JP5324180B2 - レーザ加工方法およびレーザ加工装置 - Google Patents
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図1は一実施形態のレーザ加工装置10の全体を示しており、図2は背面側を示している。該装置10は、図3に示す半導体ウェーハ(以下、ウェーハと略称)1をワークとするものであって、ウェーハ1を自動制御でダイシングするレーザダイシング装置である。
図3により先にウェーハ1を説明すると、このウェーハ1はシリコン等の単結晶材料からなる円板状のもので、外周部の一部には、結晶方位を示すマークとしてオリエンテーションフラット1aが形成されている。ウェーハ1の表面(加工面)には、格子状に形成された分割予定ライン2により多数の矩形状のチップ3が区画されている。各チップ3の表面には、図示せぬICやLSI等の電子回路が形成されている。ウェーハ1は、レーザ加工装置10により全ての分割予定ライン2がレーザ加工されて個々のチップ3にダイシングされる。なお、この場合のダイシングは、厚さ方向に完全に貫通して切断するフルカットの他に、厚さの途中まで所定深さの溝を形成する溝加工を含む。溝加工した場合のウェーハは、後工程でさらに溝の残り厚さ部分をフルカットするか、あるいは応力を付与して割断することにより、多数のチップ3にダイシングされる。
(2−1)全体の構成
図1および図2の符号11はキャビネットである。このキャビネット11の内部には、レーザ加工手段19が配設されている。レーザ加工手段19としては、YAGレーザ発振器やYVO4レーザ発振器等のレーザ発振器で発振したレーザをレンズで集光して照射する構成を有するもの等が用いられる。なお、図1および図2にはレーザ加工手段19の一部であってレーザ光線を下方に照射するレーザヘッドを図示している。
上記カセット9内に収納され、カセット台15の昇降動作によって上記引き出し位置に位置付けられた1枚のウェーハ付きフレーム6は、把持機構30によってY方向奥側に水平に引き出され、ウェーハ着脱位置の上方に配設された一対のY方向に延びる位置決めバー35で受けられる。把持機構30は、キャビネット11の側面11aに設けられたリニアガイド31によってY方向に往復移動させられるアーム32の先端に、フレーム4を把持するクランプ部33が設けられたものである。一対の位置決めバー35はX方向に離間している。そして、一対の位置決めバー35はX方向に同期して互いに近付いたり離れたりするように作動し、両者の中間位置が常にチャックテーブル20の中心に一致するようになされている。
以上はレーザ加工装置10の全体構成であり、続いて図4を参照して第1の実施形態に係るスピンナ装置60Aを説明する。このスピンナ装置60Aは、円筒状のケーシング61とケーシング61を支持する支持台62とを備えている。支持台62は、水平に設置される板状のベース63と、このベース63上に立設された複数の脚部64と、これら脚部64の上端に固定された受け部65とからなっている。受け部65は円形の皿状に形成されたもので、この受け部65にケーシング61が上側から嵌め込まれて支持されている。
次に、上記レーザ加工装置10によってウェーハ1の分割予定ライン2にレーザ加工を施す動作を説明する。なお、図5は該動作の過程を示している。図5中、C/Tはチャックテーブル20のことである。
カセット9内に収納され、カセット台15の昇降動作によって引き出し位置に位置付けられた1枚のウェーハ付きフレーム6が把持機構30によって引き出され、位置決めバー35に載置されてX・Y方向の位置決めがなされる。次いで、位置決めバー35上のウェーハ付きフレーム6のフレーム4が、第1の搬送機構40によってスピンナ装置60Aの上方に搬送される。そして、予めバキューム装置が運転され、かつ、ウェーハ受け渡し位置に上昇して待機しているスピンナテーブル70に、ウェーハ付きフレーム6が同心状に吸着、保持される。また、これと同時にクランプ73によってフレーム4が保持される。
次いで、ウェーハ1へのレーザ加工に移る。それにはまず、ウェーハ付きフレーム6を吸着、保持したチャックテーブル20が、ベーステーブル21が移動することによりキャビネット11内の加工位置に移動させられる。そしてこの加工位置で、レーザ加工手段19によりウェーハ1の分割予定ライン2にレーザ光線が照射されてレーザ加工が施され、ウェーハ1がダイシングされる。
ウェーハ1がダイシングされたウェーハ付きフレーム6は、ウェーハ着脱位置にあるチャックテーブル20から、第1の搬送機構40によって再びスピンナ装置60Aまで搬送され、ウェーハ受け渡し位置で待機しているスピンナテーブル70に吸着、保持される。
以上のようにしてウェーハ1の表面への保護膜P1の形成、レーザ加工によるウェーハ1のダイシング、保護膜P1を除去するウェーハ1の洗浄といった各工程を経たウェーハ付きフレーム6は、第2の搬送機構50によってスピンナテーブル70から位置決めバー35に移され、次いで把持機構30によってカセット9に戻される。
上記実施形態のレーザ加工装置10によれば、レーザ加工前の樹脂塗布工程においては、スピンコート法でウェーハ1の表面に水溶性樹脂Pを塗布した後、塗布した樹脂Pに第3のノズル83から温風を吹き付けて樹脂Pを硬化させ、保護膜P1を形成している。樹脂Pは、常温で放置して自然硬化させる場合よりも、このように温風を吹き付けることにより、乾燥から硬化に至る反応が大幅に促進し、このため、樹脂Pをより速く硬化させることができる。すなわち、樹脂塗布工程に要する時間が大幅に短縮される。
次に、図7を参照して第2の実施形態に係るスピンナ装置60Bを説明する。
このスピンナ装置60Bにおいては、熱源が1つである。この熱源91Aに、水源85側の配管85Aとエア源86側の配管86Aが通過しており、洗浄水とエアは、ともに1つの熱源91Aによって加熱されるようになっている。換言するならば、上記実施形態の洗浄水を加熱する第1の熱源91とエアを加熱する第2の熱源92が、同一の熱源91Aとして構成されている。このように熱源を1つとして共有することにより、省スペースならびに低コストを図ることができる。
次に、図8を参照して第3の実施形態に係るスピンナ装置60Cを説明する。
