JP2012092438A - Mo系スパッタリングターゲットおよびその製造方法ならびにこれを用いたCIGS系薄膜太陽電池 - Google Patents
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- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 19
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 41
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 20
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 20
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 238000005245 sintering Methods 0.000 abstract description 13
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 abstract description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 8
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000001629 suppression Effects 0.000 abstract 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 19
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 19
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 description 4
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052951 chalcopyrite Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 chalcopyrite compound Chemical class 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000001004 secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- DVRDHUBQLOKMHZ-UHFFFAOYSA-N chalcopyrite Chemical compound [S-2].[S-2].[Fe+2].[Cu+2] DVRDHUBQLOKMHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
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Abstract
【課題】 スパッタリング中の異常放電を抑制できる、アルカリ金属化合物が微細に分散
したMo系スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、KとNbとの複合酸化物でなる粉末とMo粉末との焼結体であ
って、前記複合酸化物を0.4〜9.0質量%含有し、Mo母相中に内接円直径が20μ
m以下の凝固した前記複合酸化物が分散するMo系スパッタリングターゲットである。ま
た、本発明のMo系スパッタリングターゲットは、加圧容器に充填し、前記複合酸化物の
溶融温度以上、Moの溶融温度以下で加圧焼結することにより得られる。
【選択図】図1
したMo系スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、KとNbとの複合酸化物でなる粉末とMo粉末との焼結体であ
って、前記複合酸化物を0.4〜9.0質量%含有し、Mo母相中に内接円直径が20μ
m以下の凝固した前記複合酸化物が分散するMo系スパッタリングターゲットである。ま
た、本発明のMo系スパッタリングターゲットは、加圧容器に充填し、前記複合酸化物の
溶融温度以上、Moの溶融温度以下で加圧焼結することにより得られる。
【選択図】図1
Description
