JP2015164215A - ダイシング装置及びダイシング方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ワークを延性モードで切断ないし溝入れ加工するダイシング装置10において、ダイヤモンド砥粒を焼結した多結晶ダイヤモンドによって構成された円盤状ブレード26と、円盤状ブレード26を回転駆動する回転駆動手段であるスピンドル28とを備える。
【選択図】図1
Description
まず、特許文献1に記載される電鋳ブレードは、図21に示すように、ダイヤモンド砥粒92が結合材(メタルボンド)94内に散在しており、表面には鋭利な先端部を有するダイヤモンド砥粒92が突出した状態となっている。このとき、ダイヤモンド砥粒92の突出位置や突出量はばらばらであり、原理的に砥粒突き出しを精度良く制御することは困難である。このため、1つの加工単位における切り込み深さを高精度に制御することはできない。特に厚さが100μm以下の極薄のワークに対して切断加工が行われる場合、ある一定以上の切り込みでクラックが発生し、ダイヤモンド砥粒の先端部がワークに対して致命的な切り込みを与えてしまうことがある。その結果、クラック同士が結びつくことで、多かれ少なかれチッピングが発生してしまう問題がある。
また、電鋳ブレードの場合、機械加工によってブレード先端部を薄く鋭利に加工しようとしても、ダイヤモンド砥粒がまばらに存在するため、一様に薄く加工したり、テーパをつけるように加工しようとしても、その加工に伴って表面からダイヤモンド砥粒が脱落してしまうので、ブレード先端部を鋭利化することには限界がある。
また、電鋳ブレードは、熱伝導性が悪く、切断加工時に溝側面との摩擦抵抗による発熱によってブレード内に熱が蓄積されやすく、ブレードの反りを招く恐れもある。
一方、特許文献2に記載されるダイヤモンドブレードには、以下に示すような問題がある。
また、異なる組成のダイヤモンド層を積層して形成する場合、その組成によって熱膨張が変化しやすくなる。このため、ダイシング加工中に発熱してくると各ダイヤモンド層間で熱応力が発生し、ブレードの真円度や平面度を維持できなくなる可能性がある。このとき、場合によっては反りが発生することもある。特にブレードが薄くなると、その影響はより顕著となる。
また、CVD法でダイヤモンドブレードを製作する場合、成膜分布によってブレードの刃厚分布が決定される。特に成膜分布にうねりがある場合に、そのうねりを除去することはできない。すなわち、機械加工でうねりを除去しようとしても、クラックが入るなどしてしまい、薄いブレードを成形することは困難である。したがって、高精度な振れのないスピンドルフランジに基準面同士を合わせて取り付け、振れ精度を向上させることは原理的に難しい。
また、ブレードによる切断溝の溝幅を細くするためにはブレードの外周部(先端部)はできるだけ細い方が好ましいが、フランジに当接させる部分は高精度な基準となる平面を維持するため反りが発生しない程度の厚みを必要とする。しかし、ブレードを一体物として製作する上で、こうした厚みの異なる部分を有するブレードとする場合、成膜による方法では、一体物で製作することはできず実質不可能である。なお、そのために異種の材料を接合するのでは、熱応力の関係から変形し、真円度、平面度を乱してしまうため、後述する本発明のような延性モードの加工を実現することが難しい場合がある。ここで、研削や切削加工を行う際に、螺旋形や流線形の切り屑が出るような状態でワークの加工を行う場合を延性モードの加工という。
また、上記のダイヤモンドブレードでは、CVD法によって成膜されたダイヤモンド層からなる膜内に圧縮応力が形成されるので、膜が堆積するにしたがって、応力の入り方が異なる。このため、最終的に膜を剥してブレードにする際に、左右の両面において圧縮応力の入り方に違いがあり、結果的にブレードが大きく反ることになる。こうしたブレードの反りを修正するにしても、修正する手段はなく、膜の応力によって歩留りが悪くなることが懸念される。
また、他の問題として、ブレード自体の問題ではないが、たとえ、ブレードを精度よく製作し、先端部が鋭利でかつ、切断加工時の熱においても平面状態が変化することのない理想的なブレードを製作できたとしても、そのブレードの使用方法も重要となる。特に、ブレード自体をワークに対して鉛直方向に押圧してクラックを与えて切り進めるスクライビングなどの場合は、明らかに脆性破壊を利用した加工となるため、後述する本発明のような延性モードの加工を行うことはできない。
また、切断するに従って除去体積が大きく変化して、1つの切れ刃が除去する体積自体が変化し、その結果、1つの切れ刃が除去する上での所定の臨界切り込み深さを制御できず、結果的に、切断加工中に切断抵抗が大きく変化して、そのアンバランスさからワーク材料内にクラックを及ぼす場合もある。こうした場合も、脆性破壊を誘発する原因となり、延性モードの加工を実現することはできない。すなわち、ワークに対して微視的に一つの切れ刃が一定の切込み深さを維持するために、ワークに対しても一定の切込みを与えて加工中は定常状態を確保する必要がある。
スクライビングは、材料内部にクラックを発生させるだけであるため、材料内にほとんど入り込まない。刃先の稜線のみを作用させるため、刃先角は鈍角(上記文献段落[0070]参照)であることが普通である。鋭角ましてや20度以下とすることは、捩りによる欠損などを考慮すると到底考えられない。
