JP2012156267A - 液処理装置および液処理方法 - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 115
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 54
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 240
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 162
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 239000003595 mist Substances 0.000 claims abstract description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 17
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 15
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 93
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 46
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 44
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 28
- 230000008569 process Effects 0.000 description 25
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 17
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 10
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- 238000011900 installation process Methods 0.000 description 1
- 239000008155 medical solution Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
- H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
- H01L21/6708—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching using mainly spraying means, e.g. nozzles
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
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Abstract
【解決手段】基板処理方法は、処理対象面が下面となるように基板Wを保持して回転させる工程と、基板の下面にDIW(純水)を供給して基板にリンス処理を施す工程と、その後、基板の下面にIPA(イソプロピルアルコール)とN2ガスとを含むミストを供給してDIWをIPAで置換する工程と、を備える。ミストの供給は、基板の中心部に対向する位置と基板の周縁部に対向する位置の間に配列された複数の吐出口62を有する、基板の下方に設けられたノズル60により行われる。
【選択図】図2A
Description
第1の流体供給機構70aは、DHFを供給するDHF供給機構(以下、「DHF供給機構70a」と称する)であり、DHF供給源71aに接続された管路74aに上流側から順次介設された可変絞り弁72aおよび開閉弁73aを有している。
第2の流体供給機構70bは、IPAを供給するIPA供給機構(以下、「IPA供給機構70b」と称する)であり、IPA供給源71bに接続された管路74bに上流側から順次介設された可変絞り弁72bおよび開閉弁73bを有している。
第3の流体供給機構70cは、不活性ガス例えばN2ガスを供給するN2ガス供給機構(以下、「第1のN2ガス供給機構70c」と称する)であり、N2ガス供給源71cに接続された管路74cに上流側から順次介設された可変絞り弁72cおよび開閉弁73cを有している。
第4の流体供給機構70dは、リンス用液体であるDIW(純水)を供給するDIW供給機構(以下、「DIW供給機構70d」と称する)であり、DIW供給源71dに接続された管路74dに上流側から順次介設された可変絞り弁72dおよび開閉弁73dを有している。
第5流体供給機構70eは、不活性ガス例えばN2ガスを供給するN2ガス供給機構(以下、「第2のN2ガス供給機構70e」と称する)であり、N2ガス供給源71eに接続された管路74eに上流側から順次介設された可変絞り弁72eおよび開閉弁73eを有している。
まず、昇降機構によって、リフトピンプレート20、処理流体供給管40およびV字形ノズル60を図2Bに示すような上昇位置に位置づける。次に、図2Bの二点鎖線に示すように、基板洗浄装置10の外部からウエハWが搬送アーム104により基板洗浄装置10に搬送され、このウエハWがリフトピンプレート20のリフトピン22上に載置される。次に、昇降駆動部50が処理流体供給管40およびV字形ノズル60を上昇位置から下降位置まで移動させる。この際に、収容部材32の内部に設けられたバネ26の力により接続部材24には常に下方に向かう力が加えられているので、処理流体供給管40の下方への移動に連動してリフトピンプレート20も下方に移動し、リフトピンプレート20が上昇位置から下降位置まで移動する。また、この際に、リフトピンプレート20の下面により基板保持部材31の被押圧部分31cが図6に示すような状態から下方に押圧され、これにより基板保持部材31が軸31aを中心として図6の反時計回りの方向に回転する。このようにして、基板保持部材31の基板保持部分31bがウエハWに向かって当該ウエハWの側方から移動し(図7参照)、基板保持部材31によりウエハWは側方から保持される(図8参照)。このときに、基板保持部材31により側方から保持されたウエハWはリフトピン22から上方に離間する。なお、ウエハWは、その「表面」(パターンが形成される面)が「下面」となり、その「裏面」(パターンが形成されない面)が「上面」となるように、基板洗浄装置10内に搬入される前にリバーサー105(図1参照)により裏返されており、この状態で保持プレート30により保持される。本明細書において、用語「上面(下面)」は、単に、ある時点において上(下)を向いている面という意味で用いられる。
