JP4777783B2 - レーザー加工装置 - Google Patents
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Description
グループ(Teg)と称する金属パターンが施された半導体ウエーハが実用化されている。低誘電率絶縁体(Low−k膜)を積層せしめた形態の半導体ウエーハを切削ブレードによりストリートに沿って切削すると、低誘電率絶縁体が剥離するという問題がある。また、テスト エレメント グループ(Teg)と称する金属パターンが施された半導体ウエーハを切削ブレードによりストリートに沿って切削すると、金属パターンが銅等の粘りのある金属によって形成されているためにバリが発生するという問題がある。
そこで、被加工物の加工面に保護被膜を被覆するとともにレーザー加工後に保護膜を洗浄する保護被膜形成兼洗浄手段を備えたレーザー加工装置が提案されている(例えば、特許文献3参照。)
該仮置きテーブルに搬出された加工前の被加工物を該チャックテーブルに搬送する第1の搬送経路に配設され、加工前の被加工物の加工面に保護被膜を被覆する保護被膜形成手段と、
該チャックテーブルに保持された加工後の被加工物を該仮置きテーブルに搬送する第2の搬送経路に配設され、加工後の被加工物の加工面に被覆されている保護被膜を洗浄除去する洗浄手段と、
該仮置きテーブルに搬出された加工前の被加工物を該保護被膜形成手段に搬送するとともに該洗浄手段によって洗浄された加工後の被加工物を該仮置きテーブルに搬送する第1の搬送手段と、
該保護被膜形成手段によって保護被膜が被覆された加工前の被加工物を該チャックテーブルに搬送するとともに該チャックテーブルに保持された加工後の被加工物を該洗浄手段に搬送する第2の搬送手段と、を具備している、
ことを特徴とするレーザー加工装置が提供される。
図1に示すレーザー加工装置は、略直方体状の装置ハウジング2を具備している。この装置ハウジング2内には、被加工物を保持する被加工物保持手段としてのチャックテーブル3が加工送り方向である矢印Xで示す方向に移動可能に配設されている。チャックテーブル3は、吸着チャック支持台31と、該吸着チャック支持台31上に装着された吸着チャック32を具備しており、該吸着チャック32の表面である載置面上に被加工物である例えば円盤状の半導体ウエーハを図示しない吸引手段によって保持するようになっている。また、チャックテーブル3は、図示しない回転機構によって回動可能に構成されている。このように構成されたチャックテーブル3の吸着チャック支持台31には、後述する環状のフレームを固定するためのクランプ33が配設されている。
図示の実施形態における保護被膜形成手段7は、スピンナーテーブル機構71と、該スピンナーテーブル機構71を包囲して配設されたスピンナーテーブル収容手段72を具備している。スピンナーテーブル機構71は、スピンナーテーブル711と、該スピンナーテーブル711を回転駆動する電動モータ712と、該電動モータ712を上下方向に移動可能に支持する支持機構713を具備している。スピンナーテーブル711は多孔性材料から形成された吸着チャック711aを具備しており、この吸着チャック711aが図示しない吸引手段に連通されている。従って、スピンナーテーブル711は、吸着チャック711aに被加工物であるウエーハを載置し図示しない吸引手段により負圧を作用せしめることにより吸着チャック711上にウエーハを保持する。なお、スピンナーテーブル711には、上記環状のフレーム11を固定するためのクランプ714が配設されている。電動モータ712は、その駆動軸712aの上端に上記スピンナーテーブル711を連結する。上記支持機構713は、複数本(図示の実施形態においては3本)の支持脚713aと、該支持脚713aをそれぞれ連結し電動モータ712に取り付けられた複数本(図示の実施形態においては3本)のエアシリンダ713bとからなっている。このように構成された支持機構713は、エアシリンダ713bを作動することにより、電動モータ712およびスピンナーテーブル711を図3に示す上方位置である被加工物搬入・搬出位置と、図4に示す下方位置である作業位置に位置付ける。
図示の実施形態における洗浄手段8は、スピンナーテーブル機構81と、該スピンナーテーブル機構81を包囲して配設された洗浄水受け手段82を具備している。スピンナーテーブル機構81は、上記保護被膜形成手段7のスピンナーテーブル機構71と同様に、スピンナーテーブル811と、該スピンナーテーブル811を回転駆動する電動モータ812と、該電動モータ812を上下方向に移動可能に支持する支持機構813を具備している。スピンナーテーブル811は多孔性材料から形成された吸着チャック811aを具備しており、この吸着チャック811aが図示しない吸引手段に連通されている。従って、スピンナーテーブル811は、吸着チャック811aに被加工物であるウエーハを載置し図示しない吸引手段により負圧を作用せしめることにより吸着チャック811上にウエーハを保持する。なお、スピンナーテーブル811には、上記環状のフレーム11を固定するためのクランプ814が配設されている。電動モータ812は、その駆動軸812aの上端に上記スピンナーテーブル811を連結する。上記支持機構813は、複数本(図示の実施形態においては3本)の支持脚813aと、該支持脚813aをそれぞれ連結し電動モータ812に取り付けられた複数本(図示の実施形態においては3本)のエアシリンダ813bとからなっている。このように構成された支持機構813は、エアシリンダ813bを作動することにより、電動モータ812およびスピンナーテーブル811を図6に示す上方位置である被加工物搬入・搬出位置と、図7に示す下方位置である作業位置に位置付ける。
