JP2009117762A - ウエーハエッジのエッチング方法及び装置。 - Google Patents

Abstract

【課題】ウエーハの上面に形成された絶縁膜やメタル膜の多層配線のエッジ部分を同時に効率よくエッチングし、成分や配合の異なるエッチング液を再利用できるようにしたウエーハエッジのエッチング方法及び装置を提供する。
【解決手段】ウエーハ１の周囲に複数のエッチングユニット６を配置する。このエッチングユニット６内に設けられたエッチングローラー１０には、各エッチングユニット６ごとにエッチングしようとする絶縁膜やメタル膜に最適のエッチング液が供給される。ウエーハの上下にはリングブロー２０，２１が設けられ、ホットエアーをウエーハの半径方向の環状に噴き出し、エッチング液のガスをエッチングユニット内に吹き戻すと共にウエーハを加温している。エッチングユニットの中心軸８部分の排気口から上記エッチング液はエッチング液ごとに回収され、再利用することができる。
【選択図】図２

Description

本発明は表面に絶縁膜やメタル膜が多層に形成された多層配線を有するウエーハのエッジをエッチングするウエーハエッジのエッチング方法及び装置に関するものである。

近年、半導体の最先端デバイスでは多層配線技術が導入され、ウエーハの表面に絶縁膜やメタル膜を多層に形成しているが、多層配線にしていくと、ウエーハエッジの汚染に起因する種々の問題が生じ、歩留まりに影響することがある。具体的には、エッジに付着しているパーティクルやカーボンの除去、メタルコンタミの残渣やメタルバリの除去、各絶縁膜の残渣の除去等の必要があり、またエッジエッチングをしないと後工程で汚染物質が拡散して洗浄バスを汚染したり、ウエーハの移送中に搬送カセットやカセット溝に付着した汚染物質でウエーハ接触部が汚染されるので、ウエーハエッジをエッチング処理することが望まれている。また、フォトリソ工程を通すためにはメタル絶縁膜を１〜３層程度瞬時に除去する必要があり、この処理にもウエーハエッジのエッチング処理が用いられる。さらに、多層配線の処理工程を繰り返し行うことによりウエーハ全体やウエーハエッジ部分に反りを生じることが知られている。このようにウエーハエッジ部分がウエーハの裏面側に反ると、ウエーハを全面吸着して保持するときフラットに吸着できなくなり、フォトリソ工程での露光時にピント合わせが面倒になったり、検査時に誤差を生じ、不良品を発生する原因となることがある。そのためにウエーハエッジの裏面外周縁をエッチング処理して薄く除去することが望まれている。

従来、多層配線されたウエーハエッジ部分に固着している汚染物質の除去、ウエーハ外周部の不要な各メタル、各層間の絶縁膜等の除去方法として、下記するような方法が知られているが種々の欠点がある。例えば、ウエーハを吸着して回転させ、エッジ部分の絶縁膜、メタル膜に研磨剤をかけながら研磨パットをウエーハエッジに回転接触させてウエーハエッジを研磨する方法（例えば特許文献１参照）では、一枚当たりの研磨コストがかかり、特に一次研磨、二次研磨まで行うと一層コストは多大となり、経済的ではない。また、ウエーハエッジやウエーハの全面に洗浄液を使用してブラシ洗浄する方法では、不純物が強く付着していると洗浄だけで除去することはできず、ウエーハ外周部のメタル膜や絶縁膜等を充分に除去することができない。ウエーハ全面をレジストで保護し、不要な外周部を感光させてエッジ部分の絶縁膜やメタル膜等をプラズマエッチング等で除去する方法では、プラズマによるドライエッチングのため残渣が発生し、これをウエットエッチング洗浄しても、ウエーハエッジに物理的な力が加わっていないため、残渣が発生しやすく、経済的にも得られない。

