JP2015222609A - 磁気記録用軟磁性合金及びスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)at.%で、Fe:Coの比を10:90〜70:30とし、かつ下記A群元素の1種又は2種以上を0.5〜29.5%、B群元素の1種又は2種以上を0.0〜29.5%を含有し、かつA群元素とB群元素との和を10〜30%とし、水素含有量が20ppm未満で、残部Co、Fe及び不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録用軟磁性合金。
A群元素:Ta,Nb,V
B群元素:Cr,Mo,W
A群元素:Ta,Nb,V
B群元素:Cr,Mo,W
C群元素:Ti,Zr,Hfの1種又は2種以上を5%未満とする、ただしA群元素とB群元素とC群元素との和を10〜30%
D群元素:Ni,Mnの1種又は2種を30%以下
E群元素:Al,Cuの1種又は2種を5%以下
F群元素:Si,Ge,P,B,Cの1種又は2種以上を10%以下
(5)前記(1)〜(3)のいずれか1に記載した磁気記録用軟磁性合金を用いた磁気記録媒体にある。
本発明は磁気記録用軟磁性合金に関するものなので、十分な飽和磁束密度、好ましくは10kG以下のBs、より好ましくは9kG以下のBs、アモルファス性、硬さ、および耐食性が必要である。
Fe:Coの比を10:90〜70:30
FeやCoは、軟磁性元素構成するもので、FeとCoとの比を定めたのは、軟磁性を確保し、かつ飽和磁束密度、アモルファス性、硬さ、および耐食性に大きく影響するパラメータであり、特にFe:Coの比を10未満では飽和磁束密度が十分ではなく、また70を超えると耐食性が劣化する。したがって、その比を10:90〜70:30とした。
Ta,Nb,Vは、いずれもアモルファス性と硬さを改善する元素である。しかし、0.5%未満ではその改善効果が十分ではない。したがって、その下限を0.5%とした。好ましくは2〜20%とする。さらに好ましくは、4〜15%とする。しかし、29.5%を超えると、その効果が飽和することからその上限を29.5%とした。
Cr,Mo,Wは、いずれもアモルファス性と耐食性を改善する元素である。A群元素と同時に含むことでその効果改善効果が増す。好ましくは0.5〜20%とする。さらに好ましくは、1〜10%とする。しかし、29.5%を超えると、その効果が飽和することからその上限を29.5%とした。
A群元素とB群元素との和を10〜30%とした理由は、いずれもアモルファス性と硬さを改善する元素であるが、A群元素とB群元素を同時に含むとその改善効果がさらに増す。しかし、A群元素とB群元素との和が10%未満ではその改善効果が十分ではない。したがって、その下限を10%とした。好ましくは、14〜22%とする。さらに好ましくは、16〜20%とする。しかし、30%を超えると、その効果が飽和することからその上限を30%とした。
Ti,Zr,Hfは、いずれもアモルファス性を改善する元素である。しかし、5%を超えると飽和磁束密度が十分に得られなくなる。したがって、その範囲を5%以下とした。好ましくは2〜4%とする。
A群元素からC群元素との和を10〜30%とした理由は、いずれもアモルファス性と耐食性を改善する元素である。しかし、A群元素からC群元素との和が10%未満ではその効果が十分でなく、また、30%を超えると飽和磁束密度が十分に得られなくなる。したがって、その範囲を10〜30%とした。
Ni,Mnは、いずれも飽和磁束密度を調整する元素である。しかし、30%を超えると飽和磁束密度が十分に得られなくなる。したがって、その範囲を30%以下とした。好ましくは、10%以下とする。さらに好ましくは、5%以下とする。
Al,Cuは、いずれも耐食性を向上させる元素である。しかし、5%を超えるとアモルファス性が低下する。したがって、その上限を5%とした。好ましくは1〜4%とする。
Si,Ge,P,B,Cは、いずれもアモルファス性を改善する元素である。しかし、10%を超えるとその改善効果が飽和するとともに、飽和磁束密度が低下する。したがって、その範囲を10%以下とした。好ましくは1〜8%とする。