スクライビングは、ホイールがワークに当接させられた状態(食い込んだ状態)で進行方向が変化すると捩りの応力によって刃先が欠損することがある。そのため、同じダイヤモンドの焼結体であったとしてもダイヤモンドの重量%を65%〜75%としている。その結果、耐摩耗性、耐衝撃性だけでなく耐捩り強度特性を向上させている。ダイヤモンドの重量%を75%以上とすると、ホイールの硬度自体は上昇するが、耐捩り強度が低下する。よって比較的ダイヤモンド含有量は少なく設定される。
さらにホイールの構造が異なる。スクライビングホイールはホルダを有しており、ホルダはスクライビングホイールを回転自在に保持する要素である。ホルダは、主としてピンと支持枠体を有するので、ピンの部分(軸の部分)は回転しない。ホイールの内径部が軸受になり、軸であるピンの部分と、相対的に擦れることによって回転し、材料表面に垂直方向のスクライビングライン(縦割れ)を形成する。
この垂直方向にクラックを与えて加工するか、それとも一切クラックを発生させることなく加工するかが、スクライビングと本発明に係るダイシングとの決定的に異なる原理の違いである。
また、スクライビングは表面だけにスクライバーの垂直応力によって押圧してスクライビングラインをつける。スクライビングの場合の外周刃の溝の役割は、ホイールの刃先の突起部が脆性材料基板に当接しつつ(食い込みつつ)、材料に垂直なクラックを発生させるためのものである(上記文献段落[0114]参照)。すなわち、溝以外の部分が、材料に食い込んで垂直クラックを及ぼす程度のスクライビングラインをつけることができるような溝である。よって、溝というよりも、溝と溝の間の山部分が材料にどのように食い込むかが重要になる。
・ スピンドル回転数:20000rpm
・ 送り速度:1mm/s
・ 切込み深さ:100μm
・ 評価指針:10μm以上のチッピングがあるかないかで評価。(理想的には完全にチッピングがないこと。)
・ 送り速度:5mm/s
・ ワーク加工対象:石英ガラス(ガラス材料)
・ 加工処理時間:30分間
・ 上記処理により、わずかに1〜2μm程度のコバルト焼結助剤が除去されて凹みが形成された。さらに、非常に薄いエッチング液(弱酸系)を薄く塗って純水供給なしにドライ環境で処理することでさらに凹みが深くなった。
・ 送り速度:5mm/s
・ ワーク加工対象:GC600ドレッシング砥石(70mm□)
(GC600とは、炭化ケイ素質研削材の粒度600番手(#600)を意味する。粒度は日本工業規格(JIS:Japan Industrial Standards)R6001に基づく)
・ 加工処理時間:15分間
・ この処理でもわずかにコバルト焼結助剤が除去されて凹みが形成された。
W
送りテーブル:JK702
波長:1060nm
出力:250W
パルス幅:0.2msec
焦点位置0.1mm
ブレード回転数2.8rpm
ガス:高純度窒素ガス0.1L/min
穴径50μm
ブレード材料:住友電工製DA150(ダイヤモンド粒径5μm)
外径50.8mm
このようなパルス式ファイバレーザによって、図23に示すように、0.1mmピッチでブレード外周端上に直径0.05mmの一定間隔で連続した半円状のシャープな切れ刃を形成することができる。こうした切れ刃形成ではダイヤモンド粒径は5μmの大きさであるが、一つの切れ刃自体は50μm切れ刃とすることができる。またこれを等間隔に形成すれば、回転数を高速にすることによって、見かけの間隔が小さくなり、延性モードのダイシングを可能とする(例:スピンドル回転数10000rpm以上の場合など)。
本実施形態のブレード26としては、両側テーパタイプ(両Vタイプ)のものを使用した。一方、従来の電鋳ブレードとしては、ブレード厚みが50μm(#600)を使用した。その他の条件については以下のとおりである。
・ブレード回転数:20000rpm
・ワーク送り速度(加工送り速度):10mm/s
・切り込み深さ:30μm
・ワーク:シリコンウェーハ(厚み780μm)
比較実験1の結果を図8A及び8Bに示す。なお、図8A及び8Bは、溝入れ加工後のワーク表面の様子を示したものである。
次に、比較実験1と同様のブレードを用いて、以下の条件で比較実験を行った。
・ブレード回転数:20000rpm
・ワーク送り速度(加工送り速度):10mm/s
・切り込み深さ:50μm
・ワーク:サファイアウェーハ(厚み200μm)
比較実験2の結果を図9A及び9Bに示す。なお、図9A及び9Bは、溝入れ加工後のワーク表面の様子を示したものであり、図9Aは本実施形態のブレード26を用いた場合、図9Bは従来の電鋳ブレードを用いた場合である。
次に、ストレート形状のブレードを用いて、以下の条件で比較実験を行った。ブレード厚みは、20μm、50μm、70μm厚で行った。
・ブレード回転数:20000rpm
・ワーク送り速度(加工送り速度):2mm/s
・切り込み深さ:200μm
・ワーク:4H-SiCウェーハ Si面(厚み330μm)
図10Aから10Cは本実施形態のブレード26による溝入れ加工後のワーク表面の様子を示したものであり、図10Aは、ブレード厚みが20μmの場合、図10Bは、ブレード厚みが50μmの場合、図10Cは、ブレード厚みが70μmの場合を示す。
次に、先と同様にストレート形状のブレードを用いて、以下の条件で比較実験を行った。ブレード厚みは、20μm厚で行った。
・ブレード回転数:10000rpm
・ワーク送り速度(加工送り速度):1mm/s
