JP2013065845A - コモンモードチョークコイルおよびその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 151
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 149
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 114
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims abstract description 112
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 68
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 66
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims abstract description 56
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 82
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 79
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 79
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 69
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 42
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 10
- 230000005012 migration Effects 0.000 abstract description 9
- 238000013508 migration Methods 0.000 abstract description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 25
- 229910007565 Zn—Cu Inorganic materials 0.000 description 24
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 23
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 17
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 14
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 11
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 7
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 6
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 5
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000006089 photosensitive glass Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000010344 co-firing Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 230000001808 coupling effect Effects 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 239000006112 glass ceramic composition Substances 0.000 description 1
- 238000013101 initial test Methods 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910002076 stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F17/00—Fixed inductances of the signal type
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F17/00—Fixed inductances of the signal type
- H01F17/0006—Printed inductances
- H01F17/0013—Printed inductances with stacked layers
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- H—ELECTRICITY
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- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F27/00—Details of transformers or inductances, in general
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/04—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing coils
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- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/04—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing coils
- H01F41/041—Printed circuit coils
- H01F41/046—Printed circuit coils structurally combined with ferromagnetic material
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- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
- H03H7/01—Frequency selective two-port networks
- H03H7/09—Filters comprising mutual inductance
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- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F17/00—Fixed inductances of the signal type
- H01F17/0006—Printed inductances
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
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- Y10T29/49075—Electromagnet, transformer or inductor including permanent magnet or core
Abstract
【解決手段】第1磁性層上に非磁性層および第2磁性層が積層され、非磁性層中に2つの対向する導体コイルを含むコモンモードチョークコイル(10)において、非磁性層(3)が焼結ガラスセラミックスから成り、導体コイル(2、4)が銅を含む導体から成り、第1磁性層(1)および第2磁性層(5)の少なくとも一方が、Fe、Mn、Ni、Zn、Cuを含む焼結フェライト材料から成る。この焼結フェライト材料中、CuのCuO換算含有量5mol%以下とし、およびFeのFe2O3換算含有量25〜47mol%かつMnのMn2O3換算含有量1〜7.5mol%とするか、FeのFe2O3換算含有量35〜45mol%かつMnのMn2O3換算含有量7.5〜10mol%とする。
【選択図】図1
Description
非磁性層が焼結ガラスセラミックスから成り、
導体コイルが銅を含む導体から成り、
第1磁性層および第2磁性層の少なくとも一方(以下、本明細書において説明を簡素化するために第2磁性層とする)が、Fe、Mn、Ni、Zn、Cuを含む焼結フェライト材料から成り、
該焼結フェライト材料において、
CuのCuO換算含有量が5mol%以下であり、および
FeのFe2O3換算含有量が25mol%以上47mol%以下で、かつMnのMn2O3換算含有量が1mol%以上7.5mol%未満であるか、FeのFe2O3換算含有量が35mol%以上45mol%以下で、かつMnのMn2O3換算含有量が7.5mol%以上10mol%以下である、コモンモードチョークコイルが提供される。
なお、本発明において、「第1磁性層上に非磁性層および第2磁性層が積層されている」とは、単に、これらの層の相対的な上下関係を言うものとして理解されるべきである。
銅を含む導体により上記導体コイルを形成すること、
銅を含む導体の存在下にて、ガラスセラミックスをCu−Cu2O平衡酸素分圧以下の酸素分圧で焼成することにより、上記非磁性層を少なくとも部分的に形成すること、
Fe2O3、Mn2O3、NiO、ZnO、CuOを含むフェライト材料であって、
CuO含有量が5mol%以下であり、および
Fe2O3含有量が25mol%以上47mol%以下で、かつMn2O3含有量が1mol%以上7.5mol%未満であるか、Fe2O3含有量が35mol%以上45mol%以下で、かつMn2O3含有量が7.5mol%以上10mol%以下であるフェライト材料を用いて、銅を含む導体の存在下にて、該フェライト材料をCu−Cu2O平衡酸素分圧以下の酸素分圧で焼成することにより、上記第2磁性層を形成すること
を含む製造方法もまた提供される。
Fe2O3、Mn2O3、NiO、ZnO、CuOを含むフェライト材料であって、
CuO含有量が5mol%以下であり、および
Fe2O3含有量が25mol%以上47mol%以下で、かつMn2O3含有量が1mol%以上7.5mol%未満であるか、Fe2O3含有量が35mol%以上45mol%以下で、かつMn2O3含有量が7.5mol%以上10mol%以下であるフェライト材料を用いて、銅を含む導体の存在下にて、該フェライト材料をCu−Cu2O平衡酸素分圧以下の酸素分圧で焼成することにより、上記第1磁性層を形成することを更に含み、