除去しようとする外周部を残して、多層配線したウエーハのパターン面にテープを張り、ウエットエッチングによりテープから露出している不要部分のメタル膜や絶縁膜をエッチング除去し、洗浄、乾燥してからテープを剥離する方法も知られている。しかし、この方法では、パターン面にテープの粘着剤が残り、さらに、エッチング処理時にウエーハをエッチング処理液にディップするため、テープエッジ部分がエッチングされてアンダーカットを生じたり、鋭角部分を生じたりし、この鋭角部分が欠けると、メタルコンタミやパーティクル発生の原因となる。その上、テープマウント、エッチング洗浄、テープディマウント等と工程間の搬送が多くなり、フットプリントも大きくなり、不要になったテープのごみ処理の問題も生じる。なお、ウエーハエッジにエッチングローラーを接触させてウエーハエッジをエッチングする方法も知られているが（例えば特許文献２参照）、ウエーハ面に絶縁膜やメタル膜が多層に形成されている場合エッジ部分の不要な絶縁膜やメタル膜を効率よく同時に除去する構成ではないし、材質の異なる多層膜を一緒に除去するよう各種のエッチング液を同時に使用してエッチング処理するとエッチング液が混ざり合ってしまうので循環させて簡単に再利用することができない。また、エッチング処理するレベル（高さ位置）と洗浄処理するレベル（高さ位置）が同じであるから、純水ブラッシング、リンス、乾燥等の処理時にエッチングユニットの開口部から純水が入り込み、エッチング液が薄まり、該エッチング液を再利用することができなかった。複数のエッチング液が混合されると、廃液の処理も面倒であり、特に、近年は廃液の処理や環境汚染の問題が重要視されているが、従来知られている方法や装置は廃液の処理やごみの問題等で満足できないものが多い。
特開平９−１８６２３４号公報（段落００２６〜段落００３１、図５） 特公平７−１５８９７号公報（請求項１、３、図１〜図６）

本発明の解決課題は、多層配線されたウエーハのエッジ部分の不要な絶縁膜やメタル膜等を効率よく除去したり、汚染の原因となる物質を確実に除去でき、エッチング液の再利用も可能で、廃液等も工場内で簡単に処理でき、環境にやさしいウエーハエッジのエッチング方法および装置を提供することである。

本発明によれば、ウエーハのエッジに接触するエッチングローラーにエッチング液を供給し該エッジをエッチングしつつ該エッチング液を回収するようにした複数のエッチングユニットを有し、該エッチングユニットを回転するウエーハの周囲に配置し、各エッチングユニット毎に供給するエッチング液を該ウエーハの表面に多層に形成された絶縁膜やメタル膜のエッチングに適したエッチング液に変えて供給し、多層配線の複数のメタル膜や絶縁膜を同時にエッチングすることを特徴とするウエーハエッジのエッチング方法および装置が提供され、上記課題が解決される。

また、本発明によれば上記方法・装置はエッチングユニットの下方にウエーハのエッジを洗浄するエッジ洗浄ブラシを含む洗浄ユニットを有し、上記エッチング処理後のウエーハを降下させて上記エッチングユニットの下方で洗浄し、上記ウエーハの上面及び下面には加温されたクリーンエアーをウエーハの半径方向に環状に噴き出すリングブローが設けられ、該リングブローからのホットエアーの流れと上記エッチングユニット内を排気する局所排気の流れにより上記エッチング液を回収し、かつ該ホットエアーの加温により上記エッチングユニットから離れたウエーハ上のエッチング液を直ちに乾燥させることを特徴とする上記ウエーハエッジのエッチング方法および装置が提供され、上記課題が解決される。

上記エッチングローラーはウエーハのエッジの上面に摺接して該ウエーハの上面に形成された絶縁膜やメタル膜の外周縁をエッチングする形状の溝を有し、または上記エッチングローラーは上記ウエーハのエッジの下面に摺接してウエーハの下面の外周部をエッチングする形状の面を有する上記ウエーハエッジのエッチング方法および装置が提供され、上記課題が解決される。