・切り込み深さ:40μm
・ワーク:超硬WC(WC:タングステンカーバイド)
図11A及び11Bは、本実施形態のブレード26による溝入れ加工後のワーク表面(図11A)及び断面(図11B)を示している。同図のように、超硬WCのような硬質材料でも理想的な延性モード加工を行うことができることを示している。
次に、先と同様にストレート形状のブレードを用いて、以下の条件で比較実験を行った。ブレード厚みは、50μm厚で行った。
・ブレード回転数:20000rpm
・ワーク送り速度(加工送り速度):1mm/s
・切り込み深さ:500μm(フルカット)
・ワーク:ポリカーボネード
図12A及び12Bは、それぞれ、本実施形態のブレード26による溝入れ加工後のワーク表面、及びワーク断面を示している。図12Aに示すように、ワーク表面から見るとシャープな切断ラインが観察される。図12Bに示すように、従来の電鋳ブレードと比較しても鏡面の切断面を得たことが分かる。
次に、先と同様にストレート形状のブレードを用いて、以下の条件で比較実験を行った。ブレード厚みは、50μm厚で行った。
・ブレード回転数:20000rpm
・ワーク送り速度(加工送り速度):1mm/s
・切り込み深さ:500μm(フルカット)
・ワーク:CFRP
比較実験6の結果を図13A及び13Bに示す。なお、図13A及び13Bは、溝入れ加工後のワーク断面の様子を示したものであり、図13Aは本実施形態のブレード26を用いた場合、図13Bは従来の電鋳ブレードを用いた場合である。
本実施形態において、ブレード26の外周部に設けられる切刃部40の断面形状は、図4Aから4Cに示した断面形状のうち、図4Bに示した両側テーパタイプ(両Vタイプ)のものが好ましく用いられる。
本実施形態において、延性モードで加工するためにはブレード26の周方向における砥粒配列について考慮する必要がある。その理由としては以下のとおりである。
延性モードの加工を安定して行うためには、前述したように、深さ方向においては切り込みを0.15μm程度以下にする必要がある。この切り込みを安定的に行うためには、切り込み幅から考慮されるワーク材料の厚み方向変位(縦方向変位)も考慮しなくてはならない。
特許文献1にあるような電鋳ブレードの場合、ダイヤモンドを分散させ、その上からメッキを行うため、ダイヤモンドはまばらに存在し、しかもそれらは突き出した構成となる。その結果、突き出した部分は、当然のように過剰な切り込みを与えてしまうこともあり、脆性破壊を誘発する。なお、溝の底部や側面部も連続している部分は、ワーク材料も互いに密に構成されているため、すぐさまクラックは入りにくいが、ブレードが抜ける部分が最もクラックや割れが入りやすい。それは、ブレードが抜ける際に、バリがでることと同じであり、ワーク材料は連続ではなく支えがないからである。
次に、ブレード材料の強度(弾性率)とワーク材料の強度(弾性率)の関係について述べる。
微粒子の供給方法としては、上記のような作用効果が得られるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、以下に示す方法(第1〜第3例)を好ましく採用することができる。
微粒子の供給方法の一例(第1例)として、ブレードそのものに毛細管構造体で液体に含ませた微粒子をブレードに塗り込む方法がある。
微粒子の供給方法の他の例(第2例)として、ワーク上でブレードが進行していく部分にあらかじめジェル状の微粒子を塗布しておく方法がある。
微粒子の供給方法の更に他の例(第3例)として、粒子が塗布された薄いシートをワーク上に貼り付け、その薄いシートごとカットしていくことで、自然にシート上の微粒子を巻き込みながらワークとブレードの間に微粒子を作用させていく方法がある。
Claims (2)
- ワークを延性モードで切断ないし溝入れ加工するダイシング装置において、
ダイヤモンド砥粒を焼結した多結晶ダイヤモンドによって構成された円盤状ブレードと、
前記円盤状ブレードを回転駆動する回転駆動手段と、
を備えるダイシング装置。 - ワークを延性モードで切断ないし溝入れ加工するダイシング方法において、
ダイヤモンド砥粒を焼結した多結晶ダイヤモンドによって構成された円盤状ブレードを回転駆動させて前記ワークを加工するダイシング方法。
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JP6077799B2 (ja) * | 2012-08-31 | 2017-02-08 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | カッターホイール並びにその製造方法 |
JP6287774B2 (ja) * | 2014-11-19 | 2018-03-07 | 住友電気工業株式会社 | 炭化珪素半導体装置の製造方法 |
JP6600267B2 (ja) * | 2016-03-15 | 2019-10-30 | 株式会社ディスコ | 被加工物の切削方法 |
US10707146B2 (en) * | 2016-04-21 | 2020-07-07 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device and method for manufacturing same, for releaved stress and high heat conductivity |
