所謂
高温ポリシリコンや、600℃以下のプロセス温度で形成されるポリシリコンを主材料と
して用いた所謂低温ポリシリコン、また結晶化を促進する元素などを用いて、非晶質シリ
コンを結晶化させたポリシリコンなどを含んでいる。もちろん、前述したように、微結晶
半導体又は半導体層の一部に結晶相を含む半導体を用いることもできる。
また、半導体の材料としてはシリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)などの単体のほか
GaAs、InP、SiC、ZnSe、GaN、SiGeなどのような化合物半導体も用
いることができる。
半導体層に、結晶性半導体膜を用いる場合、その結晶性半導体膜の作製方法は、種々の方
法(レーザ結晶化法、熱結晶化法、またはニッケルなどの結晶化を助長する元素を用いた
熱結晶化法等)を用いれば良い。また、SASである微結晶半導体をレーザ照射して結晶
化し、結晶性を高めることもできる。結晶化を助長する元素を導入しない場合は、非晶質
珪素膜にレーザ光を照射する前に、窒素雰囲気下500℃で1時間加熱することによって
非晶質珪素膜の含有水素濃度を1×1020atoms/cm以下にまで放出させる。
これは水素を多く含んだ非晶質珪素膜にレーザ光を照射すると非晶質珪素膜が破壊されて
しまうからである。
非晶質半導体膜への金属元素の導入の仕方としては、当該金属元素を非晶質半導体膜の表
面又はその内部に存在させ得る手法であれば特に限定はなく、例えばスパッタ法、CVD
法、プラズマ処理法(プラズマCVD法も含む)、吸着法、金属塩の溶液を塗布する方法
を使用することができる。このうち溶液を用いる方法は簡便であり、金属元素の濃度調整
が容易であるという点で有用である。また、このとき非晶質半導体膜の表面の濡れ性を改
善し、非晶質半導体膜の表面全体に水溶液を行き渡らせるため、酸素雰囲気中でのUV光
の照射、熱酸化法、ヒドロキシラジカルを含むオゾン水又は過酸化水素による処理等によ
り、酸化膜を成膜することが望ましい。
また、非晶質半導体膜を結晶化し、結晶性半導体膜を形成する結晶化工程で、非晶質半導
体膜に結晶化を促進する元素(触媒元素、金属元素とも示す)を添加し、熱処理(550
℃〜750℃で3分〜24時間)により結晶化を行ってもよい。結晶化を助長(促進)す
る元素としては、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、コバルト(Co)、ルテニウム(Ru
)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)
、白金(Pt)、銅(Cu)及び金(Au)から選ばれた一種又は複数種類を用いること
ができる。
結晶化を助長する元素を結晶性半導体膜から除去、又は軽減するため、結晶性半導体膜に
接して、不純物元素を含む半導体膜を形成し、ゲッタリングシンクとして機能させる。不
純物元素としては、n型を付与する不純物元素、p型を付与する不純物元素や希ガス元素
などを用いることができ、例えばリン(P)、窒素(N)、ヒ素(As)、アンチモン(
Sb)、ビスマス(Bi)、ボロン(B)、ヘリウム(He)、ネオン(Ne)、アルゴ
ン(Ar)、Kr(クリプトン)、Xe(キセノン)から選ばれた一種または複数種を用
いることができる。結晶化を促進する元素を含む結晶性半導体膜に、希ガス元素を含む半
導体膜を形成し、熱処理(550℃〜750℃で3分〜24時間)を行う。結晶性半導体
膜中に含まれる結晶化を促進する元素は、希ガス元素を含む半導体膜中に移動し、結晶性
半導体膜中の結晶化を促進する元素は除去、又は軽減される。その後、ゲッタリングシン
クとなった希ガス元素を含む半導体膜を除去する。
非晶質半導体膜の結晶化は、熱処理とレーザ光照射による結晶化を組み合わせてもよく、
熱処理やレーザ光照射を単独で、複数回行っても良い。
また、結晶性半導体膜を、直接基板にプラズマ法により形成しても良い。また、プラズマ
法を用いて、結晶性半導体膜を選択的に基板に形成してもよい。
また半導体層に、酸化物半導体を用いてもよい。例えば、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ
(SnO)なども用いることができる。ZnOを半導体層に用いる場合、ゲート絶縁層
をY、Al、TiO、それらの積層などを用い、ゲート電極層、ソース電
極層、ドレイン電極層としては、ITO、Au、Tiなどを用いることができる。また、
ZnOにInやGaなどを添加することもできる。
酸化物半導体としてInMO(ZnO)(m>0)で表記される薄膜を用いることが
できる。なお、Mは、ガリウム(Ga)、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、マンガン(M
n)及びコバルト(Co)から選ばれた一の金属元素又は複数の金属元素を示す。例えば
Mとして、Gaの場合があることの他、GaとNi又はGaとFeなど、Ga以外の上記
金属元素が含まれる場合がある。また、上記酸化物半導体において、Mとして含まれる金