本発明は、上記のように構成され、ウエーハのエッジに接触するエッチングローラーにエッチング液を供給し該エッジをエッチングしつつ該エッチング液を回収するようにした複数のエッチングユニットを有し、該エッチングユニットを回転するウエーハの周囲に配置し、各エッチングユニット毎に供給するエッチング液を該ウエーハの表面に多層に形成された絶縁膜やメタル膜のエッチングに適したエッチング液に変えて供給し、多層配線の複数のメタル膜や絶縁膜を同時にエッチングするようにしたので、ウエーハ表面に形成された絶縁膜やメタル膜のエッチングに適した各種のエッチング液、例えば硝酸＋純水、硝酸、フッ酸＋硝酸、王水、フッ酸＋硝酸＋純水、フッ酸＋純水その他、成分や濃度、配合割合等の異なるエッチング液を用意し、最適のエッチング液をそれぞれのエッチングユニットに供給してエッチング処理すれば、短時間に同時に複数の配線膜をエッチングして不要部分を除去することができ、効率がよい。

また、上記エッチングユニットの下方に洗浄ユニットを設け、エッチング処理後にウエーハを降下させて該洗浄ユニットでウエーハを洗浄すれば、上方に位置する上記エッチングユニットに洗浄液等が混入するおそれがない。さらに、上記ウエーハの上面及び下面に、加温されたクリーンエアーをウエーハの半径方向に環状に噴き出すリングブローを設け、該リングブローからのホットエアーの流れと上記エッチングユニット内を排気する局所排気の流れにより上記エッチング液を回収し、かつ該ホットエアーの加温により上記エッチングユニットから離れたウエーハ上のエッチング液を直ちに乾燥させるようにすれば、別のエッチングユニットに供給されたエッチング液が隣接する他のエッチングユニットに入り込むことがない。したがって、各エッチングユニットに供給されたエッチング液ごとに回収できるので、循環させて再利用が可能であり、成分や配合割合がはっきりしているから廃液処理する際も簡単で、工場内で処理することが容易である。

また、絶縁膜やメタル膜が形成されたウエーハのエッジの上面に摺接する形状の溝を上記エッチングローラーに形成しておけば、絶縁膜やメタル膜の外周縁を所望の巾にエッチングすることができるし、該ウエーハのエッジ下面に摺接する形状の面を形成しておけば、裏面側に反ったウエーハの下面端部を薄くエッチングしてウエーハエッジの反りをなくし、次工程でウエーハの全面を吸着保持する際に該ウエーハをフラットに吸着することが可能となり、フォトリソ工程での露光時のピント合わせも容易になり、その後の各種検査においても誤差を生じるおそれがなく、不良品の発生を少なくすることができる。

図１は、多層配線をしたウエーハの一部の拡大した説明図であって、シリコンウエーハ１の上面には公知のようにゲート絶縁膜２が形成され、その上にタングステン、チッ化チタン、チタン、アルミ、銅その他の各種のメタル膜やシリコン酸化膜等の層間絶縁膜により多層配線３が形成されている。そして、ウエーハのエッジにはパーティクルやカーボン等が固着したり、メタルコンタミ、メタルバリ、絶縁膜の残渣等が付着しており、これらの汚染物質４をエッチング除去する必要がある。また、フォトリソ工程を通すためにエッジ部分のゲート絶縁膜を残して多層のメタル膜や絶縁膜を１〜３層程度、瞬時に除去する必要もあり、このためにもウエーハエッジをエッチングする必要がある。