上記非磁性層を形成するための焼成、上記第2磁性層を形成するための焼成、および上記第1磁性層を形成するための焼成を同時に実施するものであってよい。かかる態様によれば、第2磁性層を形成するための焼成および第1磁性層を形成するための焼成をいずれも低温で実現できる。しかも、かかる態様においては、これらの焼成を非磁性層を形成するための焼成と同時に実施しているので、導体コイルの材料に使用したCuがCu2Oに酸化されることを一層抑制することができ、その結果、導体コイルの配線抵抗の上昇を一層効果的に防止することができる。また、本発明の上記態様によれば、第2磁性層および第1磁性層の比抵抗および焼結密度を高く維持できるので、得られるコモンモードチョークコイルの絶縁抵抗および信頼性を高めることができる。
図1〜2に示すように、本実施形態のコモンモードチョークコイル10は、第1磁性層1ならびにその上に順次積層された非磁性層3および第2磁性層5より構成される積層体7を含んで成る。非磁性層3の内部には、2つの導体コイル2、4が対向するように埋設される。積層体7の周囲には外部電極9a〜9dが設けられ得、導体コイル2の両端は外部電極9a、9cに、導体コイル4の両端は外部電極9b、9dにそれぞれ接続され得る。
まず、第1磁性層1として、焼結フェライト材料から成る磁性基板を準備する。焼結フェライト材料から成る磁性基板は、所定のインダクタンスを得ることができる限り、任意の適切なフェライト材料を焼結したものであってよい。フェライト材料には、例えば、Fe2O3およびNiOを主成分として含むNi系フェライト材料、Fe2O3、NiOおよびZnOを主成分として含むNi−Zn系フェライト材料、Fe2O3、NiO、ZnOおよびCuOを主成分として含むNi−Zn−Cu系フェライト材料などを使用してよい。かかる磁性基板は、フェライト材料を焼結したものから所望の形状に切り出したものであってよいが、これに限定されない。
次に、第1磁性層1上にガラスセラミックスを積層し、得られた積層体を熱処理に付して、ガラスセラミックスを焼成して非磁性サブ層3aを形成する。原料のガラスセラミックスには、感光性または非感光性のガラスセラミックスを使用してよいが、非磁性サブ層3bと同じ(感光性の)ガラスセラミックスを使用することが好ましい。例えば、ガラスセラミックスには、ホウケイ酸ガラス(二酸化ケイ素を主成分として含み、更にホウ酸および必要に応じて他の化合物を含むガラス)、無ホウケイ酸ガラス(二酸化ケイ素を主成分として含み、ホウ酸を含まず、必要に応じて他の化合物を含むガラス)などを使用してよい。第1磁性層1上へのガラスセラミックスの積層は、ガラスセラミックスを任意の適切な他の絶縁性成分と一緒にペースト状にしたもの(以下、単にガラスペーストと言う)を印刷等の方法で第1磁性層1上に塗膜することや、ガラスセラミックスを任意の適切な他の絶縁性成分と一緒にグリーンシート状にしたもの(以下、単にガラスセラミックグリーンシートと言う)を第1磁性層1上に重ね合わせることによって実施できる。非磁性サブ層3aを形成するための焼成(熱処理)は、ガラスセラミックスを焼結できれば特に限定されない。この工程において、積層体には銅を含む導体は未だ存在していないので、積層体を空気中で熱処理することによりガラスセラミックスを焼成してよい。焼成温度は、ガラスの軟化点以上の温度であれば特に限定されないが、例えば800〜1000℃とし得る。
次に、非磁性サブ層(焼結ガラスセラミックス層)3a上に、銅を含む導体をパターン形成して、引出し部2aを形成する。銅を含む導体は、銅を主成分として含み、場合により他の導電性成分を含むものであってよい。銅を含む導体のパターン形成は、銅(および必要に応じて他の導電性成分、以下も同様)の粉末をガラスなどと一緒にペースト状にしたものを非磁性サブ層3a上に所定のパターンでスクリーン印刷することや、銅をスパッタリング法で非磁性サブ層3a上に成膜し、フォトリソグラフィ法により所定のパターンにエッチングすることや、銅を所定のパターンに選択メッキすることによって実施できる。選択メッキは、例えばフルアディティブ法(レジストパターン形成、無電解メッキ、およびレジスト剥離による方法)や、セミアディティブ法(無電解メッキによるシード層の成膜、レジストパターン形成、電気メッキ、レジスト剥離、シード層除去による方法)などを利用できる。
その後、非磁性サブ層(焼結ガラスセラミックス層)3aおよび引出し部2a上に、上記工程(b)と同様にしてガラスセラミックスを積層する。但し、本工程においては、原料のガラスセラミックスには、感光性のガラスセラミックスを使用し、この層にビア6aをフォトリソグラフィ法により形成して、引出し部2aを部分的に露出させる。そして、得られた積層体を熱処理に付して、ガラスセラミックスを焼成して非磁性サブ層3bを形成する。非磁性サブ層3bを形成するための焼成(熱処理)は、積層体をCu−Cu2O平衡酸素分圧以下の雰囲気中で熱処理してガラスセラミックスを該雰囲気で焼成することにより実施する。この工程において、積層体には銅を含む導体が存在しており、ガラスセラミックスをCu−Cu2O平衡酸素分圧以下の雰囲気で焼成することにより、CuがCu2Oに酸化されることを防止できる。焼成雰囲気の酸素分圧はCu−Cu2O平衡酸素分圧以下であればよい。焼成温度は、ガラスの軟化点以上の温度であれば特に限定されないが、例えば800〜1000℃とし得る。Cu−Cu2O平衡酸素分圧は温度によって異なり、エリンガム図から求めることができる。Cu−Cu2O平衡酸素分圧は、例えば、温度900℃では4.3×10−3Paであり、温度950℃では1.8×10−2Paであり、温度1000℃では6.7×10−2Paである。