本発明は、例えば、カルコパイライト系薄膜太陽電池等の裏面電極の形成に用いられるMo系スパッタリングターゲットおよびその製造方法ならびにこれを用いたCIGS系薄膜太陽電池に関するものである。
現在、シリコン太陽電池、薄膜太陽電池、化合物太陽電池等の様々な太陽電池の開発が進んでおり、その中でも、薄膜太陽電池は薄膜技術を応用した光デバイスとして製造プロセスが簡易となり、かつ、製造に要するエネルギーを削減できるという利点から商品化が進んでいる。また、薄膜太陽電池の中でも、カルコパイライト化合物であるCu(InGa)Se2(以下CIGS)系を光吸収層として備えた薄膜太陽電池が有望視されている。
CIGS系薄膜太陽電池は、一般的に、基板側から、ソーダライムガラス基板、Mo金属からなる裏面電極、CIGS層からなる光吸収層、透明電極からなる前面電極の順で構成される多層積層構造を有している。
CIGS系薄膜太陽電池は、一般的に、基板側から、ソーダライムガラス基板、Mo金属からなる裏面電極、CIGS層からなる光吸収層、透明電極からなる前面電極の順で構成される多層積層構造を有している。
また、CIGS系薄膜太陽電池においては、光吸収層であるCIGS層内にNa、K等のアルカリ金属が適量存在すると、製造された太陽電池の発電効率が向上することが知られている。CIGS層内にNa等のアルカリ金属を含有させる方法としては、ソーダライムガラス基板に含まれるアルカリ金属を、裏面電極であるMoを介してCIGS層に拡散させる方法が一般的である。
しかし、裏面電極を介してソーダライムガラス基板からのアルカリ金属の拡散量を定量的にコントロールすることは難しい。更に、アルカリ金属を含まないステンレス、ポリイミドや低アルカリガラスなどの基板ではアルカリ金属をCIGS膜中に添加する必要がある。そのため、アルカリ金属化合物を含有したMo系スパッタリングターゲットを用いて裏面電極を形成し、この裏面電極からCIGS層にアルカリ金属を拡散させる方法が提案されている(例えば特許文献1参照)。
しかし、裏面電極を介してソーダライムガラス基板からのアルカリ金属の拡散量を定量的にコントロールすることは難しい。更に、アルカリ金属を含まないステンレス、ポリイミドや低アルカリガラスなどの基板ではアルカリ金属をCIGS膜中に添加する必要がある。そのため、アルカリ金属化合物を含有したMo系スパッタリングターゲットを用いて裏面電極を形成し、この裏面電極からCIGS層にアルカリ金属を拡散させる方法が提案されている(例えば特許文献1参照)。
特許文献1に開示されるスパッタリングターゲットを用いる方法は、スパッタリングによって形成されたMo裏面電極に含有されるアルカリ金属化合物からアルカリ金属をCIGS層内へ拡散させる方法であり、拡散量を定量的にコントロールすることが可能な優れた方法である。
しかし、アルカリ金属化合物はマトリックスとなるMoと分離して存在するため、ターゲット中に粗大なアルカリ金属化合物が存在する場合には、スパッタリング中に異常放電を誘発するといった問題がある。
本発明の目的は、上記課題に鑑み、アルカリ金属化合物が微細に分散した、新しい組織のMo系スパッタリングターゲットおよびその製造方法ならびにこれを用いたCIGS系薄膜太陽電池を提供することである。
しかし、アルカリ金属化合物はマトリックスとなるMoと分離して存在するため、ターゲット中に粗大なアルカリ金属化合物が存在する場合には、スパッタリング中に異常放電を誘発するといった問題がある。
本発明の目的は、上記課題に鑑み、アルカリ金属化合物が微細に分散した、新しい組織のMo系スパッタリングターゲットおよびその製造方法ならびにこれを用いたCIGS系薄膜太陽電池を提供することである。
本発明者等は、アルカリ金属化合物としてKとNbとの複合酸化物粉末を選択し、これとMo粉末とを混合して、前記複合酸化物の溶融温度以上で加圧焼結することで、Mo母相中に複合酸化物を微細分散させた、新しい組織のMo系スパッタリングターゲットが得られることを見出し、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、KとNbとの複合酸化物粉末とMo粉末との焼結体であって、前記複合酸化物を0.4質量%〜9.0質量%含有し、Mo母相中に内接円直径が20μm以下の凝固した前記複合酸化物が分散したMo系スパッタリングターゲットである。
