CN112585285A - 磁记录介质的软磁性层用Co系合金 - Google Patents
磁记录介质的软磁性层用Co系合金 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112585285A CN112585285A CN201980054140.8A CN201980054140A CN112585285A CN 112585285 A CN112585285 A CN 112585285A CN 201980054140 A CN201980054140 A CN 201980054140A CN 112585285 A CN112585285 A CN 112585285A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- soft magnetic
- magnetic layer
- based alloy
- recording medium
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 42
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 claims description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 24
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 4
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 2
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017488 Cu K Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017541 Cu-K Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012387 aerosolization Methods 0.000 description 1
- 230000005260 alpha ray Effects 0.000 description 1
- 238000005280 amorphization Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 238000013001 point bending Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
- G11B5/667—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers including a soft magnetic layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
- C22C19/07—Alloys based on nickel or cobalt based on cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/851—Coating a support with a magnetic layer by sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
- H01F10/16—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing cobalt
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/18—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by cathode sputtering
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
本发明的课题在于，提供能够得到强韧性优异的靶、并且能够得到饱和磁通密度小的软磁性层的Co系合金，为了解决上述课题，本发明提供一种磁记录介质的软磁性层用Co系合金，其含有选自Nb、Mo、Ta和W中的1种或2种以上的元素XA：11at％以上且25at％以下、以及选自V、Cr、Mn、Ni、Cu和Zn中的1种或2种以上的元素XB：0.4at％以上且10at％以下，余量为Co、Fe和不可避免的杂质，元素XA与元素XB的合计含有率低于30at％。
Description
技术领域
本发明涉及磁记录介质的软磁性层。详细而言，本发明涉及适合磁记录介质的软磁性层的Co系合金。
背景技术
对于磁记录介质而言，大容量是重要的。为了实现大容量，需要高记录密度化。
采用面内磁记录方式的介质已被普及。近年来，代替该介质，采用垂直磁记录方式的介质(垂直磁记录介质)不断普及。垂直磁记录介质中，易磁化轴相对于磁性膜中的介质面沿垂直方向取向。垂直磁记录介质适合于高记录密度。
垂直磁记录介质具有磁记录层和软磁性层。垂直磁记录介质进一步在磁记录层与软磁性层之间具有籽晶层、基底膜层等。
软磁性层防止在记录时从磁头产生的磁通量的扩散，确保垂直方向的磁场。专利文献1(日本特开2006-294090公报)中公开了一种软磁性层，其材质为Fe-Co系合金。
