JP2015045091A - Cu−Ga系スパッタリングターゲット、同ターゲットの製造方法、光吸収層及び該光吸収層を用いた太陽電池 - Google Patents

Cu−Ga系スパッタリングターゲット、同ターゲットの製造方法、光吸収層及び該光吸収層を用いた太陽電池 Download PDF

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Abstract

【課題】Cu−In−Ga−Se四元(CIGS)系光吸収薄膜系太陽電池を作製する際に、Na含有層や基板からのNa拡散遮断層を別途作製する必要がなく、CIGS層中のアルカリ金属濃度を比較的均一にできるCu−Ga系ターゲット、同ターゲットの製造方法、同ターゲットから作製された光吸収層、及び同光吸収層を用いたCIGS系太陽電池の提供。
【解決手段】ガリウム(Ga)原子数の、ガリウム(Ga)及び銅(Cu)の原子数の合計に対する比率(Ga/(Ga+Cu))が0.2〜0.6であり、かつアルカリ金属を含有するCu-Ga系スパッタリングターゲット、及びその製造方法。上記ターゲットを用いて光吸収層を成膜し、形成する太陽電池。
【選択図】なし

Description

本発明は、本発明は薄膜太陽電池層の光吸収層であるCu−In−Ga−Se(以下、CIGSと記載する)四元系薄膜の作製時に使用されるCu−Ga系スパッタリングターゲット、同Cu−Ga系スパッタリングターゲットの製造方法、同Cu−Ga系スパッタリングターゲットから作製された光吸収層及び同光吸収層を用いたCIGS系太陽電池に関する。
近年、薄膜系太陽電池として高効率であるCIGS系太陽電池の量産が進展してきている。その光吸収層であるCIGS層の製造方法としては、蒸着法とセレン化法が知られている。蒸着法で製造された太陽電池は高変換効率の利点はあるが、低成膜速度、高コスト、低生産性という欠点がある。
一方、セレン化法は産業的大量生産には適しているが、InとCu−Gaの積層膜を作製後、水素化セレン雰囲気ガス中で熱処理を行い、Cu、In、Gaをセレン化してCIGS膜を形成するという、手間がかかり、複雑、かつ、危険なプロセスを行っており、コスト、手間、時間を要するという欠点がある。
そこで、最近、CIGS系スパッタリングターゲットを用いて、一回のスパッタでCIGS系光吸収層を作製しようという試みがなされているが、そのための適切なCIGS系スパッタリングターゲットが作製されていないのが現状である。
CIGS系合金焼結体をスパッタリングターゲットとして使用し、成膜速度が速く、生産性に優れる直流(DC)スパッタすることは可能ではあるが、CIGS系合金焼結体のバルク抵抗は、通常、数十Ω以上と比較的高いため、アーキング等の異常放電が発生し易く、膜へのパーティクル発生や膜質の劣化という問題があった。
一般に、CIGS層にナトリウム(Na)等のアルカリ金属を添加すると、結晶粒径の増大やキャリア濃度の増加等の効果によって、太陽電池の変換効率が向上することが知られている。
これまでに知られているNa等の供給方法としては、Na含有ソーダライムガラスから供給するもの(特許文献1)、裏面電極上にアルカリ金属含有層を湿式法で設けるもの(特許文献2)、プリカーサー上にアルカリ金属含有層を湿式法で設けるもの(特許文献3)、裏面電極上にアルカリ金属含有層を乾式法で設けるもの(特許文献4)、同時蒸着法で吸収層作製と同時、あるいは、成膜の前または後に、アルカリ金属を添加するもの(特許文献5)等がある。
しかしながら、特許文献1〜特許文献3に記載の方法は、何れもアルカリ金属含有層からのCIGS層へのアルカリ金属の供給は、CuGaのセレン化時の熱拡散によって行われており、アルカリ金属のCIGS層中での濃度分布を適切に制御することが困難であった。
何故なら、基板としてNa含有ソーダライムガラスを使用する場合は、一方では軟化点が約570°Cであるために、600°C以上の高温とすると亀裂が生じ易く、あまり高温にできないからであり、他方では約500°C以上の高温でセレン化処理しなければ、結晶性の良いCIGS膜を作製することが難しくなるからである。すなわち、セレン化時の温度制御可能な範囲は非常に狭く、上記の温度範囲でNaの適切な拡散を制御することは困難であるという問題がある。
