JP2013153135A5 - - Google Patents

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［ウエハ搬入］
まず、ウエハＷを周縁膜除去装置１０に搬入する。搬入に先立ち、カップ２０が下降位置に下降し、天板３０が退避位置に上昇する。この状態で、ウエハＷを保持した搬送アーム１０４が開口１５（図１にのみ表示）を介してケーシング１２内に進入し、ウエハＷを基板保持部１６上に置く。バキュームチャックとして形成された基板保持部１６がウエハＷを吸着した後、搬送アーム１０４はケーシング１２内から退出する。ウエハＷの搬入に先立ち、電力供給源５２からヒータ５１に給電がされてヒータ５１は１５０℃程度に既に加熱されており、上部周縁部材５０のガス通流空間に面する表面は高温になっている。その後、図２に示されるように、カップ２０が上昇位置に上昇するとともに天板３０が処理位置に下降する。このカップ２０および天板３０の位置はウエハ搬出の開始前まで維持される。前述したようにカップ２０の内部空間は排出口２２を介して常時吸引されているため、吸入口５５から引き込まれたエアは上部周縁部材５０により加熱されながら図２中黒塗り矢印で示すようにガス通流空間５３内を流れる。１００℃程度になったエア（第１ガス）は流出口５６から吐出され、ウエハＷの周縁部分に衝突し、ウエハＷの周縁部分を加熱する。なお、このときには、加圧ガス供給源４４から加圧された常温のＮ２ガスは供給されていない。
［スピン乾燥］
次に、リンス液ノズル６３を切除部５７内から退出させ、引き続き加圧ガス供給源４４から加圧された常温のＮ２ガスを供給するとともに、ウエハＷの回転速度を増す。これにより、ウエハＷの周縁部分が振り切り乾燥される。このとき、図２中の白抜き矢印で示す常温のＮ２ガスの流れにより、乾燥が促進される。このとき、更に乾燥効率を上げるために、加圧ガス供給源４４から加圧された常温のＮ２ガスの供給を停止することにより、第１ガス（加熱されたガス）を流出口５６からウエハＷの周縁部分に吐出させてもよい。
カバー部材３００の中央部の開口部３０１内には、加圧ガス供給源４４から、ウエハＷの中央部に向けて常温のＮ２ガス、すなわち第２ガスを供給する第２ガスノズル３１６が設けられている。第２ガスノズル３１６は、アーム３１８を介してノズル移動機構３２０に接続されている。ノズル移動機構３２０により、第２ガスノズル３１６は、ガスの吐出を行うときにウエハＷ表面近くまで下降し、ガスの吐出を行わないときにはウエハＷ表面から離れた位置（例えば、カバー部材３００より上側、若しくはカバー部材３００よりも上側かつ半径方向外側の位置）に退避することができる。なお、第２ガスノズル３１６は、カバー部材３００の中央部の開口部３０１内の所定位置（例えば図８に示す位置）に常時位置するように、カバー部材３００にアームを介して固定することもできる。
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