专利文献2(日本特开2008-299905公报)中公开了一种软磁性层，其为含有Zr、Hf、Nb、Ta等非晶质化促进元素的Co系合金。该Co系合金的饱和磁通密度大。大的饱和磁通密度能够有助于高记录密度。
专利文献3(日本特开2011-68985公报)中公开了一种软磁性层，其材质为含有Y且含有Ta或Nb的Co系合金。该Co系合金的饱和磁通密度大。大的饱和磁通密度能够有助于高记录密度。
专利文献4(日本特开2011-99166公报)中公开了一种软磁性层，其材质为含有Zr、Hf、Y、Ta、Nb等的Co系合金。该Co系合金的饱和磁通密度大。大的饱和磁通密度能够有助于高记录密度。
大的饱和磁通密度是“侧写”的原因。该“侧写”是在合金通过写入用磁头被磁化的状态下，磁的影响超过必要地波及到周围的广范围的现象。发生“侧写”的磁记录介质中，每单位记录信息的写入所需的空间大。“侧写”阻碍磁记录介质的高记录密度。
从抑制“侧写”的观点出发，提出了饱和磁通密度经调整的软磁性层。专利文献5(日本特开2015-144032公报)中公开了一种饱和磁通密度为0.5T-1.1T的软磁性层。专利文献6(日本特开2016-84538公报)中公开了一种饱和磁通密度为0.34T-1.18T的软磁性层。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2006-294090公报
专利文献2：日本特开2008-299905公报
专利文献3：日本特开2011-68985公报
专利文献4：日本特开2011-99166公报
专利文献5：日本特开2015-144032公报
专利文献6：日本特开2016-84538公报
发明内容
发明要解决的问题
如前所述，从抑制“侧写”的观点出发，近年来，指向饱和磁通密度小的软磁性层。为了抑制饱和磁通密度，向合金添加元素是有效的。但是，向合金添加的元素会与Fe和Co一起形成金属间化合物。包含这样的金属间化合物的靶是脆的，在溅射中容易产生裂纹。
本发明的目的在于，提供能够得到强韧性优异的靶并且能够得到饱和磁通密度小的软磁性层的Co系合金。
用于解决问题的手段
根据一个观点，本发明提供一种磁记录介质的软磁性层用Co系合金。本发明涉及的磁记录介质的软磁性层用Co系合金含有选自Nb、Mo、Ta和W中的1种或2种以上的元素XA：11at％以上且25at％以下、以及选自V、Cr、Mn、Ni、Cu和Zn中的1种或2种以上的元素XB：0.4at％以上且10at％以下。该合金中，余量为Co、Fe和不可避免的杂质，元素XA与元素XB的合计含有率低于30at％。
根据另一观点，本发明提供一种磁记录介质的软磁性层用溅射靶。本发明涉及的磁记录介质的软磁性层用溅射靶的材质由本发明涉及的Co系合金制成。即，本发明涉及的磁记录介质的软磁性层用溅射靶的材质为Co系合金，该Co系合金含有选自Nb、Mo、Ta和W中的1种或2种以上的元素XA：11at％以上且25at％以下、以及选自V、Cr、Mn、Ni、Cu和Zn中的1种或2种以上的元素XB：0.4at％以上且10at％以下。该合金中，余量为Co、Fe和不可避免的杂质，元素XA与元素XB的合计含有率低于30at％。
根据再另一观点，本发明提供一种磁记录介质。本发明涉及的磁记录介质具有软磁性层，该软磁性层含有本发明涉及的Co系合金。本发明涉及的磁记录介质中的软磁性层通过使用材质为Co系合金的靶的溅射而得到，该Co系合金含有选自Nb、Mo、Ta和W中的1种或2种以上的元素XA：11at％以上且25at％以下、以及选自V、Cr、Mn、Ni、Cu和Zn中的1种或2种以上的元素XB：0.4at％以上且10at％以下。该合金中，余量为Co、Fe和不可避免的杂质，元素XA与元素XB的合计含有率低于30at％。
发明效果
由本发明涉及的Co系合金能够得到耐裂纹性优异的靶。另外，由本发明涉及的Co系合金能够得到难以发生“侧写”的磁记录介质。
具体实施方式
以下，基于优选的实施方式详细说明本发明。
[合金]
本发明涉及的磁记录介质的软磁性层用Co系合金适合于溅射靶。该Co系合金的组成为：
元素XA：11at％以上且25at％以下、
元素XB：0.4at％以上且10at％以下、以及
余量：Co、Fe和不可避免的杂质。
[基础元素]
作为Co系合金的基础的元素为Fe和Co。含有Fe和Co的软磁性层可以发挥充分的磁性。凭借该软磁性层，磁记录层的磁化稳定。Fe的含有率(at％)与Co的含有率(at％)之比优选为10∶90以上且90∶10以下。包含该比值为10∶90以上的合金的软磁性层能够抑制饱和磁通密度。从该观点出发，该比值特别优选为20∶80以上。包含该比值为90∶10以下的合金的软磁性层能够有助于磁记录介质的高记录密度。从该观点出发，该比值特别优选为80∶20以下。
[元素XA]
元素XA选自由Nb、Mo、Ta和W构成的组A。作为元素XA，可以从组A选择1种元素，也可以选择2种以上的元素。元素XA能够有助于软磁性层的非晶性。元素XA还能有助于抑制饱和磁通密度。从这些观点出发，Co系合金中的元素XA的含有率优选11at％以上，更优选13at％以上，特别优选15at％以上。元素XA与Fe或Co一起形成金属间化合物。该金属间化合物脆。由含有该金属间化合物的合金得到的靶在溅射时容易产生裂纹。从靶的耐裂纹性的观点出发，元素XA的含有率优选25at％以下，更优选23at％以下，特别优选21at％以下。需要说明的是，在从组A选择2种以上的元素的情况下，“元素XA的含有率”是指该2种以上的元素的合计含有率。
[元素XB]