また、本発明は、KとNbとの複合酸化物粉末とMo粉末とを混合して加圧容器に充填し、前記複合酸化物の溶融温度以上、Moの溶融温度以下で加圧焼結するMo系スパッタリングターゲットの製造方法である。
また、本発明は、当該Mo系スパッタリングターゲットを用いた裏面電極を採用したCIGS系薄膜太陽電池である。
すなわち、本発明は、KとNbとの複合酸化物粉末とMo粉末との焼結体であって、前記複合酸化物を0.4質量%〜9.0質量%含有し、Mo母相中に内接円直径が20μm以下の凝固した前記複合酸化物が分散したMo系スパッタリングターゲットである。
また、本発明は、KとNbとの複合酸化物粉末とMo粉末とを混合して加圧容器に充填し、前記複合酸化物の溶融温度以上、Moの溶融温度以下で加圧焼結するMo系スパッタリングターゲットの製造方法である。
また、本発明は、当該Mo系スパッタリングターゲットを用いた裏面電極を採用したCIGS系薄膜太陽電池である。
本発明によれば、Mo母相中にアルカリ金属化合物を微細に分散させることが可能となり、スパッタリング中の異常放電の誘発を抑制できる。
また、本発明のMo系スパッタリングターゲットを使用してスパッタ成膜することで、アルカリ金属を含有した太陽電池の裏面電極が形成できるため、品質の良いCIGS系薄膜太陽電池を製造可能となる。
また、本発明のMo系スパッタリングターゲットを使用してスパッタ成膜することで、アルカリ金属を含有した太陽電池の裏面電極が形成できるため、品質の良いCIGS系薄膜太陽電池を製造可能となる。
本発明の重要な特徴は、アルカリ金属を含有したMo系スパッタリングターゲットを得るために、アルカリ金属にKを選択し、アルカリ金属化合物としてKとNbとの複合酸化物をMo母相中に微細分散させたことにある。以下、本発明の実施形態について説明する。
本発明のMo系スパッタリングターゲットは、KとNbとの複合酸化物粉末とMo粉末との焼結体である。
上述したように、CIGS系薄膜太陽電池においては、CIGS層の形成プロセス中における加熱により、Mo系裏面電極中に含有したアルカリ金属がCIGS層に拡散し、その結果太陽電池の発電効率が向上する。アルカリ金属としては、Li、Na、K等があり、発電効率の向上の点で効果が大きいのはNa、Kである。ここで、NaとNbの複合酸化物は、KとNbとの複合酸化物よりも融点が高く、焼結体を得るための作業性やコストの面で不利である。したがって、本発明のMo系スパッタリングターゲットは、アルカリ金属にKを採用した。
上述したように、CIGS系薄膜太陽電池においては、CIGS層の形成プロセス中における加熱により、Mo系裏面電極中に含有したアルカリ金属がCIGS層に拡散し、その結果太陽電池の発電効率が向上する。アルカリ金属としては、Li、Na、K等があり、発電効率の向上の点で効果が大きいのはNa、Kである。ここで、NaとNbの複合酸化物は、KとNbとの複合酸化物よりも融点が高く、焼結体を得るための作業性やコストの面で不利である。したがって、本発明のMo系スパッタリングターゲットは、アルカリ金属にKを採用した。
ターゲットの製造工程においては、焼結体が加工工程や仕上げ工程で水に曝される場合がある。本発明のMo系スパッタリングターゲットは、Mo母相中に複合酸化物が分離して存在する組織であり、水に対して難溶性の複合酸化物を採用することにより、水に曝される場合があっても、その溶出を抑制することができる。
KとNbとの複合酸化物を適用する理由は、Nbを含有しないK2Oといった別のアルカリ金属の酸化物粉末に比べて水に溶けにくく、扱いやすいためである。KとNbとの複合酸化物としては、KNbO3がある。本発明で使用できる複合酸化物は、構成するK、Nb、Oの原子比率が上記に限定されるものではなく、構成元素の比率が異なる複合酸化物を使用してもよい。
本発明のMo系スパッタリングターゲットは、KとNbとの複合酸化物の含有量を、0.4質量%〜9.0質量%とする。この理由を以下に説明する。
複合酸化物の含有量が0.4質量%未満であると、スパッタ成膜したMo系裏面電極中のK量が十分でなく、CIGS層へのアルカリ金属ドープの効果が十分に発揮されない。このため、本発明では、KとNbとの複合酸化物の含有量を0.4質量%以上とする。
複合酸化物の含有量が0.4質量%未満であると、スパッタ成膜したMo系裏面電極中のK量が十分でなく、CIGS層へのアルカリ金属ドープの効果が十分に発揮されない。このため、本発明では、KとNbとの複合酸化物の含有量を0.4質量%以上とする。