次に、回転駆動部39により保持プレート30を回転させる。この際に、保持プレート30の下面から下方に延びるよう設けられた各収容部材32に、リフトピンプレート20の下面から下方に延びるよう設けられた各接続部材24が収容された状態となっているので、保持プレート30が回転したときにリフトピンプレート20も連動して回転し、ウエハWも回転する。なお、この際に、処理流体供給管40およびこれに接続されたV字形ノズル60は回転することなく停止したままである。次に、DHF供給機構70aからDHF供給路40aにDHFを供給する。供給されたDHFは、吐出口61から吐出される。供給されたDHFによりウエハW上の自然酸化膜が除去され。反応生成物は、DHFと一緒に遠心力によりウエハWの下面上を半径方向外側に流れ、ウエハWの外側に流出し、回転カップ36により受け止められて下方に向きを変え、外カップ56の底部に接続された排液管58を介して排出される。このDHF洗浄工程中、ウエハWの下側はDHF雰囲気となるが、ウエハW自体が、DHF雰囲気がウエハWの上方に拡散することを防止するシールドとして機能し、かつ、ウエハWの周囲は回転カップ36および外カップ56により囲まれているため、DHF雰囲気は、ウエハWの下面および外カップ56の内面により囲まれた空間から外側には殆ど拡散しない。また、ウエハWの下面および外カップ56の内面により囲まれた空間内にあるDHF雰囲気は、工場排気系に接続された(すなわち微減圧状態にある)排液管58に吸い込まれ、DHFの廃液と一緒に排出される。従って、処理チャンバ内のウエハWより上方の空間にDHF雰囲気が拡散することが防止または抑制され、ウエハより上方の処理チャンバの内壁および装置部品がDHF雰囲気にさらされて腐食することによるコンタミネーションの原因物質の生成が防止される。
DHF洗浄工程を所定時間実行した後、吐出口61からのDHFの吐出を停止する。次いで、引き続きウエハWを回転させたまま、DIW供給機構70dからDIW供給路40dに比較的大流量(例えば毎分1500ml)でDIWを供給し、V字形ノズル60の中央部分60Cにある吐出口63からDIWをウエハWの中心部に向けて吐出させる。DIWは遠心力によりウエハWの下面上を半径方向外側に流れ、ウエハWの外側に流出し、回転カップ36により受け止められて下方に向きを変え、外カップ56の底部に接続された排液管58を介して排出される。ウエハWの下面上に残っているDHFおよび反応生成物などが、ウエハWの下面上を半径方向外側に流れるDIWにより洗い流される。
DIWリンス工程を所定時間実行した後、吐出口63からのDIWの吐出を停止する。次いで、引き続きウエハWを回転させたまま、IPA供給機構70bからIPA供給路40bにIPAを供給し、かつ、第1のN2供給機構70cから第1のN2供給路40cにN2ガスを供給する。供給されたIPAおよびN2ガスは、図12(b)に示すように、吐出口62の直前で混合され、ミスト化されたIPAとN2ガスとの混相流からなる二流体スプレーとしてウエハW下面に向けて吐出される。これにより、ウエハW下面上のDIWは、回転するウエハの中央部に対向する位置からウエハの周縁部に対向する位置の間に概ね均等に配置された複数の吐出口62から吐出されたIPAのミストにより、ウエハWの全域において均一かつ迅速に置換され、均一なIPA液膜が直ちにウエハWの下面上に形成される。なお、このIPA置換工程において、IPAのミスト化にN2ガスを用いているため、ウエハWの下方空間の酸素濃度および湿度が低下し、これによりリンス液(DIW)とIPAの置換効率が向上するので、ウォーターマークの発生を抑制することができる。また、次工程のN2スピン乾燥工程の開始時に既に、ウエハWの下方空間に低酸素濃度および低湿度の雰囲気が形成されるという点においても有利である。
IPA置換工程を所定時間実行した後、吐出口62からのIPAの吐出を停止する。次いで、引き続きウエハWを回転させたまま(回転速度を増大させることが好ましい)、第2のN2供給機構70eから第2のN2供給路40eにN2ガスを供給し、V字形ノズル60の中央部分60Cにある吐出口64からN2ガスをウエハWの中心部に向けて吐出させる。これにより、ウエハ中心部から周縁部に広がるN2ガスの流れが生じ、このN2ガス流によりウエハWの下面上に残留していたIPAが除去される。先にDHF洗浄工程に関連して説明したように、ウエハW自体が、ウエハWの下方の雰囲気がウエハWの上方に拡散することを防止するシールドとして機能し、かつ、ウエハWの周囲は回転カップ36および外カップ56により囲まれているため、ウエハの下方の雰囲気は、ウエハWの下面および外カップ56の内面により囲まれた空間から外側には殆ど拡散しない。また、ウエハWの下面および外カップ56の内面により囲まれた空間内の雰囲気は、工場排気系に接続された(すなわち微減圧状態にある)排液管58に吸い込まれる。従って、吐出口64からN2ガスを供給すると、ウエハWの下方の空間は容易にN2ガス雰囲気、すなわち低酸素低湿度の雰囲気に置換される。このためウォーターマークの発生をより効果的に防止することができる。なお、本実施形態においては、ウエハWに、ウエハWの下面全域をカバーする(ウエハWと概ね同じ大きさを有する)板状体すなわちリフトピンプレート20が対面している。このため、ウエハWの下面、リフトピンプレート20の上面、回転カップ36の内面により囲まれた小容積の空間が画成される。このような小容積の空間は、N2ガス雰囲気への置換がより容易である。このため、ウォーターマークの発生をより効果的に防止することができる。
N2スピン乾燥工程が終了したら、カバー部材80を上昇させて待機位置に戻す。次いで、昇降駆動部50が処理流体供給管40およびV字形ノズル60を下降位置から上昇位置まで移動させる。この際に、各第2の連動部材46が各接続部材24を上方に押し上げることにより、処理流体供給管40の上方への移動に連動してリフトピンプレート20も上方に移動し、リフトピンプレート20が下降位置から上昇位置まで移動する。また、この際に、基板保持部材31に対するバネ部材31dの付勢力により、基板保持部材31は軸31aを中心として図6の時計回りの方向(図6における矢印とは反対の方向)に回転する。これにより、基板保持部材31はウエハWから側方に離間する。基板保持部材31がウエハWから側方に離間することにより、このウエハWはリフトピン22により裏面から支持されるようになる。図2Bに示すようにリフトピンプレート20、処理流体供給管40およびV字形ノズル60が上昇位置に到達した後、リフトピン22上に載置されたウエハWは搬送アーム104により当該リフトピン22上から除去される。搬送アーム104により取り出されたウエハWは基板洗浄装置10の外部に搬出され、リバーサー105により表裏が反転される。