KR102322397B1 (ko) * | 2016-10-05 | 2021-11-05 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 유리 수지 적층체의 제조 방법 및 유리 수지 적층체 |
EP3766634B1 (en) * | 2018-03-16 | 2024-08-07 | Orbray Co., Ltd. | Diamond crystal polishing method and diamond crystal |
JP7009306B2 (ja) * | 2018-05-21 | 2022-01-25 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
WO2021020484A1 (ja) * | 2019-07-31 | 2021-02-04 | マニー株式会社 | 歯科用ダイヤモンドバー |
JP2021040097A (ja) * | 2019-09-05 | 2021-03-11 | 株式会社ディスコ | 被加工物の切削方法 |
CN112318337A (zh) * | 2019-12-20 | 2021-02-05 | 沈阳和研科技有限公司 | 一种砂轮划片机切割有翘曲变形玻璃的方法 |
US11348798B2 (en) * | 2020-02-07 | 2022-05-31 | Akoustis, Inc. | Methods of forming integrated circuit devices using cutting tools to expose metallization pads through a cap structure and related cutting devices |
JP7394712B2 (ja) * | 2020-06-24 | 2023-12-08 | Towa株式会社 | 切断装置及び切断品の製造方法 |
TWI832179B (zh) * | 2022-03-22 | 2024-02-11 | 盛新材料科技股份有限公司 | 晶圓定位治具及使用其的晶圓加工方法 |
CN115026824A (zh) * | 2022-06-16 | 2022-09-09 | 华北电力大学 | 一种临场机器人风轮叶片打磨控制方法 |
CN117300844B (zh) * | 2023-11-28 | 2024-02-02 | 中铁工程装备集团(天津)有限公司 | 一种具有圆跳动检测功能的磨削设备 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002192469A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-10 | Allied Material Corp | 超砥粒薄刃切断砥石 |
JP2003249464A (ja) * | 2002-02-22 | 2003-09-05 | Tokuyama Corp | チップ貼設シート |
JP2005082414A (ja) * | 2003-09-04 | 2005-03-31 | Tokyo Metropolis | セラミック材の切削方法及び切削装置 |
JP2007118581A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-05-17 | Hiroshi Ishizuka | 硬脆性材料の薄板及びその製造方法 |
WO2010103946A1 (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-16 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 溝加工ツールおよびこれを用いた薄膜太陽電池の溝加工方法 |
JP2011190124A (ja) * | 2010-03-12 | 2011-09-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ダイヤモンド多結晶体 |
JP2012106478A (ja) * | 2010-10-26 | 2012-06-07 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd | スクライブヘッドおよびスクライブ装置 |
Family Cites Families (60)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3156077A (en) * | 1963-02-06 | 1964-11-10 | Continental Machines | Diamond edge saw blade |
US3371452A (en) * | 1965-02-08 | 1968-03-05 | Christensen Diamond Prod Co | Diamond saw or milling blades |
US3574580A (en) * | 1968-11-08 | 1971-04-13 | Atomic Energy Commission | Process for producing sintered diamond compact and products |