次に、ビア6a内部および非磁性サブ層(焼結ガラスセラミックス層)3b上に、銅を含む導体をパターン形成して、本体部2bを渦巻状に形成する。銅を含む導体のパターン形成は、上記工程(c)と同様にして行い得るが、ビア6a内部に銅を含む導体を埋設して本体部2bと引出し部2aを接続するものとし、これらが一体となって導体コイル2を構成するようにする。
その後、非磁性サブ層(焼結ガラスセラミックス層)3bおよび本体部2b上に、上記工程(b)と同様にしてガラスセラミックスを積層し、得られた積層体を熱処理に付して、ガラスセラミックスを焼成して非磁性サブ層3cを形成する。非磁性サブ層3cを形成するための焼成(熱処理)は、上記工程(d)と同様、積層体をCu−Cu2O平衡酸素分圧以下の雰囲気中で熱処理してガラスセラミックスを該雰囲気で焼成することにより実施する。
次に、非磁性サブ層(焼結ガラスセラミックス層)3c上に、銅を含む導体をパターン形成して、本体部4bを渦巻状に形成する。銅を含む導体のパターン形成は、上記工程(c)と同様にして行い得る。
その後、非磁性サブ層(焼結ガラスセラミックス層)3cおよび本体部4b上に、上記工程(b)と同様にしてガラスセラミックスを積層する。但し、本工程においては、原料のガラスセラミックスには、感光性のガラスセラミックスを使用し、この層にビア6bをフォトリソグラフィ法により形成して、本体部4bを部分的に露出させる。そして、得られた積層体を熱処理に付して、ガラスセラミックスを焼成して非磁性サブ層3dを形成する。非磁性サブ層3dを形成するための焼成(熱処理)は、上記工程(d)と同様、積層体をCu−Cu2O平衡酸素分圧以下の雰囲気中で熱処理してガラスセラミックスを該雰囲気で焼成することにより実施する。
次に、ビア6b内部および非磁性サブ層(焼結ガラスセラミックス層)3d上に、銅を含む導体をパターン形成して、引出し部4aを形成する。銅を含む導体のパターン形成は、上記工程(c)と同様にして行い得るが、ビア6b内部に銅を含む導体を埋設して本体部4bと引出し部4aを接続するものとし、これらが一体となって導体コイル4を構成するようにする。
その後、非磁性サブ層(焼結ガラスセラミックス層)3dおよび引出し部4a上に、上記工程(b)と同様にしてガラスセラミックスを積層し、得られた積層体を熱処理に付して、ガラスセラミックスを焼成して非磁性サブ層3eを形成する。非磁性サブ層3eを形成するための焼成(熱処理)は、上記工程(d)と同様、積層体をCu−Cu2O平衡酸素分圧以下の雰囲気中で熱処理してガラスセラミックスを該雰囲気で焼成することにより実施する。非磁性サブ層3eの形成により、非磁性サブ層3a〜3eが全部焼結され、これらは全体として非磁性層3(焼結ガラスセラミックス層)を成すものとなる。
別途、Fe2O3、Mn2O3、NiO、ZnO、CuOを含むNi−Mn−Zn−Cu系フェライト材料であって、CuO含有量、Fe2O3含有量およびMn2O3含有量が所定範囲にあるフェライト材料を準備する。これは、Ni−Zn−Cu系フェライト材料において、Fe2O3の所定量をMn2O3で置換したものと理解してよい。
積層体7の対向する側部に、外部電極9a〜9dを形成する。外部電極9a〜9dの形成は、例えば、銅の粉末をガラスなどと一緒にペースト状にしたものを所定の領域に塗布し、得られた構造体をCu−Cu2O平衡酸素分圧以下の雰囲気中で、例えば850〜900℃で熱処理して銅を焼き付けることによって実施し得る。
本実施形態は、実施形態1にて上述したコモンモードチョークコイル10を別の方法で製造するものであり、以下、実施形態1と同様の部材を同じ符号により説明するものとする。本実施形態の製造方法は、概略的には、基板レス工法により、保持層上に第1磁性層1の材料を積層し、非磁性層3の材料を(導体コイル2、4を形成しながら)積層し、その上に、第2磁性層5の材料を積層した後、得られた積層体を一括焼成して、第1磁性層1、非磁性層3および第2磁性層5を形成するものである(第1磁性層、非磁性層および第2磁性層の共焼成)。
任意の適切な保持層(図示せず)上に、所定のフェライト材料を積層して、第1磁性層1の材料層を形成する。このフェライト材料には、実施形態1にて工程(k)で第2磁性層5について上述したものと同様のNi−Mn−Zn−Cu系フェライト材料を使用する。保持層上へのフェライト材料の積層は、フェライト材料を任意の適切な他の成分と一緒にペースト状にしたものを印刷等の方法で保持層上に塗膜し、乾燥させることや、フェライト材料を任意の適切な他の成分と一緒にグリーンシート状にしたものを保持層上に重ね合わせることによって実施できる。
この第1磁性層1の材料層(未焼結Ni−Mn−Zn−Cu系フェライト材料層)上に、非磁性サブ層3a〜3eを形成するために各工程にて焼成を実施しなかったこと以外は、実施形態1にて上述した工程(b)〜(j)と同様にして、非磁性サブ層3a〜3eの材料層(未焼結ガラスセラミックス材料層)を、導体コイル2、4を形成しながら積層する。これにより、非磁性層3の材料層が、その内部に導体コイル2、4を埋設した状態で形成される。