また、特許文献4と特許文献5に記載の方法は、形成されるNa層が吸湿性を有するために、成膜後の大気暴露時に膜質が変化して剥離が生じることがあり、また、装置の設備コストが非常に高いという問題もあった。
また、太陽電池用の吸収層を作製する際に、ターゲットを使用してスパッタリングを行うという特許文献があり、それには次のように記載されている。
「アルカリ金属化合物の析出は、有利にはスパッタリング又は蒸着により行う。その際には、アルカリ金属化合物ターゲット又はアルカリ金属ターゲットとセレン化銅CuSeとの混合ターゲット又はアルカリ金属ターゲットとセレン化インジウムInSeとの混合ターゲットを使用することができる。同様に、金属−アルカリ金属混合ターゲット、例えばCu/Na、Cu−Ga/Na又はIn/Naも可能である。」(特許文献4と特許文献6のそれぞれの段落[0027]参照)。
しかし、この場合は太陽電池用吸収層を形成する前又は製造中に、アルカリ金属を個別にドーピングする場合のターゲットを使用したスパッタリングである。このように、それぞれ個別にドーピングするという手段を採る以上、他の成分との調整をその都度行う必要があり、成分が異なる各ターゲットの管理が充分出ない場合には、成分に変動を生ずるという問題がある。
また、下記特許文献7には、アルカリ金属化合物を蒸発源として他の成分元素と同時蒸着により膜を形成する太陽電池の光吸収層を形成することが開示されている(同文献の段落[0019]及び図1参照)。この場合も、前記特許文献4と特許文献6と同様に、他の蒸着物質との調整(成分及び蒸着条件)が充分行われないと、成分の変動を生ずるという問題がある。
一方、非特許文献1には、ナノ粉原料となるメカニカルアロイによる粉末作製後、HIP処理したCIGS四元系合金スパッタリングターゲットの製造方法及び該ターゲットの特性を開示する。しかしながら、この製造方法によって得られたCIGS四元系合金スパッタリングターゲットの特性については、密度が高かったとの定性的記載があるものの、具体的な密度の数値については一切明らかにされていない。
また、ナノ粉を使用していることから酸素濃度が高いことが推定されるが、焼結体の酸素濃度についても一切明らかにされていない。また、スパッタ特性に影響を与えるバルク抵抗についても一切記述がない。さらに、原料として高価なナノ粉を使用していることから、低コストが要求される太陽電池用材料としては不適切である。
また、非特許文献2には、組成がCu(In0.8Ga0.2)Seであって、その密度が5.5g/cmであり、相対密度が97%である焼結体が開示されている。しかしながら、その製造方法としては、独自合成した原料粉末をホットプレス法で焼結したとの記載があるのみで、具体的な製造方法が明示されていない。また、得られた焼結体のバルク抵抗についても記載されていない。
特開2004−47917号公報 特許第3876440号公報 特開2006−210424号公報 特許第4022577号公報 特許第3311873号号公報 特開2007−266626号公報 特開平8−102546号公報
Thin Solid Films、332(1998)、P.340−344 電子材料2009年11月 42頁−45頁
本発明は上記状況に鑑み、CIGS系太陽電池を作製する際に、Na含有層や基板からのNa拡散遮断層を別途作製する必要がなく、CIGS層中のアルカリ金属濃度を比較的均一にできるCu−Ga系ターゲット、同ターゲットの製造方法、同ターゲットから作製された光吸収層、及び同光吸収層を用いたCIGS系太陽電池を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題の解決のため、アルカリ金属を添加したCu−Gaをスパッタリングターゲットとして用い、スパッタすることによって得られるCu−Ga膜が、その膜厚方向において、アルカリ金属濃度がほぼ均一となるために、その後のセレン化後においても、CIGS膜中でのアルカリ金属の濃度分布が、従来の拡散による濃度分布と比較して、格段に向上するために、同CIGS層を光吸収層とする太陽電池の変換効率が向上することを見出した。また、アルカリ金属を添加することによって、バルク抵抗を低減でき、さらにスパッタリングの際に異常放電が抑制されることを見出した。本発明は、この知見に基づくものである。
