JP5437168B2 - 基板の液処理装置および液処理方法 - Google Patents
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Description
2 ケーシング
2a 開口
10 保持部
12 回転軸
14 ベアリング
18 シャッター
20 回転駆動部
22 モータ
24 プーリ
26 駆動ベルト
30 上方カップ
31 ヒータ
32 対向板
32a 開口
33 断熱部材
34 ガス加熱フィン
34a フィン部分
36 天板部材
36a 貫通穴
36b 上部開口
36c 底部
38 シール部材
39 遮蔽ユニット
40 下方カップ
40a 流路
42 排気部
44 上方カップ昇降機構
44a アーム
46 下方カップ昇降機構
46a アーム
48 送風機構
50 処理液供給部
52 処理液流路
54 貫通穴
56 処理液供給管
58 ノズル
70 上方カップ
71 ヒータ
72 対向板
72a 流路
74 ガス加熱フィン
74a フィン部分
76 天板部材
76a 貫通穴
79 遮蔽ユニット
80 上方カップ
82 本体部分
82a 断熱部材
82b ヒータ
82c 流路
84 ガス加熱フィン
86 天板部材
86a 貫通穴
88 断熱部材
89 遮蔽ユニット
101 載置台
102 搬送アーム
103 棚ユニット
104 搬送アーム
W ウエハ
Claims (18)
- 基板を保持する保持部と、
前記保持部を回転させる回転駆動部と、
前記保持部により保持された基板の周縁部分に処理液を供給する処理液供給部と、
前記保持部により保持された基板に対向して基板の表面を覆う対向板と、前記対向板に設けられて前記対向板を介して基板を加熱する加熱部分と、前記加熱部分により加熱されたガスを保持された基板の表面に供給する加熱ガス供給部分と、を有する遮蔽ユニットと、を備え、
前記保持部は、前記対向板とは反対側の面から前記基板を保持し、
前記処理液供給部による処理液の供給位置よりも半径方向内側の位置において、前記対向板に、前記加熱ガス供給部分としての開口が形成され、
前記加熱ガス供給部分から供給された前記ガスは、前記保持部により保持されて回転する基板の表面と前記対向板の下面との隙間を通って前記基板の周縁に向かって流れることを特徴とする基板の液処理装置。 - 前記遮蔽ユニットは、ガスを当該遮蔽ユニット内に導入するためのガス導入部分を更に有し、
前記遮蔽ユニットにおいて、前記ガス導入部分により前記遮蔽ユニット内に導入されたガスが当該遮蔽ユニット内で加熱され、この加熱されたガスが前記加熱ガス供給部分によって基板に供給されることを特徴とする請求項1記載の基板の液処理装置。 - 前記遮蔽ユニットにおいて、前記加熱部分は、前記対向板を介して基板を加熱する際に基板の周縁部分を加熱するようになっており、前記加熱ガス供給部分は、加熱されたガスを、基板の表面における前記処理液供給部により処理液が供給される箇所よりも内側であって前記保持部に接触する領域よりも外側に供給するようになっていることを特徴とする請求項1または2記載の基板の液処理装置。
- 前記対向板の直径は前記保持部の直径よりも大きくなっており、
前記保持部により保持された基板と、前記対向板との間には、基板より直径が小さく前記保持部よりも直径が大きい断熱部材が設けられていることを特徴とする請求項3記載の基板の液処理装置。 - 前記遮蔽ユニットは、前記ガス導入部分により当該遮蔽ユニット内に導入されたガスを迂回させる迂回板を更に有し、
前記遮蔽ユニットにおいて、前記ガス導入部分により前記遮蔽ユニット内に導入されたガスが前記迂回板により迂回され、前記加熱ガス供給部分から基板に供給されることを特徴とする請求項2乃至4のいずれか一項に記載の基板の液処理装置。 - 前記遮蔽ユニットは、前記加熱部分により加熱され、前記ガス導入部分により前記遮蔽ユニット内に導入されたガスが接触する加熱部材を有し、
前記遮蔽ユニットにおいて、前記ガス導入部分により前記遮蔽ユニット内に導入されたガスが、前記加熱部分により加熱された前記加熱部材に接触することにより加熱されることを特徴とする請求項2乃至5のいずれか一項に記載の基板の液処理装置。 - 前記加熱部材は、前記保持部により保持された基板の中心部分から周縁部分に向かう方向に沿って複数段設けられたフィン部分を有する加熱フィンであり、