元素XB选自由V、Cr、Mn、Ni、Cu和Zn构成的组B。作为元素XB，可以从组B选择1种元素，也可以选择2种以上的元素。元素XB能够抑制饱和磁通密度。元素XB是第4周期元素。另一方面，作为基础的Fe和Co也是第4周期元素。因此，即使添加元素XB，也基本不会生成Fe与元素XB的金属间化合物，也基本不会生成Co与元素XB的金属间化合物。元素XB使靶难以脆化。通过添加元素XB，能够兼顾低饱和磁通密度和高强度的靶。
从能够抑制饱和磁通密度的观点出发，Co系合金中的元素XB的含有率优选0.4％以上，更优选1at％以上，特别优选3at％以上。从饱和磁通密度不过小的观点出发，元素XB的含量优选10at％以下。需要说明的是，在从组B选择2种以上的元素的情况下，“元素XB的含有率”是指该2种以上的元素的合计含有率。
[元素XA与元素XB的合计含有率]
从饱和磁通密度不过小的观点出发，元素XA的含有率与元素XB的含有率的合计优选低于30at％，更优选28at％以下，特别优选26at％以下。
[磁记录介质的制造]
包含本发明涉及的合金的粉末能够通过雾化而得到。优选的雾化为气雾化。对该粉末根据需要进行分级(例如提取粒径为500μm以下的粒子)。分级后的粉末被填充于碳钢制的罐中。该罐经真空脱气，被密封而得到坯料。对该坯料实施HIP成形(热等静压)。HIP成形的优选压力为50MPa以上且300MPa以下，优选烧结温度为800℃以上且1350℃以下。通过HIP成形可以得到成形体。对该成形体实施加工而得到靶。通过对该靶实施溅射，可以得到具有与该靶的成分相同的成分的软磁性层。在磁记录介质中引入该软磁性层。
实施例
以下，通过实施例来明确本发明的效果，但不应基于该实施例的记载来有限地解释本发明。
如前所述，软磁性层通过对具有与其成分相同的成分的靶实施溅射而成膜。该软磁性层通过骤冷、凝固而得到。软磁性层的形成需要很大的劳动力，因此在以下的评价中，使用通过单辊法得到的试验片。单辊法与溅射同样具有骤冷、凝固的工序。通过采用单辊法，要通过溅射得到的软磁性层的评价能够简易地进行。
[非晶性]
将按照成为下述的表1和2所示的组成的方式称量的30g的原料投入至直径为10mm且长度为40mm的水冷铜铸模中。对该铸模进行减压，在氩气气氛中电弧熔解，得到熔解母材。将该母材投入直径为15mm的石英罐中，从喷嘴喷出熔液，供于单辊法而得到试验片。该单辊法的条件如下。
出熔液喷嘴的直径：1mm
气氛的气压：61kPa
喷雾差压：69kPa
辊的材质：铜
辊的直径：300mm
辊的旋转速度：3000rpm
辊与出熔液喷嘴的间隔：0.3mm
需要说明的是，各表记载的合金的余量为不可避免的杂质。
按照测定面成为与铜辊的接触面的方式，用双面胶带将试验片贴附于玻璃板。通过X射线衍射装置，得到该试验片的衍射图案。衍射的条件如下。
X射线源：Cu-Kα射线
扫描速率：4°/min
非晶材料的X射线衍射图案中，看不到衍射峰，能够得到特有的晕图案。不完全的非晶材料的X射线衍射图案中，可以看到衍射峰，但与结晶材料的峰相比峰的高度低，且也可以看到晕图案。因此，基于下述的基准，进行评分。其结果示于下述的表1和2。
A：可以看到晕图案
C：看不到晕图案
[饱和磁通密度]
通过与前述的非晶性的评价中叙述的方法同样的方法得到试验片。利用振动样品磁力计(VSM)来测定该试验片的饱和磁通密度。测定条件如下。
施加磁场：1200kA/m
试验片的质量：约15mg
基于下述的基准进行评分。其结果示于下述的表1和2。
A：0.3T以上且小于1.0T
B：1.0T以上且1.3T以下
C：小于0.3T或超过1.3T
[耐裂纹性]
将按照成为下述的表1和2所示的组成的方式称量的30g的原料投入至直径为40mm且长度为50mm的水冷铜铸模中。对该铸模进行减压，在氩气气氛中进行电弧熔解，得到熔解母材。对该熔解母材从直径为8mm的喷嘴喷出熔液，之后立即向该溶解母材喷雾高压的Ar气体，得到粉末。将该粉末分级到500μm以下。将分级后的粉末填充到碳钢制的罐中。对该罐进行真空脱气并密封，而得到坯料。对该坯料实施HIP成形(热等静压)。HIP成形的条件如下。
温度：1000℃
压力：120MPa
保持时间：2小时
由所得到的成形体采集纵20mm、横1.8mm、高1.8mm的试验片。将该试验片供于三点弯曲试验。由试验片断裂时或弯曲时的负荷算出抗弯强度。基于该抗弯强度，按照下述的基准进行评分。其结果示于下述的表1和2。
A：抗弯强度为600MPa以上
B：抗弯强度为450MPa以上且小于600MPa
C：抗弯强度小于450MPa
【表1】
【表2】
如表1和2所示，由本发明涉及的Co系合金能够得到各性能优异的软磁性层。根据评价结果，本发明的优势性明显。
产业上的可利用性
以上说明的Co系合金适合于各种的磁记录介质的软磁性层。
Claims (3)
1.一种磁记录介质的软磁性层用Co系合金，其含有：
选自Nb、Mo、Ta和W中的1种或2种以上的元素XA：11at％以上且25at％以下；以及
选自V、Cr、Mn、Ni、Cu和Zn中的1种或2种以上的元素XB：0.4at％以上且10at％以下，
余量为Co、Fe和不可避免的杂质，
所述元素XA与所述元素XB的合计含有率低于30at％。
2.一种磁记录介质的软磁性层用溅射靶，
其由权利要求1所述的Co系合金制成。
3.一种磁记录介质，其具有软磁性层，
所述软磁性层含有权利要求1所述的Co系合金。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018-154016 | 2018-08-20 | ||
| JP2018154016A JP6784733B2 (ja) | 2018-08-20 | 2018-08-20 | 磁気記録媒体の軟磁性層用Ｃｏ系合金 |