このスピンナ装置60Cにおいては、温風を噴出する第3のノズル83が上記第1の実施形態のものと異なっている。すなわち第3の実施形態での第3のノズル83は、ケーシング61の開口に近い上部の内壁に固定されている。この第3のノズル83は円筒状であり、エア源86につながる配管86Aが接続されている。そして配管86Aの第2の熱源92とケーシング61との間には、上流側から順に、エアドライヤ98とフィルタ99が介在されている。エアドライヤ98は配管86Aを流れるエア中の水分を除去してエアを乾燥させるものであり、フィルタ99は、配管86Aを流れるエア中に存在する塵埃等の異物を捕捉してエアを清浄化するものである。
Claims (5)
- ワークの加工面に液状の水溶性樹脂を塗布する樹脂塗布工程と、
前記ワークの前記加工面にレーザ光線を照射してレーザ加工を施すレーザ加工工程と、
前記レーザ加工が施された前記ワークを洗浄する洗浄工程と、を含むレーザ加工方法であって、
前記樹脂塗布工程は、前記水溶性樹脂を前記ワークの加工面にスピンコート法で塗布するスピンコート工程と、塗布された該水溶性樹脂に温風を供給して該水溶性樹脂を乾燥させる樹脂乾燥工程と、を含み、
前記洗浄工程は、前記ワークに塗布された前記水溶性樹脂に温水と温風が混合したミストを供給して該水溶性樹脂を除去する樹脂除去工程と、前記水溶性樹脂が除去された前記ワークに温風を供給して該ワークを乾燥させるワーク乾燥工程と、
を含むことを特徴とするレーザ加工方法。 - ワークを保持する保持手段と、
該保持手段に保持された前記ワークにレーザ光線を照射してレーザ加工を施すレーザ加工手段と、
前記ワークを保持して回転するスピンナテーブルと、該スピンナテーブルに保持されたレーザ加工前の前記ワークの加工面に液状の水溶性樹脂を供給する樹脂供給手段と、前記スピンナテーブルに保持されたレーザ加工後の前記ワークの加工面に洗浄水を供給する洗浄水供給手段と、前記スピンナテーブルに保持された前記ワークの加工面にエアを供給するエア供給手段とを有するスピンナ装置と、を含むレーザ加工装置であって、
前記樹脂供給手段は、前記水溶性樹脂を供給する樹脂源と、前記スピンナテーブルに保持された前記ワークの加工面に、前記樹脂源から送られる前記水溶性樹脂を供給する第1のノズルとを有し、
前記洗浄水供給手段は、前記洗浄水を供給する水源と、該水源から送られる前記洗浄水を加熱して温水とする第1の熱源と、前記スピンナテーブルに保持された前記ワークに流体を供給する第2のノズルとを有し、
前記エア供給手段は、エアを供給するエア源と、該エア源から送られる前記エアを加熱して温風とする第2の熱源と、前記スピンナテーブルに保持された前記ワークに前記温風を供給する第3のノズルと、
を有し、
前記第2のノズルは、前記温水と温風を混合する混合機構を有し、該第2のノズルから前記ワークに該温水と該温風が混合したミストを供給することを特徴とするレーザ加工装置。 - 前記第1の熱源と前記第2の熱源が同一の熱源であることを特徴とする請求項2に記載のレーザ加工装置。
- 前記温風は、前記第2の熱源で加熱されたものであることを特徴とする請求項2に記載のレーザ加工装置。
- 前記第1の熱源および前記第2の熱源が断熱材で覆われていることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載のレーザ加工装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008260281A JP5324180B2 (ja) | 2008-10-07 | 2008-10-07 | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
TW098128506A TWI504470B (zh) | 2008-10-07 | 2009-08-25 | Laser processing method and laser processing device |
CN200910175532A CN101712099A (zh) | 2008-10-07 | 2009-09-22 | 激光加工方法和激光加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008260281A JP5324180B2 (ja) | 2008-10-07 | 2008-10-07 | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010089109A JP2010089109A (ja) | 2010-04-22 |
JP5324180B2 true JP5324180B2 (ja) | 2013-10-23 |
Family
ID=42252334
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008260281A Active JP5324180B2 (ja) | 2008-10-07 | 2008-10-07 | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5324180B2 (ja) |
CN (1) | CN101712099A (ja) |
TW (1) | TWI504470B (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5804716B2 (ja) * | 2011-02-03 | 2015-11-04 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
JP5766458B2 (ja) * | 2011-02-10 | 2015-08-19 | 本田技研工業株式会社 | 金属製薄板ドラムの切断装置 |
JP5706235B2 (ja) * | 2011-05-26 | 2015-04-22 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
JP5881464B2 (ja) * | 2012-02-27 | 2016-03-09 | 株式会社ディスコ | ウェーハのレーザー加工方法 |
CN102702882A (zh) * | 2012-05-14 | 2012-10-03 | 斯迪克新型材料(江苏)有限公司 | 一种用于保护加工面的保护膜 |
CN102702547A (zh) * | 2012-05-14 | 2012-10-03 | 斯迪克新型材料(江苏)有限公司 | 一种保护加工面的方法 |