第1の搬送手段16は、仮置きテーブル15と保護被膜形成手段7と洗浄手段8に対して等距離の位置に配設されている。この第1の搬送手段16は、一般に使用されている搬送手段と同一の構成でよく、上記環状のフレーム11を吸引保持する保持手段161と、該保持手段161を上下方向に昇降可能で且つ旋回可能に支持する支持手段162とからなっている。このように構成された第1の搬送手段16は、仮置きテーブル15に搬出された加工前の半導体ウエーハ10(環状のフレーム11に装着された保護テープ12の表面に貼着された状態)を保護被膜形成手段7に搬送するとともに洗浄手段8によって洗浄された加工後の半導体ウエーハ10(環状のフレーム11に装着された保護テープ12の表面に貼着された状態)を仮置きテーブル15に搬送する。
図1に示すように環状のフレーム11に保護テープ12を介して支持された加工前の半導体ウエーハ10(以下、単に半導体ウエーハ10という)は、加工面である表面10aを上側にしてカセット13の所定位置に収容されている。カセット13の所定位置に収容された加工前の半導体ウエーハ10は、図示しない昇降手段によってカセットテーブル131が上下動することにより搬出位置に位置付けられる。次に、被加工物搬出搬入手段14が進退作動して搬出位置に位置付けられた半導体ウエーハ10を仮置き部15aに配設された仮置きテーブル15に搬出する。仮置きテーブル15に搬出された半導体ウエーハ10は、中心位置を合わせる中心位置合せ工程が実施される。次に、仮置きテーブル15によって中心位置合わせされた加工前の半導体ウエーハ10は、第1の搬送手段16の保持手段161によって吸引保持され、支持手段162を中心とする旋回動作によって保護被膜形成手段7を構成するスピンナーテーブル711の吸着チャック711a上に搬送され、該吸着チャック711aに吸引保持される(ウエーハ保持工程)。また、環状のフレーム11がクランプ714によって固定される。このとき、スピンナーテーブル711は図3に示す被加工物搬入搬出位置に位置付けられており、樹脂供給ノズル741は図2および図3に示すようにスピンナーテーブル711の上方から離隔した待機位置に位置付けられている。
レーザー光線の光源 :YVO4レーザーまたはYAGレーザー
波長 :355nm
繰り返し周波数 :20kHz
出力 :3W
パルス幅 :0.1ns
集光スポット径 :φ5μm
加工送り速度 :100mm/秒
3:チャックテーブル
4:レーザー光線照射手段
41: レーザー光線発振手段
42:集光器
5:撮像機構
6:表示手段
7:保護被膜形成手段
71:スピンナーテーブル機構
711:スピンナーテーブル
712:電動モータ
72:洗浄水受け手段
74:樹脂液供給手段
741:樹脂液供給ノズル
8:洗浄手段
81:スピンナーテーブル機構
811:スピンナーテーブル
812:電動モータ
82:洗浄水受け手段
78:洗浄水供給手段
841:洗浄水ノズル
85:エアー供給手段
851:エアーノズル
10:半導体ウエーハ
101:ストリート
102:デバイス
110:保護被膜
11:環状のフレーム
12:保護テープ
13:カセット
14:被加工物搬・搬入手段
15:仮置きテーブル
16:第1の搬送手段
17:第2の搬送手段
Claims (1)
- 被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物にレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段と、被加工物を収容したカセットが載置されるカセット載置テーブルと、該カセット載置テーブルに載置されたカセットから被加工物を搬出および搬入する搬出搬入手段と、該搬出搬入手段によって搬出された被加工物を仮置きする仮置きテーブルと、を具備するレーザー加工装置において、
該仮置きテーブルに搬出された加工前の被加工物を該チャックテーブルに搬送する第1の搬送経路に配設され、加工前の被加工物の加工面に保護被膜を被覆する保護被膜形成手段と、
該チャックテーブルに保持された加工後の被加工物を該仮置きテーブルに搬送する第2の搬送経路に配設され、加工後の被加工物の加工面に被覆されている保護被膜を洗浄除去する洗浄手段と、
該仮置きテーブルに搬出された加工前の被加工物を該保護被膜形成手段に搬送するとともに該洗浄手段によって洗浄された加工後の被加工物を該仮置きテーブルに搬送する第1の搬送手段と、
該保護被膜形成手段によって保護被膜が被覆された加工前の被加工物を該チャックテーブルに搬送するとともに該チャックテーブルに保持された加工後の被加工物を該洗浄手段に搬送する第2の搬送手段と、を具備している、
ことを特徴とするレーザー加工装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006018025A JP4777783B2 (ja) | 2006-01-26 | 2006-01-26 | レーザー加工装置 |
TW096100684A TWI392002B (zh) | 2006-01-26 | 2007-01-08 | Laser processing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006018025A JP4777783B2 (ja) | 2006-01-26 | 2006-01-26 | レーザー加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007201178A JP2007201178A (ja) | 2007-08-09 |
JP4777783B2 true JP4777783B2 (ja) | 2011-09-21 |
Family
ID=38455455
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006018025A Active JP4777783B2 (ja) | 2006-01-26 | 2006-01-26 | レーザー加工装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4777783B2 (ja) |