一方、KとNbとの複合酸化物の含有量が9.0質量%を超えると、Mo母相中に粗大化した複合酸化物が局在し始める。これは、スパッタリング中に、その絶縁部からアーキングを招来し異常放電を生じさせたり、ターゲット表面にパーティクルが発生して異常放電を誘発したりする恐れがある。また、スパッタリングターゲット中にKとNbとの複合酸化物を過度に含有すると、CIGS系薄膜太陽電池に適用した場合には、かえって発電効率が低下するという問題が生じる。このため、本発明では、KとNbとの複合酸化物の含有量を9.0質量%以下とする。
また、本発明のMo系スパッタリングターゲットは、Mo母相中における凝固した複合酸化物の内接円直径を20μm以下とする。これは、含有量が9.0質量%未満であってもMo母相中に粗大な絶縁物が局在する場合、上述と同様の問題が生じるからである。この問題は、絶縁部を微細化することで改善するため、本発明では、複合酸化物の内接円直径を20μm以下とした。より好ましくは10μm以下である。
なお、本発明でいう内接円径とは、図4の模式図に示すように、ターゲット中の任意の切断面においてMo母相中(薄灰色)に存在するKNbO3結晶粒(濃灰色)の内側に接する円を描いたときの直径を指すものとする。
なお、本発明でいう内接円径とは、図4の模式図に示すように、ターゲット中の任意の切断面においてMo母相中(薄灰色)に存在するKNbO3結晶粒(濃灰色)の内側に接する円を描いたときの直径を指すものとする。
本発明のMo系スパッタリングターゲットの製造方法は、KとNbとの複合酸化物からなる粉末とMo粉末とを混合し、加圧容器に充填した後、複合酸化物の溶融温度以上、Moの溶融温度以下で加圧焼結する。加圧焼結に際して、複合酸化物の溶融温度以上、Moの溶融温度以下に加熱した場合、複合酸化物の溶融液は、互いに隣り合うMo粉末どうしが形成した隙間に流れ込む。そして冷却により隙間に進入したまま溶融液は凝固し焼結が完了する。
これにより、本発明のMo系スパッタリングターゲットは、Mo母相中に複合酸化物を微細且つ均一に分散させることが可能となる。
一般的に、融点が2600℃を越える高融点金属であるMoのスパッタリングターゲットの作製に溶解鋳造法を適用するのは困難であり、Moを粉末原料とした粉末焼結法が用いられている。粉末焼結法には熱間静水圧プレス(HIP)やホットプレスがある。ここでホットプレスでは、金型とパンチの隙間から溶融した複合酸化物が染み出し、得られるターゲット中のK量が少なくなるといった問題がある。本発明においては、密閉した焼結容器に原料粉末を充填して焼結するHIP法が適している。
本発明のMo系スパッタリングターゲットの製造方法は、焼結温度が高い程、緻密な焼結体が得られるが、生産性を考慮して焼結温度は1250℃〜2000℃が好ましい。より好ましくは1250℃〜1500℃である。また、このとき、スパッタリングターゲットとして安定して使用可能な相対密度95%以上を得るために、焼結時の加圧圧力は100MPa以上とすることが好ましい。
これにより、本発明のMo系スパッタリングターゲットは、Mo母相中に複合酸化物を微細且つ均一に分散させることが可能となる。
一般的に、融点が2600℃を越える高融点金属であるMoのスパッタリングターゲットの作製に溶解鋳造法を適用するのは困難であり、Moを粉末原料とした粉末焼結法が用いられている。粉末焼結法には熱間静水圧プレス(HIP)やホットプレスがある。ここでホットプレスでは、金型とパンチの隙間から溶融した複合酸化物が染み出し、得られるターゲット中のK量が少なくなるといった問題がある。本発明においては、密閉した焼結容器に原料粉末を充填して焼結するHIP法が適している。
本発明のMo系スパッタリングターゲットの製造方法は、焼結温度が高い程、緻密な焼結体が得られるが、生産性を考慮して焼結温度は1250℃〜2000℃が好ましい。より好ましくは1250℃〜1500℃である。また、このとき、スパッタリングターゲットとして安定して使用可能な相対密度95%以上を得るために、焼結時の加圧圧力は100MPa以上とすることが好ましい。
本発明で使用するMo粉末としては、市販品を用いることができる。純度は99.9%以上であり、緻密な焼結体を得られるため平均粒径2μm以上、10μm以下のMo粉末を利用することが好ましい。また、複合酸化物粉末としては、市販される99.0%以上、平均粒径200μm以下の複合酸化物粉末を利用することが好ましい。
以下の実施例で本発明を詳しく説明する。