すなはち、本発明は、
1.ガリウム(Ga)原子数の、ガリウム(Ga)及び銅(Cu)の原子数の合計に対する比率(Ga/(Ga+Cu))が0.2〜0.6であり、かつアルカリ金属を含有することを特徴とするCu-Ga系スパッタリングターゲット
2.アルカリ金属がリチウム(Li)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)から選択された少なくとも1つの元素であることを特徴とする上記1記載のスパッタリングターゲット
3.アルカリ金属の濃度が1016〜1018cm−3であることを特徴とする上記1又は2記載のスパッタリングターゲット
4.相対密度が97%以上であることを特徴とする上記1〜3のいずれかに記載のスパッタリングターゲット、を提供する。
また、本発明は、
5.ガリウム(Ga)原子数の、ガリウム(Ga)及び銅(Cu)の原子数の合計に対する比率(Ga/(Ga+Cu))が0.2〜0.6であり、かつアルカリ金属を含有するCu-Ga系スパッタリングターゲットを焼結により製造する際に、アルカリ金属を添加するための化合物として、LiO、NaO、KO、LiS、NaS、KS、LiSe、NaSe、KSeから選択された少なくとも1つの化合物を用いることを特徴とするCu-Ga系スパッタリングターゲットの製造方法、を提供する。
また、本発明は、
6.上記1〜4のいずれかに記載のCu−Ga系スパッタリングターゲットを用いて成膜した光吸収層
7.上記6に記載する光吸収層を用いた太陽電池、を提供する。
本発明は、Cu−Ga系ターゲットにおいて、アルカリ金属を含有しているために、同ターゲットをスパッタすることで得られる膜中のアルカリ金属濃度の均一性を向上でき、CIGS膜中でのアルカリ金属の濃度分布が、従来の拡散による濃度分布と比較して、格段に向上するために、同CIGS層を光吸収層とする太陽電池の変換効率が向上するという非常に優れた効果を有する。
また、スパッタリングターゲットにアルカリ金属を添加することによって、バルク抵抗を低減させ、スパッタの際に異常放電を抑制することができる優れた効果を有する。
本発明のCu−Ga系スパッタリングターゲットは、Ga原子数の、Ga及びCuの原子数の合計に対する比率(Ga/(Ga+Cu))が0.2〜0.6である。この範囲の組成のCu−Gaから作製されるCIGS膜のバンドギャップが太陽光スペクトルとの関係で適切であり、CIGS膜を用いるCIGS系太陽電池の変換効率を向上させるからである。
CIGSは、銅(Cu)、インジウム(In)、ガリウム(Ga)及びセレン(Se)からなる四元系合金であり、その組成がCuIn1−xGaSe2−y(但し、x、yはそれぞれ原子比率を表す)なる組成式で表され、その組成範囲が0<x≦0.5、0≦y≦0.04である。
Cu−Ga系スパッタリングターゲットにおいて、Gaの原子数比率が0の場合は、CIGS系膜はGaを含まずに、CIS膜となる。そのバンドギャップは1.04eVであるが、太陽光との関係で最も適切な太陽電池のバンドギャップは1.4eVである。したがって、バンドギャップが小さすぎるために、太陽電池の電圧が充分高くならずに、変換効率が高くならない。
一方、Gaの原子数比率が0.6の場合、バンドギャップは1.42eVとなり、変換効率を比較的高くすることができる。但し、Gaの原子数比率が0.6を超えると、バンドギャップは更に大きくなるために、電子を生成するために必要なエネルギーが高くなりすぎて、太陽電池の電流を大きくすることができずに、変換効率が小さくなっていく傾向となる。従って、Ga原子数比率の適切範囲は、(Ga/(Ga+In))が0.2〜0.6である。
本発明のCu−Ga系スパッタリングターゲットは、アルカリ金属を含有することを特徴としている。本発明をCu−Gaスパッタリングターゲットと記載せずに、Cu−Ga系スパッタリングターゲットと、系をつけて表記するのは、このスパッタリングターゲットの主成分がCu及びGaからなるが、アルカリ金属をも含むことを意味しているためである。
アルカリ金属はCIGS膜作製時に、結晶粒径の増大やキャリア濃度の増加等の効果をもたらし、CIGS系太陽電池の変換効率を向上させる効果がある。