図２、図３は、上記のように多層配線が形成されたウエーハのエッジをエッチングするための本発明の一実施例が示されている。図において、スピンチャック等のチャック５に保持されて回転するウエーハ１の周囲には複数のエッチングユニット６が設けられ、該エッチングユニット６の本体７はそれぞれ該本体内を局所排気する排気口を兼ねた中心軸８（図４参照）を中心としてウエーハエッジに近接するよう回動可能に設けられている。図に示す実施例ではエッチングユニット６は２個設けてあるが、所望により３個以上設けることもできる。該エッチングユニット本体７は、上記ウエーハのエッジに対向する開口部９を有し、該開口に臨む本体内には該エッジに接触するエッチングローラー１０が設けられている。該エッチングローラー１０はモーター１１、歯車列１２等を介してウエーハの回転と同じ方向に回転され、図に示す実施例では２個のローラーで構成されているが、１個のローラーで構成することもできる。この際、ウエーハの周速とエッチングローラーの周速を変えて汚染物質を擦りながらエッチング除去するとよい。該エッチングローラー等は支軸１３を中心として回動する支持板１４上に組み込まれ、該支持板１４を回動させると、エッチングローラー１０はウエーハ１のエッジ方向に進退し所定の圧力でウエーハエッジに圧接される。なお、該支持板１４の下面には案内ローラー（図示略）が設けられており、該案内ローラーがエッチングユニット本体７の内面上を転動することにより、該支持板はスムーズに移動する。

上記エッチングユニット本体７を移動するエッチングユニット移動手段と上記支持板１４を移動するためのエッチングローラー移動手段として、図に示す実施例ではシリンダー装置を用いており、エッチングユニット本体を移動するシリンダー１５としてはモーターシリンダーを用い、上記エッチングローラー１０がウエーハエッジに接触する少し手前までエッチングユニット本体を前後動させている。また、支持板を移動させるシリンダー１６としてはエッチングローラーを前後動させると共にウエーハエッジに接触するときの衝撃を適度のクッション作用により和らげることができるよう低摩擦型のエアーシリンダーを用いている。なお、シリンダー機構に替えて適宜のロータリーアクチュエーターやモーター機構、リンク機構、カム機構その他の適宜の移動手段を用いることもできる（図示略）。従来のように一つの移動手段を用いて直接エッチングユニットを移動しエッチングローラーをウエーハエッジに接触させる場合にはエッチングローラーとウエーハエッジの接触圧が例えば７００グラムとかなり強くなり、エッチングローラーの消耗が激しく、エッチング精度も悪くなり、オリフラのあるウエーハではオリフラ部分のエッチングを二つのローラーでエッチングすることができず、専用のローラーを別に用意しなければならないことがあった。一方、上記のようにエッチングユニット本体の移動手段とエッチングローラーの移動手段を別々にして個々に制御すると、エッチングローラーとウエーハエッジの接触圧を例えば２００〜３００グラム程度に軽減でき、エッチングローラーの寿命が長くなり、オリフラがあるウエーハでも２個のエッチングローラーがオリフラに追従して移動し均一にエッチングすることが可能になり、エッチング精度を向上させることができる。

上記エッチングローラー１０には上方からエッチング液が供給され、このエッチング液がエッチングローラーに浸透含浸してローラー外周部から滲み出すよう該エッチングローラーは耐有機、耐酸、耐アルカリ等の耐薬品性のある発泡体材料で構成され、図に示す実施例では高密度ポリエチレン材料の発泡体で作られ、周面にウエーハのエッジ上面に摺接する形状の溝１７が形成されている。この溝１７はエッチングすべきエッジの外周縁の巾や形状に応じて適宜の形状、深さに形成される。また、エッチング液は供給ノズル１８からローラー上面に形成した環状の受溝内に供給され、この際エッチング液を少量ずつ滴下してもよいが、滴下式にすると、滴下した部分に存する受溝の貫通孔を通ってエッチングローラーの一部に集中的にエッチング液が浸透し、液が浸透した部分で該エッチングローラーの表面張力が大きくなり、エッチング界面に滲みが生じたり、エッチング幅が大きく、例えば±３００μｍ程度となって問題を生じるおそれがある。そこで、好ましくは、滴下する前にエッチング液が常にエッチングローラーに少しづつ伝達されるよう供給ノズルの先端の供給口に接触しない程度の近傍に、換言すると液滴の大きさよりも供給口に近接して流液壁１９を環状に設けてある。このような構成にすることによりエッチング液が集中してエッチングローラーの一部に供給されないから、エッチングローラー表面の表面張力が安定し、エッチング界面が改善され、所望のエッチング幅、例えば±７５μｍ程度に均質にエッチングすることができ、品質がよくなる。