| PCT/JP2019/032255 WO2020040082A1 (ja) | 2018-08-20 | 2019-08-19 | 磁気記録媒体の軟磁性層用Ｃｏ系合金 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN112585285A true CN112585285A (zh) | 2021-03-30 |
Family
ID=69593104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201980054140.8A Pending CN112585285A (zh) | 2018-08-20 | 2019-08-19 | 磁记录介质的软磁性层用Co系合金 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6784733B2 (zh) |
| CN (1) | CN112585285A (zh) |
| SG (1) | SG11202101584XA (zh) |
| TW (1) | TWI823989B (zh) |
| WO (1) | WO2020040082A1 (zh) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104081455A (zh) * | 2012-02-03 | 2014-10-01 | 山阳特殊制钢株式会社 | 具有低饱和磁通密度并且用于磁性记录介质的软磁性膜层用合金以及溅射靶材料 |
| CN104508167A (zh) * | 2012-08-14 | 2015-04-08 | 山阳特殊制钢株式会社 | Fe-Co系合金溅射靶材及其制造方法和软磁性薄膜层及使用了它的垂直磁记录介质 |
| JP2015222609A (ja) * | 2014-05-01 | 2015-12-10 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 磁気記録用軟磁性合金及びスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08249643A (ja) * | 1995-03-13 | 1996-09-27 | Kobe Steel Ltd | 磁気記録媒体および磁性膜形成用ターゲット |
| JP2006127619A (ja) * | 2004-10-28 | 2006-05-18 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| JP2008108380A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-05-08 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体及び磁気記録装置 |
| JP2009211791A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
| KR20090105746A (ko) * | 2008-04-03 | 2009-10-07 | 성균관대학교산학협력단 | 수직자기기록매체의 제조방법 |
| JP6094848B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2017-03-15 | 日立金属株式会社 | 垂直磁気記録媒体用Ｆｅ−Ｃｏ系合金軟磁性膜の製造方法 |
| JP2013143156A (ja) * | 2012-01-10 | 2013-07-22 | Hitachi Metals Ltd | Ｃｏ−Ｆｅ系合金軟磁性下地層 |
| JP2016149170A (ja) * | 2015-02-12 | 2016-08-18 | 日立金属株式会社 | Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｂ系合金スパッタリングターゲット材および軟磁性膜 |
| TWI619817B (zh) * | 2016-10-26 | 2018-04-01 | 光洋應用材料科技股份有限公司 | 鈷鐵鈮基靶材 |
| JP2018085156A (ja) * | 2016-11-22 | 2018-05-31 | 日立金属株式会社 | 軟磁性膜形成用スパッタリングターゲット |
-
2018
- 2018-08-20 JP JP2018154016A patent/JP6784733B2/ja active Active
-
2019
- 2019-08-19 CN CN201980054140.8A patent/CN112585285A/zh active Pending
- 2019-08-19 SG SG11202101584XA patent/SG11202101584XA/en unknown
- 2019-08-19 WO PCT/JP2019/032255 patent/WO2020040082A1/ja active Application Filing
- 2019-08-20 TW TW108129579A patent/TWI823989B/zh active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104081455A (zh) * | 2012-02-03 | 2014-10-01 | 山阳特殊制钢株式会社 | 具有低饱和磁通密度并且用于磁性记录介质的软磁性膜层用合金以及溅射靶材料 |