US3912500A (en) * | 1972-12-27 | 1975-10-14 | Leonid Fedorovich Vereschagin | Process for producing diamond-metallic materials |
US4151686A (en) * | 1978-01-09 | 1979-05-01 | General Electric Company | Silicon carbide and silicon bonded polycrystalline diamond body and method of making it |
US4180048A (en) * | 1978-06-12 | 1979-12-25 | Regan Barrie F | Cutting wheel |
AU583299B1 (en) * | 1984-08-24 | 1989-04-27 | Australian National University, The | Diamond compacts and process for making same |
DE3583567D1 (de) * | 1984-09-08 | 1991-08-29 | Sumitomo Electric Industries | Gesinterter werkzeugkoerper aus diamant und verfahren zu seiner herstellung. |
JPS61104045A (ja) | 1984-10-26 | 1986-05-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 工具用ダイヤモンド焼結体 |
US5010043A (en) * | 1987-03-23 | 1991-04-23 | The Australian National University | Production of diamond compacts consisting essentially of diamond crystals bonded by silicon carbide |
JPH05144937A (ja) * | 1991-11-18 | 1993-06-11 | Fujitsu Miyagi Electron:Kk | ダイシングブレード |
JPH06151586A (ja) * | 1992-11-12 | 1994-05-31 | Sony Corp | ダイシング方法および装置 |
JP3209818B2 (ja) * | 1993-03-08 | 2001-09-17 | 株式会社東京精密 | ダイシング装置の切削刃取付構造 |
JPH07276137A (ja) | 1994-03-31 | 1995-10-24 | Osaka Diamond Ind Co Ltd | 切削・研削用工具 |
US5479911A (en) * | 1994-05-13 | 1996-01-02 | Kulicke And Soffa Investments Inc | Diamond impregnated resinoid cutting blade |
US5888129A (en) * | 1996-05-15 | 1999-03-30 | Neff; Charles E. | Grinding wheel |
JP3610716B2 (ja) * | 1997-01-23 | 2005-01-19 | トヨタ自動車株式会社 | 鋳物のシール面の加工方法 |
US20040112359A1 (en) * | 1997-04-04 | 2004-06-17 | Chien-Min Sung | Brazed diamond tools and methods for making the same |
WO1999003641A1 (fr) * | 1997-07-16 | 1999-01-28 | The Ishizuka Research Institute, Ltd. | Materiau composite stratifie contenant du diamant et procede de fabrication de ce materiau |
US20040112360A1 (en) * | 1998-02-12 | 2004-06-17 | Boucher John N. | Substrate dicing method |
JP2002521225A (ja) * | 1998-07-31 | 2002-07-16 | サンーゴバン アブレイシブズ,インコーポレイティド | ろう付けダイアモンド層を含むロータリードレッシング工具 |
JP2001038636A (ja) * | 1999-07-26 | 2001-02-13 | Kimiko Sueda | ホイールカッターの薄刃ブレード |
JP3308246B2 (ja) | 1999-08-18 | 2002-07-29 | 株式会社リード | 希土類磁石切断用ダイヤモンドブレードの芯金 |
JP3892204B2 (ja) | 2000-03-29 | 2007-03-14 | 株式会社リード | 希土類磁石切断用ブレード及びその製造方法 |
EP1618994B1 (en) * | 2001-01-16 | 2010-06-16 | Nikon Corporation | Process for producing an optical element using a whetstone |