上記ウエーハの上面及び下面には、ラインヒーター等で加温、調温されたクリーンエアーをウエーハの半径方向に環状に噴き出すリングブロー２０、２１を設けてあり、ウエーハ１を加温すると共にエッチング界面の滲みを防いでいる。上面側のリングブロー２０はウエーハがチャックに吸着保持された後、その上方に移動するよう構成すればよい。また、下面側のリングブロー２１は上記チャック５の側方からウエーハの裏面に沿うように全体を２分割した形状の半リングブロー部材（図示略）で構成し、ウエーハがチャックに保持されたとき該半リングブロー部材がウエーハの下面に移動し合着して一体のリングブロー２１となるようにしてある。なお、該半リングブロー部材の合わせ面は上記２個のエッチングローラー間に対応しない位置にずらして設けると、エアーの噴出がない部分がエッチングローラーから外れるので、エッチング界面のキレが良好になり、不良品を発生することが少ない。このリングブローからのホットエアーの温度はエッチングローラーに接触してウエーハのエッジに付着したエッチング液が、ウエーハが該エッチングローラーから離れた時点で、例えば約３０度程度回転したときに乾燥するような温度、例えば５０℃度程度に設定すると、エッチングスピードも従来の倍程度に向上するので、特に好ましい。また、ホットエアーの風量は、上記エッチングユニット本体内を排気している局所排気の流れと共同してエッチング液のガスがエッチング本体の上記開口から流出しない程度にしてある。

上記ホットエアーにより加温されたウエーハの温度はウエーハに近接して設けた放射温度計２２で検出している。従来公知の構造は、ウエーハの上部に複数の、例えば二つのランプを設けて加温しているが、この構造ではランプ近くのウエーハ部分がほかの部分よりも過度に加温されるのでウエーハ表面の温度ムラが例えば５０±１５℃以上もあり、昇温の温度ムラが大きくなってエッチングムラが発生し、エッチング時間も要していた。上記のように上記リングブローを使用し放射温度計で温度を検知してホットエアーの温度を制御することにより、ウエーハ温度を５０±２℃以内に安定させることができ、ウエーハ温度が安定するためエッチング界面におけるエッチングのばらつきがなくなり、滲みが従来では６００μｍであったものが１５０μｍ程度に改善することができ、品質が向上した。

上記エッチングユニットの下方には、上記エッチングユニットを設けたレベル（高さ位置）から６０ｍｍ程度降下した位置に、エッチング処理後のウエーハのエッジをスピン洗浄するための洗浄ユニット２３が設けられている（図５参照）。該洗浄ユニットは、純水を供給しながら物理的にエッジを洗浄するようＰＶＡスポンジブラシで構成されたエッジ洗浄ブラシ２４、リンス装置、乾燥装置等の公知の構成を含んでおり、エッチングユニットのレベル（高さ位置）より下げて設けられているので、エッチングユニット６に純水が入り込むことがなく、エッチング液の再利用が可能で、エッチング液の無駄もない。

上記構成により多層膜が形成されたウエーハ１のエッジをエッチングするには、形成された膜の種類に応じてエッチング液を変えて上記エッチングユニットに供給する。例えば、メタル膜のみを除去したい場合は、硝酸＋純水、５０％前後の濃度の硝酸、フッ酸＋硝酸、王水（硝酸＋塩酸）等を使用し、各層間絶縁膜のみを除去したい場合はフッ酸＋硝酸、フッ酸＋硝酸＋純水、フッ酸＋純水を使用し、各メタル膜及び各層間絶縁膜を同時に除去したい場合はフッ酸＋硝酸、フッ酸＋硝酸＋純水、王水等を使用し、これらの薬液をベースとして適宜酢酸、リン酸、過酸化水素、硫酸、界面活性剤等を混合、添加し、さらに各メタル膜や絶縁膜の種類に応じて各薬液濃度、配合割合、混合比等を変えたり、添加剤等を入れて組成を変え、目的とするエッチング液を準備し、上記供給ノズル１８、流液壁１９を介して上記各エッチングユニット６のエッチングローラー１０に供給する。