TW (1) | TWI392002B (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009148793A (ja) * | 2007-12-20 | 2009-07-09 | Disco Abrasive Syst Ltd | 保護膜被覆装置およびレーザー加工機 |
JP2010012508A (ja) * | 2008-07-07 | 2010-01-21 | Disco Abrasive Syst Ltd | 保護膜被覆装置及びレーザー加工装置 |
JP2010267653A (ja) * | 2009-05-12 | 2010-11-25 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
JP5356914B2 (ja) * | 2009-05-28 | 2013-12-04 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
JP5385060B2 (ja) | 2009-09-07 | 2014-01-08 | 株式会社ディスコ | 保護膜被覆方法および保護膜被覆装置 |
JP5967985B2 (ja) * | 2012-03-12 | 2016-08-10 | 株式会社ディスコ | レーザー加工方法 |
JP6137798B2 (ja) * | 2012-09-26 | 2017-05-31 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置及び保護膜被覆方法 |
JP6081868B2 (ja) * | 2013-06-18 | 2017-02-15 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
JP6261967B2 (ja) * | 2013-12-03 | 2018-01-17 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP2015115592A (ja) * | 2013-12-16 | 2015-06-22 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP6393583B2 (ja) | 2014-10-30 | 2018-09-19 | 株式会社ディスコ | 保護膜検出装置及び保護膜検出方法 |
JP6478728B2 (ja) | 2015-03-11 | 2019-03-06 | 株式会社ディスコ | 保護膜検出方法 |
JP7064887B2 (ja) | 2018-01-12 | 2022-05-11 | 株式会社ディスコ | 加工装置の管理方法および加工装置 |
JP2023120010A (ja) | 2022-02-17 | 2023-08-29 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP2023161729A (ja) | 2022-04-26 | 2023-11-08 | 株式会社ディスコ | フレームユニットの処理方法 |
CN115257037B (zh) * | 2022-09-28 | 2022-12-20 | 山东豪迈数控机床有限公司 | 机床旋转工装及激光清洗机床 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10305420A (ja) * | 1997-03-04 | 1998-11-17 | Ngk Insulators Ltd | 酸化物単結晶からなる母材の加工方法、機能性デバイスの製造方法 |
JPH11320385A (ja) * | 1998-05-14 | 1999-11-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 研磨方法及びその装置 |
JP3464388B2 (ja) * | 1998-07-01 | 2003-11-10 | 株式会社東芝 | 半導体ウェーハの分割加工方法 |
JP2004188475A (ja) * | 2002-12-13 | 2004-07-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工方法 |
JP2004322168A (ja) * | 2003-04-25 | 2004-11-18 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
JP4381121B2 (ja) * | 2003-12-11 | 2009-12-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
-
2006
- 2006-01-26 JP JP2006018025A patent/JP4777783B2/ja active Active
-
2007
- 2007-01-08 TW TW096100684A patent/TWI392002B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI392002B (zh) | 2013-04-01 |
JP2007201178A (ja) | 2007-08-09 |
TW200735197A (en) | 2007-09-16 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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