アルカリ金属とは、周期律表のIa元素とも称されるが、本発明では、水素はアルカリ金属に含めない。水素を有効に添加する手段が困難であり、有効な電気的及び組織的特性発現に有効とは認められないからである。
アルカリ金属を添加することで、1価の元素であるアルカリ金属が、3価の格子位置に置換することで、ホールを放出して、導電性が向上するものと考えられる。従って、アルカリ金属であれば、上記効果を有するために、どの元素であっても有効で有り得るが、化合物の利用し易さや価格の観点から、Li、Na、Kが望ましい。特に、Naは効果発現や化合物の利用容易性等の観点から望ましい。
また、これらの金属は、元素単体では反応性が非常に高く、特に水とは激しく反応して危険なために、これらの元素を含む化合物の形態で添加することが望ましい。したがって、化合物として入手し易く比較的安価な、LiO、NaO、KO、LiS、NaS、KS、LiSe、NaSe、KSeなどが望ましい。特にSe化合物を用いる場合は、SeがCIGSでは構成材料なので、格子欠陥や別組成材料等を発生させる懸念がないために、より望ましいと言える。
アルカリ金属の濃度は、導電性や結晶性と相関があり、1016〜1018cm−3であることが望ましい。アルカリ金属濃度が1016cm−3未満であると、CIGS膜を形成した際に、充分低くて適切な導電性が得られないので、アルカリ金属添加効果が充分でなく、一方、アルカリ金属濃度が1018cm−3を超えても、効果が飽和するとともに、ターゲットの相対密度が低下する。
アルカリ金属濃度は、各種分析方法で分析することができ、例えば、Cu−Ga系ターゲット中のアルカリ金属濃度は、ICP分析等の方法で、Cu−Ga系膜中のアルカリ金属濃度及びその膜厚方向の分布は、SIMS分析等で求めることができる。
本発明のCu−Ga系スパッタリングターゲットの相対密度は97%以上、好ましくは98%以上、より好ましくは99.1%以上である。相対密度は、焼結体ターゲットの実際の絶対密度を、その組成のターゲットの理論密度で除した値の比である。
ターゲットの相対密度が低いと、ターゲット中に内部空孔が多数存在するので、スパッタリング中の内部空孔の表出時に、空孔周辺を起点とするスプラッシュや異常放電が発生し易くなり、膜へのパーティクル発生が増加し、CIGS太陽電池の変換効率低下の一因になる。
また、ターゲット表面の凹凸化が早期に進行して、表面突起(ノジュール)を起点とする異常放電等が起き易くなる。従って、ターゲットの相対密度は少なくとも97%以上とすることが望ましい。
本発明のターゲット等は、例えば、以下の様にして作製することができる。Cu、Ga及びアルカリ金属化合物の各原料を所定の組成比となるように秤量後、坩堝に入れ、約0.5MPa気圧に加圧した加熱炉内で融点より約50〜200°C高温として、混合原料を溶解、約1時間保持、冷却後、1次合成原料を取り出す。この1次合成原料を粉砕して微粉原料を得る。粉砕方法としては、機械的粉砕、ガスアトマイズ法、水アトマイズ法などがあり、いずれの方法でも可能である。
混合微粉原料を篩別による粒度分布の調整後、ホットプレスを行う。ホットプレス条件は、Ga濃度によって適切条件は異なるが、例えばGa濃度が30at%の場合、温度600〜700°C、圧力30〜40MPa程度である。適切な保持時間は約1〜3時間、適切な冷却速度は5°C/min以上、適切な混合原料粉への加圧力は30〜40MPaである。この様なホットプレスの条件でCu−Ga系ターゲットの密度向上を図ることが可能である。
また、温度上昇速度や保持時間等の温度プロファイルと圧力印加プロファイルとの関係では、温度を設定最高温度にしてから圧力を加える後圧方式よりも、先に圧力を加える先圧方式の方が、焼結前に原料粉がより微細に砕けるために、焼結密度を高くするのに有効である。
作製したCu−Ga系焼結体の密度はアルキメデス法で、Ga濃度はICP分析法で、アルカリ金属濃度はGDMS法等を用いて分析することができる。
上記Cu−Ga系焼結体を、例えば直径6インチ、厚み6mmに機械加工してターゲットとする。このターゲットをバッキングプレートにインジウムをロウ材として貼り付け、スパッタリングターゲット・バッキングプレート組立体とする。
