JP5714397B2 - 磁気記録用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5714397B2 JP5714397B2 JP2011092631A JP2011092631A JP5714397B2 JP 5714397 B2 JP5714397 B2 JP 5714397B2 JP 2011092631 A JP2011092631 A JP 2011092631A JP 2011092631 A JP2011092631 A JP 2011092631A JP 5714397 B2 JP5714397 B2 JP 5714397B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- soft magnetic
- alloy
- less
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 28
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 title claims description 14
- 239000013077 target material Substances 0.000 title claims description 14
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 31
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 31
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 29
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 17
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 6
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 6
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000005280 amorphization Methods 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 101000993059 Homo sapiens Hereditary hemochromatosis protein Proteins 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
- G11B5/667—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers including a soft magnetic layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/11—Making amorphous alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C33/00—Making ferrous alloys
- C22C33/003—Making ferrous alloys making amorphous alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C45/00—Amorphous alloys
- C22C45/02—Amorphous alloys with iron as the major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C45/00—Amorphous alloys
- C22C45/04—Amorphous alloys with nickel or cobalt as the major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/18—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by cathode sputtering
- H01F41/183—Sputtering targets therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
- H01F10/16—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing cobalt
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
Description
(1)at.%で、Fe:0〜70%を含み、かつ下記(A)群の各種元素の1種または2種以上を5〜20%含有し、かつ下記(B)群の各種元素の1種または2種以上を5〜30%含有し、かつ(A)群元素と(B)群元素との和を10〜35%とし、残部Coおよび不可避的不純物からなり、結晶化温度が773K以上であることを特徴とする磁気記録用軟磁性合金。
(A)Ti,Zr,Hf
(B)Cr,Mo,W
(C)V,Nb,Ta
(D)Mn
(E)Al、Cu
(F)Si、Ge、P、B、C
(7)前記(1)〜(5)のいずれか1項に記載の磁気記録用軟磁性合金を用いた磁気記録媒体にある。
Fe:0〜70%
Feは、軟磁性材料を得るための元素である。しかし、70%を超えると、耐食性が劣化するために、その上限を70%とした。
Ti,Zr,Hfは、Co系合金において、非晶質化(アモルファス化性)を確保するための元素であり、その元素の1種または2種以上の合計含有量が、5%未満ではその効果を十分達成することができない。また、20%を超えると、アモルファス化しないことから、その範囲を5〜20%とした。好ましくは6〜15%とする。さらに好ましくは9〜14%とする。
Cr,Mo,Wは、Co合金において、高い結晶化温度を実現するための元素であり、その元素の1種または2種以上の合計含有量が、5%未満ではその効果を十分達成することができない。また、30%を超えると、アモルファス化しないことから、その範囲を5〜30%とした。好ましくは10〜25%とする。
(A)群元素と(B)群元素との和を10〜35%とした理由は、10%未満ではアモルファス化しない。また、35%超えるとアモルファス化しないことと、磁性も低下することから、その範囲を10〜35%とした。