まず、市販の平均粒径6μmのMo粉末と、KとNbの複合酸化物粉末として市販の平均粒径67μmのKNbO3粉末を準備した。複合酸化物粉末の溶融温度を、示差熱分析装置を用いて測定したところ、1050℃であった。
次に、混合粉末中に占める複合酸化物粉末の割合が1.9質量%、0.9質量%となるように各粉末を秤量し、上記のMo粉末と混合機でそれぞれ混合した後に軟鋼製加圧容器に充填し、熱間静水圧プレスによる加圧焼結を、複合酸化物粉末の溶融温度以上である1250℃×150MPa×5時間の条件で施した。
また、比較例として上記のMo粉末と複合酸化物粉末を用いて、複合酸化物粉末が1.9質量%となるように秤量し、混合機で混合した後に軟鋼製加圧容器に充填し、熱間静水圧プレスによる加圧焼結を、複合酸化物粉末の溶融温度以下である950℃×120MPa×1時間の条件で施した。
各粉末の混合比率と焼結条件を表1に示す。
次いで、加圧焼結後に軟鋼製の加圧容器除去し、機械加工によりMo系スパッタリングターゲットを得た。
また、得られたターゲットの相対密度も測定した。測定は、真密度をアルキメデス法により測定して、真密度/理論密度×100=相対密度(%)として求めた。各々の相対密度を表1にあわせて示す。
まず、市販の平均粒径6μmのMo粉末と、KとNbの複合酸化物粉末として市販の平均粒径67μmのKNbO3粉末を準備した。複合酸化物粉末の溶融温度を、示差熱分析装置を用いて測定したところ、1050℃であった。
次に、混合粉末中に占める複合酸化物粉末の割合が1.9質量%、0.9質量%となるように各粉末を秤量し、上記のMo粉末と混合機でそれぞれ混合した後に軟鋼製加圧容器に充填し、熱間静水圧プレスによる加圧焼結を、複合酸化物粉末の溶融温度以上である1250℃×150MPa×5時間の条件で施した。
また、比較例として上記のMo粉末と複合酸化物粉末を用いて、複合酸化物粉末が1.9質量%となるように秤量し、混合機で混合した後に軟鋼製加圧容器に充填し、熱間静水圧プレスによる加圧焼結を、複合酸化物粉末の溶融温度以下である950℃×120MPa×1時間の条件で施した。
各粉末の混合比率と焼結条件を表1に示す。
次いで、加圧焼結後に軟鋼製の加圧容器除去し、機械加工によりMo系スパッタリングターゲットを得た。
また、得られたターゲットの相対密度も測定した。測定は、真密度をアルキメデス法により測定して、真密度/理論密度×100=相対密度(%)として求めた。各々の相対密度を表1にあわせて示す。
上記で得られた各ターゲットから、機械加工により任意の5箇所から10mm×10mm×5mmの試験片を採取して観察試料No.1〜No.5とし、走査型電子顕微鏡により0.95mm×1.3mmの観察視野でミクロ組織観察をおこなった。このミクロ組織写真から複合酸化物の内接円直径の最大値を測定した。表2に内接円直径の測定結果を示す。
なお、本発明の試料1の走査型電気顕微鏡写真を図1および図2、比較例の試料3の走査型電気顕微鏡写真を各々図3に示す。写真は薄灰色がMo、濃灰色が複合酸化物である。
表2から、本発明である試料1および試料2は、複合酸化物の内接円直径の最大値は10μm以下であり、Mo母相中に複合酸化物が微細に分散していることがわかる。
一方、比較例の試料3は、複合酸化物の内接円直径の最大値は約30μm以上と大きく粗大であることがわかる。
一方、比較例の試料3は、複合酸化物の内接円直径の最大値は約30μm以上と大きく粗大であることがわかる。
すなわち、複合酸化物粉末の溶融温度以上で加圧焼結したスパッタリングターゲットでは、複合酸化物がMoマトリックス中に微細かつ均一に分散することがわかる。
一方、複合酸化物粉末の溶融温度以下で加圧焼結した試料3では、Mo母相中に粗大な複合酸化物が局在しており、均一性および分散性が悪いことがわかる。
一方、複合酸化物粉末の溶融温度以下で加圧焼結した試料3では、Mo母相中に粗大な複合酸化物が局在しており、均一性および分散性が悪いことがわかる。
次に、CIGS系薄膜太陽電池を作成し、アルカリ金属が存在した裏面電極を採用することによる発電効率の向上を検討した。
ここでは、ソーダライムガラスに由来するアルカリ金属の影響を排除するため、基板にSUS430(3cm×3cm:50μm厚)を用い、この上に、本発明のMo系スパッタリングターゲットを用いた裏面電極を形成し、更に、CIGS層を3段階蒸着法により形成した。更に、CdSバッファ層、ZnO高抵抗バッファ層、ZnO:Al表面電極、Al/Ni電極を堆積させて電池化をおこなった。