前記加熱フィンの前記各フィン部分に沿ってガスが流れることにより当該ガスが前記加熱フィンにより加熱されることを特徴とする請求項6記載の基板の液処理装置。 - 前記加熱フィンの各フィン部分は、前記保持部により保持された基板の周方向に沿って延びるよう設けられていることを特徴とする請求項7記載の基板の液処理装置。
- 前記遮蔽ユニットの前記加熱ガス供給部分は、加熱されたガスを前記保持部により保持された基板の表面の中心部分に供給するようになっていることを特徴とする請求項1または2記載の基板の液処理装置。
- 前記遮蔽ユニットの前記加熱ガス供給部分によって前記保持部により保持された基板の表面に供給された、加熱されたガスを排気するための排気部を更に備えたことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の基板の液処理装置。
- 保持部により基板を保持させることと、
基板を保持する前記保持部を回転させることと、
前記保持部により保持された基板の周縁部分に処理液を供給することと、
対向板と、前記対向板に設けられた加熱部分および加熱ガス供給部分とを有する遮蔽ユニットを、前記対向板が、前記保持部により保持された基板に対向し基板の表面を覆うように配置することと、
前記加熱部分により前記対向板を介して基板を加熱することと、
前記加熱部分により加熱されたガスを前記加熱ガス供給部分から基板に供給することと、
を備え、
前記保持部は、前記対向板とは反対側の面から前記基板を保持し、
前記処理液供給部による処理液の供給位置よりも半径方向内側の位置において、前記対向板に、前記加熱ガス供給部分としての開口が形成され、
前記加熱ガス供給部分から供給された前記ガスは、前記保持部により保持されて回転する基板の表面と前記対向板の下面との隙間を通って前記基板の周縁に向かって流れることを特徴とする基板の液処理方法。 - 前記遮蔽ユニットは、ガスを当該遮蔽ユニット内に導入するためのガス導入部分を更に有し、
加熱されたガスを前記保持部により保持された基板に供給する際に、前記ガス導入部分により前記遮蔽ユニット内に導入されたガスを当該遮蔽ユニット内で加熱し、この加熱されたガスを基板に供給することを特徴とする請求項11記載の基板の液処理方法。 - 前記保持部により保持された基板に対向して配置された対向板を介して、遮蔽ユニットの加熱部分により基板を加熱する際に、基板の周縁部分を加熱し、
加熱されたガスを前記保持部により保持された基板に供給する際に、加熱されたガスを、基板の表面における前記処理液供給部により処理液が供給される箇所よりも内側であって前記保持部に接触する領域よりも外側に供給することを特徴とする請求項11または12記載の基板の液処理方法。 - 前記対向板の直径は前記保持部の直径よりも大きくなっており、
前記保持部により保持された基板と、前記対向板との間には、基板より直径が小さく前記保持部よりも直径が大きい断熱部材が設けられていることを特徴とする請求項13記載の基板の液処理方法。 - 前記遮蔽ユニットは、前記ガス導入部分により当該遮蔽ユニット内に導入されたガスを迂回させる迂回板を更に有し、
加熱されたガスを前記保持部により保持された基板に供給する際に、前記ガス導入部分により前記遮蔽ユニット内に導入されたガスを前記迂回板により迂回させ、その後基板に供給することを特徴とする請求項12乃至14のいずれか一項に記載の基板の液処理方法。 - 前記遮蔽ユニットは、前記加熱部分により加熱され、前記ガス導入部分により前記遮蔽ユニット内に導入されたガスが接触する加熱部材を有し、
加熱されたガスを前記保持部により保持された基板に供給する際に、前記ガス導入部分により前記遮蔽ユニット内に導入されたガスを、前記加熱部分により加熱された前記加熱部材に接触させることにより加熱することを特徴とする請求項12乃至15のいずれか一項に記載の基板の液処理方法。 - 加熱されたガスを前記保持部により保持された基板の表面に供給する際に、加熱されたガスを前記保持部により保持された基板の表面の中心部分に供給することを特徴とする請求項11または12記載の基板の液処理方法。
- 加熱されたガスを前記保持部により保持された基板の表面に供給する際に、前記保持部により保持された基板の表面に供給された、加熱されたガスを排気部により排気することを特徴とする請求項11乃至17のいずれか一項に記載の基板の液処理方法。
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