上記エッチングユニット６は上記ウエーハエッジにエッチングローラー１０が接触しない位置までエッチングユニット移動手段で移動され、その後エッチングローラー移動手段により上記エッチングローラー１０の接触圧が２００グラム前後になる程度にウエーハエッジに接触する位置までエッチングローラーを移動させ、複数種のエッチング液を使用してウエーハ１のエッジの多層配線を同時にエッチングする。このときエッチングローラーに供給されたエッチング液はエッチングユニット６の外方に流出することなく各エッチングユニットごとに上記中心軸８の排気口から殆ど、９９％以上回収され、それぞれ再利用することができる。エッチングの程度は、例えばウエーハの外周部を画像認識カメラ等で撮影しその画像を画像処理し良否パターンと比較する装置を設けて種々のエッチングのエンドポイントを判断すればよい。
エッチングが終了したら、上記ウエーハ１を保持しているチャック５は降下し、洗浄ユニット２３で洗浄、乾燥される。このようにして、多層配線のエッジ部分はエッチング界面幅、３００μｍ以内の精度でエッチング洗浄することができる。なお、特定の膜をエッチングしたい場合には、複数のエッチングユニットに同じエッチング液を供給してエッチング処理すれば、エッチング処理時間を短縮することができる。

上記ウエーハの外周部が裏面側に反ったり、固着物で汚染されている場合は、図６に示すように、ウエーハ１のエッジ下面に摺接する形状のエッチングローラー１０を用いて該下面をエッチング除去すればよい。この除去量はリソグラフィー工程、パターン検査、厚み検査等露光や各種検査の際にウエーハ裏面を全面吸着するとき、ウエーハが吸着盤にフラットに密着して検査等に影響を与えない程度でよく、例えば外周部から約１〜５ｍｍ、深さ約０〜５００μｍ程度とすることができ、エッチングのエンドポイントは上述の如き画像認識カメラ等を用いて画像処理により判断すればよい。

なお、上記のようにウエーハの外周部をエッチングにより薄く除去する処理は、所望によりウエーハの裏面側ばかりでなく表面側の外周部を薄く除去する際に適用してもよい。すなわち、通常のウエーハ面に多層配線を形成すると、多層配線がウエーハ外周部で異常成長したり固着物等の汚染物質が付着してウエーハ外周部に凸部が形成されやすくなり、その結果、フラット面を出すのに時間がかかり、精度も出しにくくなる。そこで、予めウエーハ外周部を少し凹ませて薄く形成しておけば、そのような欠点を解消してフラットネスを形成することが容易となる。このようにウエーハ表面の外周部を薄く、例えば外周から約０，５〜５，０ｍｍ程度の部分まで深さ約０〜５００μｍ程度薄く加工する場合には図３に示す装置でウエーハのエッジ上面に摺接する形状のエッチングローラーを用いて除去したり、若しくはウエーハの表面側をチャックに吸着保持して図６に示す装置で薄く除去すればよい。

また、本発明の装置は液浸露光プロセスにおいて、多層のレジスト膜を形成するとき、ウエーハの外周縁に発生するレジストの盛り上り（クラウン）を除去する際にも用いることができる。この場合には、各レジストの溶解に適した薬液を上記エッチングローラーに供給してクラウンを溶解除去すればよい。