このターゲット・バッキングプレート組立体を用いてスパッタリングすることにより、Cu−Ga系膜を得ることができる。
太陽電池の光吸収層であるCIGS層を構成する前段階のCuGa系膜は、上記の様にして作製することができるので、この部分以外の太陽電池の各構成部分は、従来の方法を用いて作製することができる。
つまり、ガラス基板上に、モリブデン電極をスパッタした後、Inをスパッタ成膜後、アルカリ金属含有CuGaターゲットをスパッタ成膜後、Inとアルカリ金属含有CuGaの積層膜部分を、水素化セレンでセレン化して、アルカリ金属含有CIGS膜を形成して、光吸収層を作製することができる。
その後、更にCIGS層上にCdSを湿式成膜して、バッファー層のZnOや透明導電膜であるアルミ添加ZnOを形成することで、アルカリ金属含有CIGS層を用いた太陽電池を作製することができる。
次に、本願発明の実施例及び比較例について説明する。なお、以下の実施例は、あくまで代表的な例を示しているもので、本願発明はこれらの実施例に制限される必要はなく、明細書の記載される技術思想の範囲で解釈されるべきものである。
(実施例1)
Cu原料とGa原料を、Ga原子数の比率が0.3、NaSeの濃度が1017cm−3となるように秤量し、カーボン製坩堝に入れ、0.5Mpaのアルゴンを印加した加熱炉内で、1000°Cで溶解させた後、冷却速度5〜10°C/minで冷却してから合成原料を取り出した。
次に、この合成原料を水アトマイズ装置のカーボン坩堝に入れ、1000°Cで融解させた後に、融解液を滴下しつつ、滴下液に10Mpaの高圧水を噴射して、Cu−Ga系混合微粉を得た。この混合微粉をフィルタープレス後、120°Cで乾燥させて、混合微粉原料を得た。
この混合微粉原料を、ホットプレス条件として、5°C/minの昇温速度で室温から650°Cまで昇温した後、650°Cで2時間保持すると共に35Mpaの圧力を印加した。その後、5°C/minの降温速度で冷却を行ってから焼結体を取り出した。得られたCu−Ga系焼結体の相対密度は99.9%であった。
この焼結体を直径6インチ、厚み6mmの円板状に加工して、スパッタリングターゲットを作製した。次に、直径4インチで厚み0.7mmのコーニング1737のガラスを基板として用いて、このガラス基板上に、Inターゲットをスパッタして、膜厚1μmとした。
その後、上記に作製したCuGa系スパッタリングターゲットを、スパッタパワーを直流(DC)1000W、雰囲気ガスをアルゴン、ガス流量を50sccm、スパッタ時圧力を0.5Paとの条件で、スパッタして、膜厚1μmの膜を作製した。作製したInとCu−Ga系の積層膜を炉内に入れ、セレン化水素ガスを供給しつつ、炉内温度を500°Cとして1時間セレン化処理を行った。
取り出した膜の抵抗率を膜厚と四端子法で測定して、膜の抵抗率を求めたところ、3.1Ωcmであった。以上の結果を、表1に示す。以上から明らかなように、本願発明の目的を達成する良好な値を示した。
(実施例2〜実施例5)
Gaの原子数の比率、Ga/(Ga+Cu)を、実施例2で0.2、実施例3で0.4、実施例4で0.5、実施例5で0.6とした。それ以外は、実施例1と同様の条件で、焼結体の作製、薄膜の作製を行った。焼結体と薄膜の特性の結果を、同様に表1に示す。
上記表1に示すように、実施例2において、焼結体ターゲットの相対密度は99.8%、CIGS膜抵抗率3.1Ωcm、実施例3において、焼結体ターゲットの相対密度は98.8%、CIGS膜抵抗率3.3Ωcm、実施例4において、焼結体ターゲットの相対密度は98.6%、CIGS膜抵抗率3.4Ωcm、実施例5において、焼結体ターゲットの相対密度は97.8%、CIGS膜抵抗率3.2Ωcmとなり、いずれも本願発明の目的を達成する良好な値を示した。
(実施例6〜9)
アルカリ金属を添加する際の化合物を表1のそれぞれに記載するものに変更した以外は、実施例1と同様の条件で、焼結体の作製、薄膜の作製を行った。すなわち、実施例6は、アルカリ金属化合物としてNaOを使用し、実施例7は、アルカリ金属化合物としてNaSを使用し、実施例8は、アルカリ金属化合物としてLiSeを使用し、実施例9は、アルカリ金属化合物としてKSeを使用した。焼結体と薄膜の特性の結果を、同様に表1に示す。