属元素の他に、不純物元素としてFe、Niその他の遷移金属元素、又は該遷移金属の酸
化物が含まれているものがある。例えば、酸化物半導体層としてIn−Ga−Zn−O系
非単結晶膜を用いることができる。
酸化物半導体層(InMO(ZnO)(m>0)膜)としてIn−Ga−Zn−O系
非単結晶膜のかわりに、Mを他の金属元素とするInMO(ZnO)(m>0)膜を
用いてもよい。また、酸化物半導体層に適用する酸化物半導体として上記の他にも、In
−Sn−Zn−O系、In−Al−Zn−O系、Sn−Ga−Zn−O系、Al−Ga−
Zn−O系、Sn−Al−Zn−O系、In−Zn−O系、Sn−Zn−O系、Al−Z
n−O系、In−O系、Sn−O系、Zn−O系の酸化物半導体を適用することができる
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能
である。
100 基板
101 基板
102 表示素子
110 基板
111 基板
112 基板
113 基板
114 表示素子
115 表示素子
120 基板
121 基板
122 基板
123 基板
124 表示素子
125 表示素子
126 バックライト
200 表示制御部
201 CPU
203 記憶部
205 給電部
207 電源供給回路
209 内部メモリ
211 データ入力部
213 外部メモリ
215 映像信号発生回路
216 アンテナ
219 操作部
401 ゲート電極層
402 ゲート絶縁層
403 半導体層
404a n
405a 配線層
407 絶縁膜
421 薄膜トランジスタ
701 第1の表示パネル
702 第2の表示パネル
703 第3の表示パネル
704 第4の表示パネル
705 表示制御部
706A 走査線駆動回路
706B 走査線駆動回路
706C 走査線駆動回路
706D 走査線駆動回路
707A 第1の表示部
707B 第2の表示部
707C 第3の表示部
707D 第4の表示部
708 画素
709A 光センサ
709B 光センサ
709C 光センサ
709D 光センサ
710 画素回路
711 光強度比較回路
712 CPU
713 内部メモリ
714 映像信号発生回路
714A 信号線駆動回路
714B 信号線駆動回路
714C 信号線駆動回路
714D 信号線駆動回路
715 電源供給回路
715A 電源供給回路
715B 電源供給回路
715C 電源供給回路
715D 電源供給回路
716 信号送受信部
717 給電部
718 操作部
719 アンテナ部
920 配線
921 応力集中領域
922a 切り込み部
922b 切り込み部
923 封止基板
924 素子基板
925 補強板
4005 シール材
4008 液晶層
4010 薄膜トランジスタ
4011 薄膜トランジスタ
4013 液晶素子
4015 接続端子電極
4016 端子電極
4019 異方性導電膜
4020 絶縁層
4021 絶縁層
4023 絶縁膜
4030 電極層
4031 電極層
4032 絶縁膜
4301 第1の表示部
4302 第3の表示部
4304 操作部
4307 第2の表示部
4308 綴じ部
4309 表示ボタン
4310 第4の表示部
4311 第1の表示パネル
4312 第2の表示パネル
4313 第3の表示パネル
4321 走査線駆動回路
4322 走査線駆動回路
4323 信号線駆動回路
4324 FPC
4325 プリント基板
4326 応力集中領域
4329 FPC
4352 画素TFT
4507 表示部
4510 隔壁
4511 電界発光層
4513 発光素子
4514 充填材
4612 キャビティ
4613 球形粒子
4614 充填材
4712 液体
4713 マイクロカプセル
4812 空間
4814 リブ
7002 矢印
4010a 薄膜トランジスタ
4010b 薄膜トランジスタ
4010c 薄膜トランジスタ
4010d 薄膜トランジスタ
4321a 走査線駆動回路
4321b 走査線駆動回路
4322a 走査線駆動回路
4322b 走査線駆動回路
4323a 信号線駆動回路
4323b 信号線駆動回路
4324a FPC
4324b FPC
4327a プリント基板
4327b プリント基板
4331a 素子基板
4331b 素子基板
4332a 封止基板
4332b 封止基板
4350a 手
4350b 手
4615a 黒色領域
4615b 白色領域
4715a 微粒子
4715b 微粒子
4815a 粉粒体
4815b 粉粒体

Claims (1)

  1. 走査線駆動回路及び信号線駆動回路により表示制御が行われる表示部を有する複数の可撓性の表示パネルと、
    前記複数の表示パネルを固定する綴じ部とを有し、
    前記綴じ部には、前記信号線駆動回路が設けられ、
    前記表示パネルには、前記綴じ部と垂直方向の端部に前記走査線駆動回路が設けられている電子書籍。
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