水素はスパッタリングターゲット材の機械強度を下げ、また軟磁性合金の耐食性を低下させる元素である。よって水素含有量を20ppm以下とした。好ましくは10ppm以下、より好ましくは5ppm以下とする。
表1および表2に示す本発明例No.1〜No.34の成分組成について、溶解原料を秤量し、減圧Arガス雰囲気あるいは真空雰囲気の耐火物坩堝内で誘導加熱溶解したあと、坩堝下部の直径8mmのノズルより出湯し、Arガスによりアトマイズした。このガスアトマイズ粉末の500μm以上の成形に向かない粗粉を除去し、かつ水素含有量を低減するために、成形に用いる粉末中に占める、5μm以下の粉末の量が、10%以下となるよう微粉を除去し、110℃の炉に入れて水分乾燥を実施した粉末を原料として、外径220mm、内径210mm、長さ200mmのSC製の缶に脱気装入した。水素含有量を低減した粉末は水素量20ppm未満となる。上記の粉末充填ビレットを温度1100℃、圧力120MPa、保持時間4時間の条件で熱間静水圧プレスによって焼結し、焼結体を作製した。上記の方法で作製した固化成形体を、ワイヤーカット、旋盤加工、平面研磨により、直径180mm、厚さ7mmの円盤状に加工し、スパッタリングターゲット材とした。
通常、垂直磁気記録媒体における薄膜は、その成分と同じ成分のスパッタリングターゲット材をスパッタし、ガラス基板などの上に成膜し得られる。ここでスパッタにより成膜された薄膜は急冷されている。これに対し、本発明では実施例、比較例の供試材として、単ロール式の液体急冷装置にて作製した急冷薄帯を用いている。これは実際にスパッタにより急冷され成膜された薄膜の、成分による諸特性への影響を、簡易的に液体急冷薄帯により評価したものである
50mgの供試材を秤量し、3%HNO3 水溶液を10ml滴下した後、室温にて1hr放置後、3%HNO3 水溶液中へのCo溶出量を分析した。Co溶出量が500ppm未満をA、500以上1000ppm未満をB、1000ppm以上をCとした。
特許出願人 山陽特殊製鋼株式会社
代理人 弁理士 椎 名 彊
Claims (5)
- at.%で、Fe:Coの比を10:90〜70:30とし、かつ下記A群元素の1種又は2種以上を0.5〜29.5%、B群元素の1種又は2種以上を0.0〜29.5%を含有し、かつA群元素とB群元素との和を10〜30%とし、水素含有量が20ppm未満で、残部Co、Fe及び不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録用軟磁性合金。
A群元素:Ta,Nb,V
B群元素:Cr,Mo,W - at.%で、Fe:Coの比を10:90〜70:30とし、かつ下記A群元素の1種又は2種以上を0.5〜29.5%、B群元素の1種又は2種以上を0.5〜29.5%を含有し、かつA群元素とB群元素との和を10〜30%とし、水素含有量が20ppm未満で、残部Co、Fe及び不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録用軟磁性合金。
A群元素:Ta,Nb,V
B群元素:Cr,Mo,W - 請求項1または2に記載した磁気記録用軟磁性合金に、さらに、下記C群元素からF群元素に記載された元素の内の1種または2種以上の元素を各群に記載したat.%の範囲内で含有することを特徴とする磁気記録用軟磁性合金。
C群元素:Ti,Zr,Hfの1種又は2種以上を5%未満とする、ただしA群元素とB群元素とC群元素との和を10〜30%
D群元素:Ni,Mnの1種又は2種を30%以下
E群元素:Al,Cuの1種又は2種を5%以下
F群元素:Si,Ge,P,B,Cの1種又は2種以上を10%以下 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載した磁気記録用軟磁性合金からなることを特徴とする磁気記録用軟磁性合金形成用スパッタリングターゲット材。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載した磁気記録用軟磁性合金を用いた磁気記録媒体。
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