US6706319B2 (en) * | 2001-12-05 | 2004-03-16 | Siemens Westinghouse Power Corporation | Mixed powder deposition of components for wear, erosion and abrasion resistant applications |
US20030159555A1 (en) * | 2002-02-22 | 2003-08-28 | Perry Edward Robert | Thin wall singulation saw blade and method |
JP2003282490A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-03 | Hitachi Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2003326466A (ja) | 2002-05-09 | 2003-11-18 | Read Co Ltd | 高剛性切断用ブレード及びその製造方法 |
TWI238753B (en) * | 2002-12-19 | 2005-09-01 | Miyanaga Kk | Diamond disk for grinding |
US7959841B2 (en) * | 2003-05-30 | 2011-06-14 | Los Alamos National Security, Llc | Diamond-silicon carbide composite and method |
JP2005001941A (ja) * | 2003-06-12 | 2005-01-06 | Thk Co Ltd | ダイヤモンドホイール及びスクライブ装置 |
US20050210755A1 (en) * | 2003-09-05 | 2005-09-29 | Cho Hyun S | Doubled-sided and multi-layered PCBN and PCD abrasive articles |
JP2005129741A (ja) | 2003-10-24 | 2005-05-19 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ダイシングブレード及びダイシング方法 |
JP4340184B2 (ja) * | 2004-04-13 | 2009-10-07 | 株式会社ナノテム | 砥石 |
US6981909B2 (en) * | 2004-06-04 | 2006-01-03 | General Electric Company | Method for conditioning superabrasive tools |
US7762872B2 (en) * | 2004-08-24 | 2010-07-27 | Chien-Min Sung | Superhard cutters and associated methods |
JP2006082197A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Toyoda Mach Works Ltd | 砥石車 |
JP4714453B2 (ja) | 2004-10-25 | 2011-06-29 | 株式会社リード | ダイヤモンドまたはcBN工具及びその製造方法 |
JP2006253441A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Kumamoto Univ | ブレード加工方法 |
KR100639778B1 (ko) * | 2005-05-03 | 2006-10-31 | 조창신 | 절삭부 구조 및 상기 절삭부구조를 갖는 톱날 |
EP1901896B1 (en) * | 2005-06-27 | 2014-12-03 | Husqvarna AB | Blade and tool with such a blade |
US20070023026A1 (en) * | 2005-07-28 | 2007-02-01 | Broyles Michelle | Dicing blade |
JP2007216377A (ja) * | 2006-01-20 | 2007-08-30 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ダイシング装置及びダイシング方法 |
WO2008004365A1 (fr) * | 2006-07-07 | 2008-01-10 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Appareil et procédé de découpage en dés |
WO2008015629A1 (en) * | 2006-07-31 | 2008-02-07 | Element Six (Production) (Pty) Ltd | Abrasive compacts |
KR100804049B1 (ko) * | 2006-11-16 | 2008-02-18 | 신한다이아몬드공업 주식회사 | 다이아몬드 공구 및 다이아몬드 공구의 세그먼트 제조방법 |