上記表1に示すように、実施例6において、焼結体ターゲットの相対密度は99.2%、CIGS膜抵抗率3.9Ωcm、実施例7において、焼結体ターゲットの相対密度は99.4%、CIGS膜抵抗率3.6Ωcm、実施例8において、焼結体ターゲットの相対密度は99.1%、CIGS膜抵抗率3.8Ωcm、実施例9において、焼結体ターゲットの相対密度は98.9%、CIGS膜抵抗率3.7Ωcmとなり、いずれも本願発明の目的を達成する良好な値を示した。
(実施例10〜11)
アルカリ金属濃度を表1のそれぞれに記載するものに変更した以外は、実施例1と同様の条件で、焼結体の作製、薄膜の作製を行った。すなわち、実施例10では、アルカリ金属濃度を2×1016cm−3とし、実施例11では、アルカリ金属濃度を8×1017cm−3とした。焼結体と薄膜の特性の結果を、同様に表1に示す。
上記表1に示すように、実施例10において、焼結体ターゲットの相対密度は97.8%、CIGS膜抵抗率4.7Ωcm、実施例11において、焼結体ターゲットの相対密度は99.5%、CIGS膜抵抗率2.1Ωcmとなり、いずれも本願発明の目的を達成する良好な値を示した。
(比較例1〜2)
アルカリ金属濃度を表1のそれぞれに記載するものに変更した以外は、実施例1と同様の条件で、焼結体の作製、薄膜の作製を行った。すなわち、比較例1では、アルカリ金属濃度を2×1015cm−3とし、比較例2では、アルカリ金属濃度を8×1019cm−3とした。比較例1はアルカリ金属濃度が低く、逆に比較例2はアルカリ金属濃度が高すぎ、いずれも本願発明の条件を外れるものである。焼結体と薄膜の特性の結果を、同様に表1に示す。
上記表1に示すように、比較例1において、焼結体ターゲットの相対密度は98.5%で、特に問題はないが、CIGS膜抵抗率69.0Ωcmと高くなり、不良であった。比較例2においては、CIGS膜抵抗率1.9Ωcmと良好であったが、焼結体ターゲットの相対密度は94.3%と低下し、問題となった。
本発明によれば、Cu−Ga系ターゲットにおいて、アルカリ金属を含有しているために、同ターゲットをスパッタすることで得られる膜中のアルカリ金属濃度の均一性を向上でき、CIGS膜中でのアルカリ金属の濃度分布が、従来の拡散による濃度分布と比較して、格段に向上するために、同CIGS層を光吸収層とする太陽電池の変換効率が向上するという非常に優れた効果を有する。したがって、CIGS系太陽電池の製造用材料として有用である。

Claims (7)

  1. ガリウム(Ga)原子数の、ガリウム(Ga)及び銅(Cu)の原子数の合計に対する比率(Ga/(Ga+Cu))が0.2〜0.6であり、かつアルカリ金属を含有することを特徴とするCu-Ga系スパッタリングターゲット。
  2. アルカリ金属がリチウム(Li)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)から選択された少なくとも1つの元素であることを特徴とする請求項1記載のスパッタリングターゲット。
  3. アルカリ金属の濃度が1016〜1018cm−3であることを特徴とする請求項1又は2記載のスパッタリングターゲット。
  4. 相対密度が97%以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のスパッタリングターゲット。
  5. ガリウム(Ga)原子数の、ガリウム(Ga)及び銅(Cu)の原子数の合計に対する比率(Ga/(Ga+Cu))が0.2〜0.6であり、かつアルカリ金属を含有するCu-Ga系スパッタリングターゲットを焼結により製造する際に、アルカリ金属を添加するための化合物として、LiO、NaO、KO、LiS、NaS、KS、LiSe、NaSe、KSeから選択された少なくとも1つの化合物を用いることを特徴とするCu-Ga系スパッタリングターゲットの製造方法。
  6. 請求項1〜4のいずれかに記載のCu−Ga系スパッタリングターゲットを用いて成膜した光吸収層。
  7. 請求項6に記載する光吸収層を用いた太陽電池。
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