CN102728569A (zh) * | 2012-06-15 | 2012-10-17 | 张英兵 | 高压去除光学模具表面微结构加工后金属附着物及表面不平整的工艺 |
JP6137798B2 (ja) * | 2012-09-26 | 2017-05-31 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置及び保護膜被覆方法 |
JP6563728B2 (ja) * | 2015-07-29 | 2019-08-21 | 株式会社ディスコ | レーザー加工方法 |
JP6765949B2 (ja) * | 2016-12-12 | 2020-10-07 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
JP6976745B2 (ja) * | 2017-06-30 | 2021-12-08 | 株式会社ディスコ | ウエーハ生成装置 |
JP6907093B2 (ja) * | 2017-10-24 | 2021-07-21 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
CN108704869B (zh) * | 2018-03-22 | 2020-03-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 保护层去除装置和方法 |
TWI745727B (zh) * | 2019-08-01 | 2021-11-11 | 健鼎科技股份有限公司 | 雷射製程設備 |
CN111408840B (zh) * | 2020-04-07 | 2021-10-19 | 哈尔滨工业大学(威海) | 一种感应加热辅助水下激光熔敷或增材的装置及使用方法 |
KR102214104B1 (ko) * | 2020-12-03 | 2021-02-09 | 주식회사 아성 | 레이저 클리닝을 이용한 마스크 프레임 표면처리 방법 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5441676A (en) * | 1977-09-09 | 1979-04-03 | Hitachi Ltd | Photo resist coating unit |
JPH0442122A (ja) * | 1990-06-07 | 1992-02-12 | Hakko:Kk | レーザー照射法を用いた樹脂塗膜を有する眼鏡枠の模様形成方法 |
JPH10305420A (ja) * | 1997-03-04 | 1998-11-17 | Ngk Insulators Ltd | 酸化物単結晶からなる母材の加工方法、機能性デバイスの製造方法 |
US6063651A (en) * | 1998-02-03 | 2000-05-16 | International Business Machines Corporation | Method for activating fusible links on a circuit substrate |
JP2004188475A (ja) * | 2002-12-13 | 2004-07-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工方法 |
JP2004322168A (ja) * | 2003-04-25 | 2004-11-18 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
JP4571850B2 (ja) * | 2004-11-12 | 2010-10-27 | 東京応化工業株式会社 | レーザーダイシング用保護膜剤及び該保護膜剤を用いたウエーハの加工方法 |
JP2006159254A (ja) * | 2004-12-07 | 2006-06-22 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
JP4555092B2 (ja) * | 2005-01-05 | 2010-09-29 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
JP4664710B2 (ja) * | 2005-03-09 | 2011-04-06 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
JP4648056B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2011-03-09 | 株式会社ディスコ | ウエーハのレーザー加工方法およびレーザー加工装置 |
-
2008
- 2008-10-07 JP JP2008260281A patent/JP5324180B2/ja active Active
-
2009
- 2009-08-25 TW TW098128506A patent/TWI504470B/zh active
- 2009-09-22 CN CN200910175532A patent/CN101712099A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI504470B (zh) | 2015-10-21 |
JP2010089109A (ja) | 2010-04-22 |
TW201016371A (en) | 2010-05-01 |
CN101712099A (zh) | 2010-05-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110912 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130115 |
|
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
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R250 | Receipt of annual fees |
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