DE202007013306U1 (de) * | 2007-09-22 | 2008-04-24 | Bohle Ag | Schneidrädchen |
EP2292398A4 (en) * | 2008-06-05 | 2017-05-31 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | Scribing wheel and method for scribing brittle material substrate |
JP2010005778A (ja) | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Mitsubishi Materials Corp | 電鋳ブレード |
GB0902230D0 (en) * | 2009-02-11 | 2009-03-25 | Element Six Production Pty Ltd | Polycrystalline super-hard element |
JP2010234597A (ja) | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Mitsubishi Materials Corp | 切断ブレード、切断ブレードの製造方法及び切断加工装置 |
US20110073094A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-03-31 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article with solid core and methods of making the same |
WO2011145698A1 (ja) * | 2010-05-21 | 2011-11-24 | 本田技研工業株式会社 | 砥石、砥石の製造方法、中ぐり工具、砥粒位置決め治具、及び、逃げ面成形方法 |
CN101870008B (zh) * | 2010-06-11 | 2012-01-11 | 西安点石超硬材料发展有限公司 | 基于锯式切割qfn封装基板的烧结金属基金刚石锯刀 |
JP5067457B2 (ja) | 2010-07-29 | 2012-11-07 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | スクライビングホイール、スクライブ装置、およびスクライブ方法 |
JP4852178B1 (ja) * | 2011-04-26 | 2012-01-11 | 株式会社テクノホロン | ダイシング装置 |
JP5759005B2 (ja) * | 2011-08-24 | 2015-08-05 | 新日鉄住金マテリアルズ株式会社 | ベベリング砥石 |
KR101252406B1 (ko) * | 2011-09-07 | 2013-04-08 | 이화다이아몬드공업 주식회사 | 절삭성이 우수한 브레이징 본드 타입 다이아몬드 공구 제조 방법 |
US9316059B1 (en) * | 2012-08-21 | 2016-04-19 | Us Synthetic Corporation | Polycrystalline diamond compact and applications therefor |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002192469A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-10 | Allied Material Corp | 超砥粒薄刃切断砥石 |
JP2003249464A (ja) * | 2002-02-22 | 2003-09-05 | Tokuyama Corp | チップ貼設シート |
JP2005082414A (ja) * | 2003-09-04 | 2005-03-31 | Tokyo Metropolis | セラミック材の切削方法及び切削装置 |
JP2007118581A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-05-17 | Hiroshi Ishizuka | 硬脆性材料の薄板及びその製造方法 |
WO2010103946A1 (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-16 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 溝加工ツールおよびこれを用いた薄膜太陽電池の溝加工方法 |
JP2011190124A (ja) * | 2010-03-12 | 2011-09-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ダイヤモンド多結晶体 |
JP2012106478A (ja) * | 2010-10-26 | 2012-06-07 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd | スクライブヘッドおよびスクライブ装置 |
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