V,Nb,Taは、Co合金において、耐食性を著しく向上させ、かつアモルファス化を促進するための元素であり、特に(B)群と複合添加した場合には高耐食性と高い結晶化温度を実現することが可能な元素であり、その元素の1種または2種以上の合計含有量が、30%を超えると、アモルファス化しないことから、その上限を30%とした。好ましくは20%、さらに好ましくは10%とする。
Mnは、Co合金において、飽和磁束密度を調整するための元素であり、その元素の含有量が30%を超えると、磁性が低下することから、上限を30%とした。好ましくは20%、さらに好ましくは10%とする。
Al、Cuは、Co合金において、耐食性を向上するための元素である。しかし、1種または2種の合計含有量が5%を超えるとアモルファス化しないことから、その上限を5%とした。
Si、Ge、P、B、Cは、Co合金において、アモルファス性を改善する元素である。しかし、1種または2種以上の合計含有量が10%を超えるとアモルファス化しないことから、その上限を10%とした。
通常、垂直磁気記録媒体における薄膜は、その成分と同じ成分のスパッタリングターゲット材をスパッタし、ガラス基板などの上に成膜し得られる。ここでスパッタにより成膜された薄膜は急冷されている。これに対し、本発明では実施例、比較例の供試材として、単ロール式の液体急冷装置にて作製した急冷薄帯を用いている。これは実際にスパッタにより急冷され成膜された薄膜の、成分による諸特性への影響を、簡易的に液体急冷薄帯により評価したものである。
表1および表2に示す成分組成に秤量した原料30gを径10×40mm程度の水冷銅型にて減圧Ar中でアーク溶解し、急冷薄帯の溶解母材とした。急冷薄帯の作製条件は、単ロール方式で、径15mmの石英管中にてこの溶解母材にセットし、出湯ノズル径を1mmとし、雰囲気気圧61kPa、噴霧差圧69kPa、銅ロール(径300mm)の回転数3000rpm、銅ロールと出湯ノズルのギャップ0.3mmにて出湯した。出湯温度は各溶解母材の溶け落ち直後とした。このようにして作製した急冷薄帯を供試材とし、以下の項目を評価した。
VSM装置(振動試料型磁力計)にて、印加磁場1200kA/mで測定した。供試材の重量は15mg程度、0.3T以上0.8T未満の飽和磁束密度のものは○、0.8T以上のものについては◎とした。0.3%未満のものは×とした。
通常、非晶質材料のX線回折パターンを測定すると、回折ピークが見られず、非晶質特有のハローパターンとなる。また、完全な非晶質でない場合は、回折ピークは見られるものの、結晶材料と比較してピーク高さが低くなり、かつハローパターンも見られる。そこで下記の方法にて非晶質性の評価とした。
非晶質性の評価としては、ガラス板に両面テープで供試材を貼り付け、X線回折装置にて回折パターンを得た。このとき、測定面は急冷薄帯の銅ロール接触面となるように供試材を貼り付けた。X線源はCu−α線で、スキャンスピード4°/minで測定した。この回折パターンにハローパターンが確認できるものを○、全くハローパターンが見られないものを×として非晶質性の評価とした。
通常、非晶質材料は、加熱に伴い結晶化を起こし、結晶化した温度を結晶化温度と呼ぶ。また、結晶化の際には発熱反応が起きる。結晶化温度は、結晶化に伴い発熱する温度を測定することで評価される。そこで下記の方法にて結晶化温度を評価した。示差走査熱量測定(DSC)により加熱速度0.67Ks-1の条件下で調べた。773K以上873未満の結晶化温度のものについては○、873K以上の結晶化温度については◎、773K未満の結晶化温度のものについては×とした。
ガラスペレットに急冷薄帯を両面テープで貼り付けた試料にて、塩水噴霧試験(5%NaCl水溶液で35℃、16時間)を実施した評価で、発錆が認められなかったものを○、発錆が認められたものを×とした。
[急冷薄帯の耐食性(HNO3)]
50mgの供試材を秤量し、3at.%HNO3水溶液を10ml滴下した後、室温にて1hr放置後、3%HNO3水溶液中へのCo溶出量を分析。Co溶出量が500ppm未満を◎、500以上1000ppm未満を○、1000ppm以上を×した。
以上総括すると、急冷薄帯にて評価した結果とスパッタリングターゲット材を用いて成膜したスパッタ膜の評価とが同等の傾向であることを確認した。
以上総括すると、急冷薄帯にて評価した結果とスパッタリングターゲット材を用いて成膜したスパッタ膜の評価とが同等の傾向であることを確認した。
特許出願人 山陽特殊製鋼株式会社
代理人 弁理士 椎 名 彊
Claims (7)
- at.%で、Fe:0〜70%を含み、かつ下記(A)群の各種元素の1種または2種以上を5〜20%含有し、かつ下記(B)群の各種元素の1種または2種以上を5〜30%含有し、かつ(A)群元素と(B)群元素との和を10〜35%とし、残部Coおよび不可避的不純物からなり、結晶化温度が773K以上であることを特徴とする磁気記録用軟磁性合金。
(A)Ti,Zr,Hf
(B)Cr,Mo,W - 請求項1に記載した磁気記録用軟磁性合金に加え、at.%で下記(C)群の各種元素の1種または2種以上を30%以下含有し、残部Coおよび不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録用軟磁性合金。
(C)V,Nb,Ta - 請求項1または2項に記載した磁気記録用軟磁性合金に加え、at.%で下記(D)元素を30%以下含有し、残部Coおよび不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録用軟磁性合金。
(D)Mn - 請求項1〜3のいずれか1項に記載した磁気記録用軟磁性合金に加えて、at.%で下記(E)群の各種元素の1種または2種を5at%以下、残部Coおよび不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録用軟磁性合金。
(E)Al、Cu - 請求項1〜4のいずれか1項に記載した磁気記録用軟磁性合金に加えて、at.%で下記(F)群の各種元素の1種または2種以上を10at%以下、残部Coおよび不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録用軟磁性合金。