多層配線が形成されたウエーハの一部の説明図。 本発明の一実施例を示し、上下のリングブロー等を省略した状態の平面からみた説明図。 エッチングユニットとウエーハの関係を示す説明図。 エッチングユニットの中心軸部分の説明図。 エッチングユニットと洗浄ユニットの関係を示す説明図。 エッチングユニットとウエーハの関係を示す他の説明図。

符号の説明

１ ウエーハ
３ 多層配線
５ チャック
６ エッチングユニット
７ エッチングユニット本体
１０ エッチングローラー
１５ シリンダー
１６ シリンダー
１８ 供給ノズル
２０、２１ リングブロー
２２ 放射温度計
２３ 洗浄ユニット

Claims (9)

1. ウエーハのエッジに接触するエッチングローラーにエッチング液を供給し該エッジをエッチングしつつ該エッチング液を回収するようにした複数のエッチングユニットを有し、該エッチングユニットを回転するウエーハの周囲に配置し、各エッチングユニット毎に供給するエッチング液を該ウエーハの表面に多層に形成された絶縁膜やメタル膜のエッチングに適したエッチング液に変えて供給し、多層配線の複数のメタル膜や絶縁膜を同時にエッチングすることを特徴とするウエーハエッジのエッチング方法。
2. 上記エッチングユニットの下方にウエーハのエッジを洗浄するエッジ洗浄ブラシを含む洗浄ユニットを設け、上記エッチング処理後のウエーハを降下させて上記エッチングユニットの下方で洗浄することを特徴とする請求項１に記載のウエーハエッジのエッチング方法。
3. 上記エッチング液をエッチングローラーに供給する供給ノズルからエッチング液が滴下する前に常時エッチングローラーにエッチング液が伝達されるよう上記供給ノズルに近接する流液壁を介してエッチング液を流下させるようにした請求項１に記載のウエーハエッジのエッチング方法。
4. 上記ウエーハの上面及び下面には加温されたクリーンエアーをウエーハの半径方向に環状に噴き出すリングブローが設けられ、該リングブローからのホットエアーの流れと上記エッチングユニット内を排気する局所排気の流れにより上記エッチング液をエッチングユニット内に回収すると共に該ホットエアーの加温により上記エッチングユニットから離れたウエーハ上のエッチング液を乾燥させることを特徴とする請求項１に記載のウエーハエッジのエッチング方法。
5. 上記エッチングローラーは絶縁膜やメタル膜が形成されたウエーハのエッジ上面に摺接する形状の溝を有する請求項１に記載のウエーハエッジのエッチング方法。
6. 上記エッチングローラーは絶縁膜やメタル膜が形成されたウエーハのエッジ下面に摺接する形状の面を有する請求項１に記載のウエーハエッジのエッチング方法。
7. ウエーハを保持回転し上下動可能なチャック手段、上昇位置にある該ウエーハのエッジに対向して開口する開口部を有し該開口部に臨んで上記ウエーハのエッジに摺接するエッチングローラーと該エッチングローラーにエッチング液を供給する手段とエッチング液を回収する手段を有する複数のエッチングユニット、上記チャック手段に保持されたウエーハの上面及び下面に位置し加温されたクリーンエアーをウエーハの半径方向に環状に噴出するリングブロー、上記エッチングユニットの下方に設けられウエーハのエッジを洗浄する洗浄ユニットを具備するウエーハエッジのエッチング装置。
8. 上記エッチングユニットはエッチングユニット駆動手段によりウエーハのエッジに近接した位置に移動するよう中心軸に回動可能に設けられ、該エッチングユニットには上記エッチングローラーをウエーハのエッジ方向に進退させるエッチングローラー移動手段が設けられている請求項７に記載のウエーハエッジのエッチング装置。
9. 上記エッチングローラーにエッチング液を供給する供給ノズルとエッチングローラーの間には該供給ノズルからエッチング液が滴下する前にエッチングローラー側に流下するようエッチング液を伝達する流液壁が設けられている請求項７に記載のウエーハエッジのエッチング装置。

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