なお、裏面電極の形成に際しては、まず、Mo単体を1.0μm堆積させた後に、本発明のスパッタリングターゲット(表1における試料1)を用いて、更に0.5μmの堆積をおこなった。
また、比較例として、Mo単体のみによる1.0μm厚の裏面電極を用いたものも検討した。
なお、予備試験をおこなったところ、裏面電極の厚みの相違による発電効率の相違は見られないことを確認した
また、比較例として、Mo単体のみによる1.0μm厚の裏面電極を用いたものも検討した。
なお、予備試験をおこなったところ、裏面電極の厚みの相違による発電効率の相違は見られないことを確認した
表3にセル特性を示す。なお、電池表面にはARコートを施さず、電池の受光面積は0.5cm2である。また、図5に、電流−電圧(J−V)特性図を示した。
表から明らかなように、本発明のターゲットを用いた太陽電池は、比較例より発電効率は4割も上昇するという顕著な効果が得られることが確認できた。また、図示したJ−V曲線からも、短絡電流Jscが僅かに増加し、開放電圧Vocが大幅に向上していることが確認できる。これはアルカリ金属であるKの添加によりCIGS膜中のキャリアの濃度が増大した結果を示すものであり、(参考文献「CIGS太陽電池の基礎技術」中田時夫著:日刊工業新聞社)本発明のターゲットを用いた太陽電池の最大出力点も比較例より右上に位置することから、好適化が実現されたといえる。
なお、CIGS層の形成の際には、製膜温度を500〜600℃と高温にするため、これにより、CIGS層へアルカリ金属であるKが拡散する。実際にKがCIGS層へ拡散している様子を、別途試料を作成して測定した。測定は二次イオン質量分析(SIMS)法によった。結果を図6に示す。図から明らかなように、CIGS層へKが拡散している様子が確認できる。
以上より、本発明のMo系スパッタリングターゲット、または、本発明のMo系スパッタリングターゲットの製造方法は、CIGS系薄膜太陽電池の形成に好適であり、また、得られるCIGS系太陽電池は、Moのみによる裏面電極より高効率の発電が可能となる。
工業化においては、スパッタリングの際に原料を本発明品に置換するだけでよいため、別途設備の導入等の必要がなく、既存のプロセスをそのまま流用できるという利点を有する。
Claims (3)
- KとNbとの複合酸化物粉末とMo粉末との焼結体であって、前記複合酸化物を0.4質量%〜9.0質量%含有し、Mo母相中に内接円直径が20μm以下の凝固した前記複合酸化物が分散したことを特徴とするMo系スパッタリングターゲット。
- KとNbとの複合酸化物粉末とMo粉末とを混合して加圧容器に充填し、前記複合酸化物の溶融温度以上、Moの溶融温度以下で加圧焼結することを特徴とするMo系スパッタリングターゲットの製造方法。
- 請求項1に記載のMo系スパッタリングターゲットまたは請求項2に記載の方法により製造されたMo系スパッタリングターゲットを用いた裏面電極を採用したCIGS系薄膜太陽電池。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010215010 | 2010-09-27 | ||
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JP2011208382A JP2012092438A (ja) | 2010-09-27 | 2011-09-26 | Mo系スパッタリングターゲットおよびその製造方法ならびにこれを用いたCIGS系薄膜太陽電池 |
Publications (1)
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---|---|
JP2012092438A true JP2012092438A (ja) | 2012-05-17 |
Family
ID=46386105
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
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- 2011-09-26 JP JP2011208382A patent/JP2012092438A/ja not_active Withdrawn
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