(F)Si、Ge、P、B、C - 請求項1〜5のいずれか1項に記載の磁気記録用軟磁性合金を用いたスパッタリングターゲット材。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の磁気記録用軟磁性合金を用いた磁気記録媒体。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011092631A JP5714397B2 (ja) | 2010-10-26 | 2011-04-19 | 磁気記録用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 |
CN201180051301.1A CN103221568B (zh) | 2010-10-26 | 2011-10-24 | 磁记录用软磁性合金、溅射靶材及磁记录介质 |
SG2013031174A SG189986A1 (en) | 2010-10-26 | 2011-10-24 | Soft magnetic alloy for magnetic recording, sputtering target material, and magnetic recording medium |
PCT/JP2011/074448 WO2012057087A1 (ja) | 2010-10-26 | 2011-10-24 | 磁気記録用軟磁性合金、スパッタリングターゲット材および磁気記録媒体 |
MYPI2013700669A MY182967A (en) | 2010-10-26 | 2011-10-24 | Soft magnetic alloy for magnetic recording, sputtering target material, and magnetic recording medium |
TW100138891A TWI512120B (zh) | 2010-10-26 | 2011-10-26 | A magneto-magnetic alloy for magnetic recording, a sputtering target material, and a magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010240184 | 2010-10-26 | ||
JP2010240184 | 2010-10-26 | ||
JP2011092631A JP5714397B2 (ja) | 2010-10-26 | 2011-04-19 | 磁気記録用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012108997A JP2012108997A (ja) | 2012-06-07 |
JP5714397B2 true JP5714397B2 (ja) | 2015-05-07 |
Family
ID=45993795
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011092631A Expired - Fee Related JP5714397B2 (ja) | 2010-10-26 | 2011-04-19 | 磁気記録用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5714397B2 (ja) |
CN (1) | CN103221568B (ja) |
MY (1) | MY182967A (ja) |
SG (1) | SG189986A1 (ja) |
TW (1) | TWI512120B (ja) |
WO (1) | WO2012057087A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5917045B2 (ja) * | 2011-08-17 | 2016-05-11 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層用合金およびスパッタリングターゲット材 |
JP6405261B2 (ja) * | 2014-05-01 | 2018-10-17 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 磁気記録用軟磁性合金及びスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 |
CN104388842B (zh) * | 2014-12-02 | 2016-08-24 | 北京科技大学 | 一种Fe-Cr-B系耐腐蚀块体非晶合金及其制备方法 |
JP6506659B2 (ja) * | 2015-08-24 | 2019-04-24 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 磁気記録用非晶質合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 |
CN105755356A (zh) * | 2016-03-15 | 2016-07-13 | 梁梅芹 | 一种铁基纳米晶软磁合金的制备方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62263945A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-16 | Victor Co Of Japan Ltd | 軟磁性合金 |
JPH05267031A (ja) * | 1992-02-14 | 1993-10-15 | Takeshi Masumoto | 磁心材料 |
JP2856725B2 (ja) * | 1997-05-26 | 1999-02-10 | 松下電器産業株式会社 | 軟磁性合金膜の形成法 |
JP3182399B2 (ja) * | 1997-09-17 | 2001-07-03 | 株式会社東芝 | 軟磁性合金膜とその製造方法、磁気ヘッド、および磁気ディスク |
TWI369406B (en) * | 2006-10-10 | 2012-08-01 | Hitachi Metals Ltd | Co-fe-zr based alloy sputtering target material and process for production thereof |
JP5605787B2 (ja) * | 2008-07-14 | 2014-10-15 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金を成膜するためのスパッタリングターゲット材とその製造方法 |