その後、非磁性層3の材料層上に、上記工程(m)と同様にして、所定のフェライト材料を積層して、第2磁性層5の材料層を形成する。このフェライト材料にも、実施形態1にて工程(k)で第2磁性層5について上述したものと同様のNi−Mn−Zn−Cu系フェライト材料を使用する。かかる条件を満たす限り、第1磁性層1の材料および第2磁性層5の材料は同じであっても、異なっていてもよい。
以上のようにして得られた未焼成の積層体を熱処理に付して、ガラスセラミックスを焼成して非磁性層3を形成すると共に、フェライト材料を焼成して第1磁性層1および第2磁性層5を形成する。これら第1磁性層1、非磁性層3および第2磁性層5を形成するための焼成(熱処理)は、積層体をCu−Cu2O平衡酸素分圧以下の雰囲気中で熱処理してガラスセラミックスおよびフェライト材料を該雰囲気で同時に焼成することにより実施する。
その後、実施形態1にて上述した工程(l)と同様にして、積層体7の対向する側部に、外部電極9a〜9dを形成する。
第2磁性層の材料として使用するのに適したフェライト材料を調べるために、以下の実験を行って、種々の組成を有するフェライト材料の耐還元性を評価した。
上述のようにして作製したフェライト材料のグリーンシートを、厚さが総計で1.0mmとなるように複数枚積層した後、60℃の温度で100MPaの圧力で60秒間圧着し、圧着ブロックを作製した。そして、この圧着ブロックを、外径20mmおよび内径12mmのリング状に切断してリング状成形体を作製した。
別途、銅粉末に、有機溶剤および樹脂から成るビヒクルを加え、一緒に混練することにより銅を含む導体ペースト(以下、「内部導体用銅ペースト」と言う)を用意した。この内部導体用銅ペーストを、上述のようにして作製したフェライト材料のグリーンシートの表面にスクリーン印刷して、導体ペースト層を形成した。ここで、導体ペースト層は、積層コンデンサ40の内部電極33に対応するパターンとした(図5)。
実施形態1の製造方法に従って、図1〜2に示すコモンモードチョークコイル10を作製した。本実施例においては、以下の条件を適用した。
導体コイル2、4を銅に代えて銀を用いて(シード層および電解メッキを銀として)作製したこと、非磁性層3b〜3eを形成するための各焼成および第2磁性層5を形成するための焼成を900℃にて空気中で実施したこと、外部電極9a〜9dを、外部電極用銅ペーストにおける銅粉末を銀粉末で置換して成る外部電極用銀ペーストを用いて空気中で焼成することにより作製したこと、ならびに第2磁性層5の材料としてNi−Mn−Zn−Cu系フェライト材料(Fe2O3 44.0mol%、Mn2O3 5.0mol%、ZnO 30mol%、NiO 13.0mol%、CuO 8.0mol%)を用いた磁性体ペーストで置換したこと以外は、実施例1と同様にしてコモンモードチョークコイルを作製した。なお、ここで使用したNi−Mn−Zn−Cu系フェライト材料は、表4中に示すNo.209の組成に一致するものである。
実施形態2の製造方法に従って、図1〜2に示すコモンモードチョークコイル10を作製した。本実施例においては、以下の条件を適用した。
導体コイル2、4を銅に代えて銀を用いて(内部導体用銅ペーストにおける銅粉末を銀粉末で置換して成る内部導体用銀ペーストを用いて)作製したこと、第1磁性層1、非磁性層3および第2磁性層5を形成するための同時焼成を900℃にて空気中で実施したこと、外部電極9a〜9dを、外部電極用銅ペーストにおける銅粉末を銀粉末で置換して成る外部電極用銀ペーストを用いて空気中で焼成することにより作製したこと、ならびに第2磁性層5の材料としてNi−Mn−Zn−Cu系フェライト材料(Fe2O3 44.0mol%、Mn2O3 5.0mol%、ZnO 30mol%、NiO 13.0mol%、CuO 8.0mol%)を用いた磁性体ペーストで置換したこと以外は、実施例2と同様にしてコモンモードチョークコイルを作製した。なお、ここで使用したNi−Mn−Zn−Cu系フェライト材料は、表4中に示すNo.209の組成に一致するものである。
2 導体コイル
2a 引出し部
2b 本体部
3 非磁性層
3a〜3e 非磁性サブ層
4 導体コイル
4a 引出し部
4b 本体部
5 第2磁性層
6a、6b ビア
7 積層体
9a〜9d 外部電極
10 コモンモードチョークコイル
11 貫通孔
31 磁性層
33 内部電極
35a、35b 外部電極
40 積層コンデンサ(磁性層の比抵抗測定用)
Claims (5)
- 第1磁性層上に非磁性層および第2磁性層が積層され、該非磁性層中に2つの対向する導体コイルを含むコモンモードチョークコイルであって、
非磁性層が焼結ガラスセラミックスから成り、
導体コイルが銅を含む導体から成り、
第1磁性層および第2磁性層の少なくとも一方が、Fe、Mn、Ni、Zn、Cuを含む焼結フェライト材料から成り、
該焼結フェライト材料において、
CuのCuO換算含有量が5mol%以下であり、および
FeのFe2O3換算含有量が25mol%以上47mol%以下で、かつMnのMn2O3換算含有量が1mol%以上7.5mol%未満であるか、FeのFe2O3換算含有量が35mol%以上45mol%以下で、かつMnのMn2O3換算含有量が7.5mol%以上10mol%以下である、コモンモードチョークコイル。 - 非磁性層中に配置された2つの導体コイルのコイル内部を通って、第1磁性層と第2磁性層とが接続されている、請求項1に記載のコモンモードチョークコイル。
- 第1磁性層上に非磁性層および第2磁性層が積層され、該非磁性層中に2つの対向する導体コイルを含むコモンモードチョークコイルの製造方法であって、
銅を含む導体により前記導体コイルを形成すること、
銅を含む導体の存在下にて、ガラスセラミックスをCu−Cu2O平衡酸素分圧以下の酸素分圧で焼成することにより、前記非磁性層を少なくとも部分的に形成すること、
Fe2O3、Mn2O3、NiO、ZnO、CuOを含むフェライト材料であって、
CuO含有量が5mol%以下であり、および
Fe2O3含有量が25mol%以上47mol%以下で、かつMn2O3含有量が1mol%以上7.5mol%未満であるか、Fe2O3含有量が35mol%以上45mol%以下で、かつMn2O3含有量が7.5mol%以上10mol%以下であるフェライト材料を用いて、銅を含む導体の存在下にて、該フェライト材料をCu−Cu2O平衡酸素分圧以下の酸素分圧で焼成することにより、前記第2磁性層を形成すること
を含む製造方法。 - 前記第1磁性層として、焼結フェライト材料を使用する、請求項3に記載のコモンモードチョークコイルの製造方法。
- Fe2O3、Mn2O3、NiO、ZnO、CuOを含むフェライト材料であって、
CuO含有量が5mol%以下であり、および
Fe2O3含有量が25mol%以上47mol%以下で、かつMn2O3含有量が1mol%以上7.5mol%未満であるか、Fe2O3含有量が35mol%以上45mol%以下で、かつMn2O3含有量が7.5mol%以上10mol%以下であるフェライト材料を用いて、銅を含む導体の存在下にて、該フェライト材料をCu−Cu2O平衡酸素分圧以下の酸素分圧で焼成することにより、前記第1磁性層を形成することを更に含み、
前記非磁性層を形成するための焼成、前記第2磁性層を形成するための焼成、および前記第1磁性層を形成するための焼成を同時に実施する、請求項3に記載のコモンモードチョークコイルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012192170A JP5904060B2 (ja) | 2011-09-02 | 2012-08-31 | コモンモードチョークコイルおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011191664 | 2011-09-02 | ||
JP2011191664 | 2011-09-02 | ||
JP2012192170A JP5904060B2 (ja) | 2011-09-02 | 2012-08-31 | コモンモードチョークコイルおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013065845A true JP2013065845A (ja) | 2013-04-11 |
JP5904060B2 JP5904060B2 (ja) | 2016-04-13 |
Family
ID=47856860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012192170A Active JP5904060B2 (ja) | 2011-09-02 | 2012-08-31 | コモンモードチョークコイルおよびその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9245680B2 (ja) |
JP (1) | JP5904060B2 (ja) |
KR (1) | KR101417331B1 (ja) |
CN (1) | CN102982965B (ja) |
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JP2015214434A (ja) * | 2014-05-08 | 2015-12-03 | 株式会社村田製作所 | フェライト磁器、コイル装置およびフェライト磁器の作製方法 |
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JP2018174192A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 太陽誘電株式会社 | コモンモードチョークコイル |
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Publication number | Publication date |
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KR20130025828A (ko) | 2013-03-12 |
CN102982965A (zh) | 2013-03-20 |
US9245680B2 (en) | 2016-01-26 |
US20130222104A1 (en) | 2013-08-29 |
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JP5904060B2 (ja) | 2016-04-13 |
KR101417331B1 (ko) | 2014-07-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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