| CN104508167A (zh) * | 2012-08-14 | 2015-04-08 | 山阳特殊制钢株式会社 | Fe-Co系合金溅射靶材及其制造方法和软磁性薄膜层及使用了它的垂直磁记录介质 |
| JP2015222609A (ja) * | 2014-05-01 | 2015-12-10 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 磁気記録用軟磁性合金及びスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 |
| CN106415720A (zh) * | 2014-05-01 | 2017-02-15 | 山阳特殊制钢株式会社 | 磁记录用软磁性合金及溅射靶材以及磁记录介质 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6784733B2 (ja) | 2020-11-11 |
| TW202015039A (zh) | 2020-04-16 |
| JP2020029576A (ja) | 2020-02-27 |
| SG11202101584XA (en) | 2021-03-30 |
| WO2020040082A1 (ja) | 2020-02-27 |
| TWI823989B (zh) | 2023-12-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5253781B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材 | |
| JP6405261B2 (ja) | 磁気記録用軟磁性合金及びスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
| TWI508114B (zh) | A magneto-magnetic recording medium for magnetic recording, a sputtering target, and a magnetic recording medium | |
| US20030228238A1 (en) | High-PTF sputtering targets and method of manufacturing | |
| JP2010018869A (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材並びにその製造方法 | |
| TWI478183B (zh) | A magneto-magnetic recording medium for magnetic recording and a sputtering target, and a magnetic recording medium | |
| CN109074824B (zh) | 磁记录介质的晶种层用合金、溅射靶材和磁记录介质 | |
| JP5477724B2 (ja) | 軟磁性膜用Ｃｏ−Ｆｅ系合金、軟磁性膜および垂直磁気記録媒体 | |
| TWI480383B (zh) | A magneto-optical recording medium for a magnetic recording medium, a sputtering target material, and a magnetic recording medium | |
| TWI512120B (zh) | A magneto-magnetic alloy for magnetic recording, a sputtering target material, and a magnetic recording medium | |
| JP6998431B2 (ja) | 磁気記録媒体の軟磁性層用Ｃｏ系合金 | |
| JP2012216273A (ja) | 垂直磁気記録媒体用Ｆｅ−Ｃｏ系合金軟磁性膜および垂直磁気記録媒体のＦｅ−Ｃｏ系合金軟磁性膜形成用粉末焼結スパッタリングターゲット材 | |
| CN112585285A (zh) | 磁记录介质的软磁性层用Co系合金 | |
| JP7157573B2 (ja) | 磁気記録媒体のシード層用Ｎｉ系合金 | |
| JP7274361B2 (ja) | 磁気記録媒体のシード層用合金 | |
| TWI567206B (zh) | 軟磁性膜及軟磁性膜形成用濺鍍靶材 | |
| JP5650169B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材 | |
| TWI853954B (zh) | 磁性記錄媒體之種晶層用合金 | |
| CN107251139B (zh) | Ni－Cu系磁记录介质的籽晶层用合金和溅射靶材及磁记录介质 | |
| JP6506659B2 (ja) | 磁気記録用非晶質合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
| JP2020135907A (ja) | 垂直磁気記録媒体の軟磁性層形成用スパッタリングターゲット、並びに、垂直磁気記録媒体及びその軟磁性層 | |
| JP2013011018A (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20210330 |