22 板状体(保持プレート)
31、37 保持部材(基板保持部材、固定保持部材)
39 回転駆動部
36 回転カップ
56 外カップ
60 ノズル(V字形ノズル)
60A ノズルの第1の棒状部分
60B ノズルの第2の棒状部分
60C ノズルの中央部分
61 第1の吐出口
62 第2の吐出口
63 第3の吐出口
64 第4の吐出口
W 基板(半導体ウエハ)
Claims (8)
- 処理対象面が下面となるように基板を保持して回転させることと、
前記基板の下面にDIW(純水)を供給して、前記基板にリンス処理を施すことと、
その後、前記基板の下面にIPA(イソプロピルアルコール)およびN2ガスを含むミストを供給して、前記DIWをIPAで置換することと、
を備え、
前記ミストの供給は、前記基板の中心部に対向する位置と前記基板の周縁部に対向する位置の間に配列された複数の吐出口を有する、前記基板の下方に設けられたノズルにより行われることを特徴とする液処理方法。 - 前記基板の保持は、前記基板の下面に対面する板状体と、前記基板の周縁部を保持する複数の保持部材とを有する基板保持部により行われることを特徴とする、請求項1に記載の液処理方法。
- 前記基板保持部に、当該基板保持部と一体的に回転する回転カップが設けられていることを特徴とする請求項2に記載の液処理方法。
- 前記DIWを前記IPAで置換した後に、前記基板の下面にN2ガスを供給して、前記基板を乾燥させることをさらに備えたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の液処理方法。
- 基板の周縁部を保持する保持部材を有し、基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板保持部を回転させる回転駆動部と、
前記基板保持部に保持された基板の下面の下方に位置するように設けられたノズルであって、前記基板保持部により保持された基板の下面に薬液を吐出する第1の吐出口と、前記基板保持部により保持された基板の下面にIPA(イソプロピルアルコール)およびN2ガスを含むミストを吐出する複数の第2の吐出口と、前記基板保持部により保持された基板の下面にDIW(純水)を吐出する第3の吐出口と、前記基板保持部により保持された基板の下面にN2ガスを吐出する第4の吐出口と、を有するノズルと、
を備え、
前記複数の第2の吐出口は、前記基板保持部により保持された基板の中心部に対向する位置と前記基板の周縁部に対向する位置の間に配列されていることを特徴とする液処理装置。 - 前記基板保持部は、基板の下面に対面する板状体を有していることを特徴とする、請求項5に記載の液処理装置。
- 前記基板保持部に、当該基板保持部と一体的に回転する回転カップが設けられていることを特徴とする請求項6に記載の液処理装置。
- 請求項1に記載された方法を実行させるように液処理装置の動作を制御する制御部を更に備えたことを特徴とする請求項5乃至7のいずれか一項に記載の液処理装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011013459A JP5642574B2 (ja) | 2011-01-25 | 2011-01-25 | 液処理装置および液処理方法 |
KR1020110119540A KR101524903B1 (ko) | 2011-01-25 | 2011-11-16 | 액처리 장치 및 액처리 방법 |
TW100145332A TWI496200B (zh) | 2011-01-25 | 2011-12-08 | 液體處理裝置及液體處理方法 |
US13/355,844 US8607807B2 (en) | 2011-01-25 | 2012-01-23 | Liquid treatment apparatus and method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011013459A JP5642574B2 (ja) | 2011-01-25 | 2011-01-25 | 液処理装置および液処理方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012156267A true JP2012156267A (ja) | 2012-08-16 |
JP2012156267A5 JP2012156267A5 (ja) | 2013-05-02 |
JP5642574B2 JP5642574B2 (ja) | 2014-12-17 |
Family
ID=46543224
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011013459A Active JP5642574B2 (ja) | 2011-01-25 | 2011-01-25 | 液処理装置および液処理方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8607807B2 (ja) |
JP (1) | JP5642574B2 (ja) |
KR (1) | KR101524903B1 (ja) |
TW (1) | TWI496200B (ja) |
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KR20120086235A (ko) | 2012-08-02 |
US20120186607A1 (en) | 2012-07-26 |
JP5642574B2 (ja) | 2014-12-17 |
KR101524903B1 (ko) | 2015-06-01 |
TWI496200B (zh) | 2015-08-11 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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