JP2010111943A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-05-20 | Hitachi Metals Ltd | スパッタリングターゲット材の製造方法 |
JP2010159491A (ja) * | 2008-12-12 | 2010-07-22 | Hitachi Metals Ltd | Co−Fe系合金スパッタリングターゲット材 |
JP5617112B2 (ja) * | 2010-01-14 | 2014-11-05 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2011181140A (ja) * | 2010-03-01 | 2011-09-15 | Hitachi Metals Ltd | 磁気記録媒体用Fe−Co系合金軟磁性膜 |
-
2011
- 2011-04-19 JP JP2011092631A patent/JP5714397B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-10-24 MY MYPI2013700669A patent/MY182967A/en unknown
- 2011-10-24 WO PCT/JP2011/074448 patent/WO2012057087A1/ja active Application Filing
- 2011-10-24 SG SG2013031174A patent/SG189986A1/en unknown
- 2011-10-24 CN CN201180051301.1A patent/CN103221568B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-10-26 TW TW100138891A patent/TWI512120B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103221568A (zh) | 2013-07-24 |
SG189986A1 (en) | 2013-06-28 |
WO2012057087A1 (ja) | 2012-05-03 |
JP2012108997A (ja) | 2012-06-07 |
CN103221568B (zh) | 2016-03-23 |
MY182967A (en) | 2021-02-05 |
TWI512120B (zh) | 2015-12-11 |
TW201231689A (en) | 2012-08-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI627286B (zh) | CoFe-based alloy for soft magnetic film layer and sputtering target for perpendicular magnetic recording medium | |
JP5726615B2 (ja) | 磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材 | |
JP5698023B2 (ja) | 磁気記録用軟磁性合金及びスパッタリングターゲット材ならびに磁気記録媒体 | |
JP6405261B2 (ja) | 磁気記録用軟磁性合金及びスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
JP5714397B2 (ja) | 磁気記録用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
JP6210503B2 (ja) | 磁気記録用軟磁性用合金およびスパッタリングターゲット材 | |
JP6431496B2 (ja) | 磁気記録媒体のシード層用合金、スパッタリングターゲット材および磁気記録媒体 | |
JP5631659B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
JP5797398B2 (ja) | 磁気記録用Ni系合金及びスパッタリングターゲット材ならびに磁気記録媒体 | |
JP2020186422A (ja) | Fe基ナノ結晶合金およびその製造方法 | |
JP5474902B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層に用いる合金およびスパッタリングターゲット材並びに軟磁性薄膜層を有する垂直磁気記録媒体。 | |
JP5031443B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金 | |
JP6442460B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用CoFe系合金およびスパッタリングターゲット材 | |
JP6506659B2 (ja) | 磁気記録用非晶質合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
CN107251139B (zh) | Ni-Cu系磁记录介质的籽晶层用合金和溅射靶材及磁记录介质 | |
JP2020135907A (ja) | 垂直磁気記録媒体の軟磁性層形成用スパッタリングターゲット、並びに、垂直磁気記録媒体及びその軟磁性層 | |
JP2000208315A (ja) | 高飽和磁束密度低鉄損Fe系軟磁性合金 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140303 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140812 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141003 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150310 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150311 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5714397 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |