JP2012164957A - 液処理装置および液処理方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】ノズルを支持するノズル支持アームに付着した汚れにより処理室内の基板が汚れてしまうことを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供する。
【解決手段】液処理装置１０は、基板Ｗを保持する基板保持部２１および当該基板保持部２１の周囲に配設されるカップ４０が内部に設けられた処理室２０と、基板保持部２１に保持された基板Ｗに対して流体を供給するためのノズル８２ａと、ノズル８２ａを支持するノズル支持アーム８２とを備えている。液処理装置１０には、ノズル支持アーム８２の洗浄を行うためのアーム洗浄部８８が設けられている。
【選択図】図１０

Description

本発明は、基板を水平状態に保持した状態で回転させながら当該基板に処理液を供給することにより基板の洗浄処理やエッチング処理、メッキ処理、現像処理等の液処理を行う液処理装置および液処理方法に関する。
従来から、半導体ウエハ等の基板（以下、ウエハともいう）を水平状態に保持した状態で回転させながら当該基板の表面や裏面に処理液を供給することにより基板の洗浄処理やエッチング処理、メッキ処理、現像処理等の液処理を行う液処理装置として、様々な種類のものが知られている（例えば、特許文献１等参照）。特許文献１には、基板をスピンチャックにより水平に保持して回転させ、スピンチャックにより保持されて回転する基板の表面に処理液を供給するような、基板を１枚ずつ処理する枚葉式の液処理装置が開示されている。また、このような枚葉式の液処理装置において、処理室の上方にＦＦＵ（ファンフィルタユニット）を設け、このＦＦＵからＮ２ガス（窒素ガス）やクリーンエア等のガスをダウンフローで処理室内に送るような技術が知られている。
処理室の上方にＦＦＵが設けられた液処理装置の構成について図１４および図１５を用いて説明する。図１４は、従来の液処理装置の概略的な構成を示す側面図であり、図１５は、図１４に示す従来の液処理装置の上面図である。図１４および図１５に示すように、従来の液処理装置２００は、ウエハＷが収容され、この収容されたウエハＷの液処理が行われる処理室（チャンバー）２１０を備えている。図１４および図１５に示すように、処理室２１０内には、ウエハＷを保持して回転させるための保持部２２０が設けられており、この保持部２２０の周囲にはカップ２３０が配設されている。また、従来の液処理装置２００では、保持部２２０に保持されたウエハＷに対してカップ２３０の上方から処理液を供給するためのノズル２４０およびこのノズル２４０を支持するアーム２４１が処理室２１０内に設けられている。また、アーム２４１には略鉛直方向に延びるアーム支持部２４２が設けられており、このアーム支持部２４２によりアーム２４１が支持されている。
そして、アーム支持部２４２は図示しない駆動機構により正逆両方向に回転駆動させられるようになっている。このことにより、アーム２４１はアーム支持部２４２を中心として正逆両方向に回転可能となり、このアーム２４１は、保持部２２０により保持されたウエハＷに処理液を供給する進出位置（図１５の実線参照）とカップ２３０から退避した退避位置（図１５の二点鎖線参照）との間でアーム支持部２４２を中心として回転移動を行うようになる（図１５の矢印参照）。
また、図１４に示すように、処理室２１０の上方にはＦＦＵ（ファンフィルタユニット）２５０が設けられており、このＦＦＵ２５０からＮ２ガス（窒素ガス）やクリーンエア等のガスが常にダウンフローで処理室２１０内に送られるようになっている。また、処理室２１０の底部には排気部２６０が設けられており、この排気部２６０により処理室２１０内の雰囲気の排気が行われるようになっている。このように、ＦＦＵ２５０から処理室２１０内にクリーンエア等のガスがダウンフローで送られ、このガスが排気部２６０により排気されることにより、処理室２１０内の雰囲気の置換が行われるようになっている。
特開２００９−９４５２５号公報
図１４および図１５に示すような従来の液処理装置２００では、ノズル２４０を支持するアーム２４１やこのアーム２４１を支持するアーム支持部２４２が処理室２１０内に設けられている。ここで、図１４および図１５に示すような従来の液処理装置２００では、アーム２４１に付着した汚れが処理室２１０内のウエハＷに落下して付着してしまうおそれがある。また、処理室２１０内でウエハＷの液処理を行う際に薬液等が飛散してアーム２４１に付着すると、この薬液がアーム２４１に残存してしまい、その後のウエハＷの処理においてこの残存した薬液の雰囲気によりウエハＷが汚れてしまう等の悪影響を与えてしまうおそれがある。
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、ノズルを支持するノズル支持アームに付着した汚れにより処理室内の基板が汚れてしまうことを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供することを目的とする。
本発明の液処理装置は、基板を保持する基板保持部および当該基板保持部の周囲に配設されるカップが内部に設けられた処理室と、前記基板保持部に保持された基板に対して流体を供給するためのノズルと、前記ノズルを支持するノズル支持アームと、前記ノズル支持アームの洗浄を行うためのアーム洗浄部と、を備えたことを特徴とする。
このような液処理装置によれば、ノズル支持アームの洗浄を行うためのアーム洗浄部が設けられているので、アーム洗浄部によりノズル支持アームを洗浄することによって、ノズル支持アームに付着した汚れにより処理室内の基板が汚れてしまうことを防止することができる。
本発明の液処理装置においては、前記アーム洗浄部は、前記ノズル支持アームが移動する際に当該ノズル支持アームの洗浄を行うようになっていてもよい。あるいは、前記アーム洗浄部は、前記ノズル支持アームが退避位置にあるときに当該ノズル支持アームの洗浄を行うようになっていてもよい。
この際に、前記アーム洗浄部は、洗浄液が収容される収容部分を有し、前記アーム洗浄部において、前記収容部分に収容された洗浄液に前記ノズル支持アームの一部が接触しながら当該ノズル支持アームが移動することにより前記ノズル支持アームの洗浄が行われるようになっていてもよい。
また、前記アーム洗浄部において、前記ノズル支持アームの移動方向における前記収容部分よりも前記処理室に近い前方位置および前記収容部分よりも前記処理室から遠い後方位置のうち少なくともいずれか一方の位置に吸引機構が設けられていてもよい。
前記アーム洗浄部は、前記ノズル支持アームの移動方向における前記収容部分よりも前記処理室から遠い後方位置に、前記ノズル支持アームに乾燥用ガスを吹き付ける乾燥ブロックを有していてもよい。
また、前記ノズル支持アームは、前記ノズルに流体を送るための配管を内部に有し、前記アーム洗浄部において、前記ノズル支持アームの移動方向における前記収容部分よりも前記処理室に近い前方位置および前記収容部分よりも前記処理室から遠い後方位置のうち少なくともいずれか一方の位置に、前記ノズル支持アーム内の前記配管に残留した液体を排出するための排液部分が設けられており、前記ノズルが前記排液部分の真上に位置するよう前記ノズル支持アームが移動することにより、前記ノズル支持アーム内の前記配管に残留した液体が前記ノズルから前記排液部分に送られるようになっていてもよい。
本発明の液処理装置においては、前記処理室に隣接して設けられ、当該処理室から退避した前記ノズル支持アームが待機するためのアーム待機部を更に備えていてもよい。
この際に、前記アーム洗浄部は、前記処理室における前記カップと前記アーム待機部との間の領域または前記アーム待機部に位置固定で設けられていてもよい。
また、前記処理室と前記アーム待機部との間には鉛直方向に延びる壁が設けられており、前記壁には、前記ノズル支持アームが通過可能な開口が設けられており、前記壁に前記アーム洗浄部が取り付けられていてもよい。
本発明の液処理装置においては、前記処理室内において前記カップの周囲に配設され、上方位置と下方位置との間で昇降可能となっており、前記ノズル支持アームが通過可能な開口が設けられた円筒状のカップ外周筒を更に備え、前記アーム洗浄部は前記カップ外周筒の外側に設けられていてもよい。
本発明の液処理装置は、下記のように構成することができる。すなわち、前記ノズル支持アームは、その長手方向に進退して、前記ノズルが前記基板保持部により保持された基板の上方に位置する進出位置と、当該進出位置から後退した退避位置をとることができるように設けられており、前記アーム洗浄部は、洗浄ボックスと、乾燥ブロックとを有しており、前記洗浄ボックスは、前記退避位置に位置する前記ノズル支持アームの外周を包囲するように構成され、前記洗浄ボックスに、前記洗浄ボックス内に位置する前記ノズル支持アームに向けて洗浄液を噴射する少なくとも１つの洗浄液ノズルが設けられており、前記乾燥ブロックは、前記洗浄ボックスに隣接して、前記ノズル支持アームの進退方向に関して前記洗浄ボックスよりも前方に設けられており、前記乾燥ブロックは、前記ノズル支持アームの外周面に向けて乾燥用ガスを噴射するガス噴射孔を有しており、前記ノズル支持アームを前記退避位置から前記進出位置に向けて前方に移動させながら前記ガス噴射孔から乾燥用ガスを前記ノズル支持アームに噴射することにより、前記ノズル支持アームを乾燥させることができるように構成されている。
前記乾燥ブロックは、前記ガス噴射孔から噴射された乾燥用ガスが前記洗浄ボックス側に向けて流れるように構成されていてもよい。
前記洗浄ボックス内に、前記ノズル支持アームの上部に向けて洗浄液を噴射する第１の洗浄液ノズルと、前記ノズル支持アームの下部に向けて洗浄液を噴射する第２の洗浄液ノズルとが設けられていてもよい。
本発明の液処理方法は、処理室の内部に設けられた基板保持部により基板を保持させる工程と、ノズルを支持するノズル支持アームを前記処理室内に進出させる工程と、前記処理室内に進出したノズル支持アームのノズルにより、前記基板保持部により保持された基板に流体を供給する工程と、アーム洗浄部により、前記ノズル支持アームが移動する際に当該ノズル支持アームの洗浄を行う工程と、を備えたことを特徴とする。
本発明による別の液処理方法は、処理室の内部に設けられた基板保持部により基板を保持させる工程と、ノズルを支持するノズル支持アームを前記処理室内に進出させる工程と、前記処理室内に進出したノズル支持アームのノズルにより、前記基板保持部により保持された基板に流体を供給する工程と、アーム洗浄部により、前記ノズル支持アームが退避位置にあるときに当該ノズル支持アームの洗浄を行う工程と、を備えたことを特徴とする。
本発明の液処理装置および液処理方法によれば、ノズルを支持するノズル支持アームに付着した汚れにより処理室内の基板が汚れてしまうことを防止することができる。
本発明の実施の形態による液処理装置を含む液処理システムを上方から見た上面図である。 本発明の実施の形態による液処理装置の概略的な構成を示す上面図である。 図２に示す液処理装置の側面図である。 図２に示す液処理装置の構成の詳細を示す縦断面図であって、カップ外周筒が下方位置にあるときの状態を示す図である。 図２に示す液処理装置の構成の詳細を示す縦断面図であって、カップ外周筒が上方位置にあるときの状態を示す図である。 （ａ）は、図４等に示す液処理装置における保持プレートに設けられた保持部材の構成を示す拡大縦断面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す状態からリフトピンプレートが下方に移動したときの状態を示す拡大縦断面図であり、（ｃ）は、（ｂ）に示す状態からリフトピンプレートが更に下方に移動したときの状態を示す拡大縦断面図である。 図４等に示す液処理装置におけるカップ外周筒の構成を示す斜視図である。 図２等に示す液処理装置における処理室および６つのノズル支持アームを示す斜視図である。 図７に示すノズル支持アームの拡大斜視図である。 図７等に示す各ノズル支持アームを、これらのノズル支持アームの後方から処理室に向かって見たときの構成を示す図である。 図７等に示すノズル支持アームの構成の詳細を示す側断面図である。 アーム洗浄部の他の実施形態を示す側断面図および縦断面図である。 図１１に示すアーム洗浄部の洗浄液供給ノズルの別の例を示す断面図である。 図１０に示したアーム洗浄部の変形例を示す側断面図である。 従来の液処理装置の概略的な構成を示す側面図である。 図１４に示す従来の液処理装置の上面図である。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１乃至図１０は、本実施の形態による液処理装置を示す図である。より詳細には、図１は、本発明の実施の形態による液処理装置を含む液処理システムを上方から見た上面図である。また、図２は、本発明の実施の形態による液処理装置の概略的な構成を示す上面図であり、図３は、図２に示す液処理装置の概略的な構成を示す側面図である。また、図４および図５は、図２に示す液処理装置の構成の詳細を示す縦断面図である。また、図６Ａは、図４等に示す液処理装置における保持プレートに設けられた保持部材の構成を示す拡大縦断面図であり、図６Ｂは、図４等に示す液処理装置におけるカップ外周筒の構成を示す斜視図である。また、図７乃至図１０は、図２等に示す液処理装置に設けられたノズル支持アームの構成を示す図である。
まず、図１を用いて、本実施の形態による液処理装置を含む液処理システムについて説明する。図１に示すように、液処理システムは、外部から被処理基板としての半導体ウエハ等の基板Ｗ（以下、ウエハＷともいう）を収容したキャリアを載置するための載置台１０１と、キャリアに収容されたウエハＷを取り出すための搬送アーム１０２と、搬送アーム１０２によって取り出されたウエハＷを載置するための棚ユニット１０３と、棚ユニット１０３に載置されたウエハＷを受け取り、当該ウエハＷを液処理装置１０内に搬送する搬送アーム１０４と、を備えている。図１に示すように、液処理システムには、複数（図１に示す態様では４個）の液処理装置１０が設けられている。
次に、本実施の形態による液処理装置１０の概略的な構成について図２および図３を用いて説明する。
図２および図３に示すように、本実施の形態による液処理装置１０は、ウエハＷが収容され、この収容されたウエハＷの液処理が行われる処理室（チャンバー）２０を備えている。図３に示すように、処理室２０内には、ウエハＷを水平状態で保持して回転させるための保持部（基板保持部）２１が設けられており、この保持部２１の周囲にはリング状の回転カップ４０が配設されている。また、図２および図３に示すように、処理室２０内において回転カップ４０の周囲には円筒状のカップ外周筒５０が配設されている。後述するように、このカップ外周筒５０はウエハＷの処理状況に応じて昇降可能となっている。これらの保持部２１、回転カップ４０およびカップ外周筒５０の構成の詳細については後述する。
また、液処理装置１０には、保持部２１に保持されたウエハＷに対してウエハＷの上方から処理液やＮ２ガス等の流体を供給するためのノズル８２ａおよびこのノズル８２ａを支持するノズル支持アーム８２が設けられている。図２に示すように、１つの液処理装置１０には複数（具体的には例えば６つ）のノズル支持アーム８２が設けられており、各ノズル支持アーム８２の先端にノズル８２ａが設けられている。また、図３に示すように、各ノズル支持アーム８２にはアーム支持部８４が設けられており、各アーム支持部８４は後述するアーム駆動機構８５によって図３における左右方向に駆動されるようになっている。このことにより、各ノズル支持アーム８２は、ノズル８２ａが処理室２０内に進出した進出位置と、ノズル８２ａが処理室２０から退避した退避位置との間で水平方向に直線運動を行うようになっている（図２および図３における各ノズル支持アーム８２に設けられた矢印参照）。また、図３に示すように、各ノズル支持アーム８２には表面処理液供給管８２ｍが設けられており、各表面処理液供給管８２ｍは表面処理液供給部８９に接続されている。そして、表面処理液供給部８９から各表面処理液供給管８２ｍを介して各ノズル支持アーム８２のノズル８２ａに処理液やＮ２ガス等の流体が供給されるようになっている。
図２および図３に示すように、液処理装置１０において、アーム待機部８０が処理室２０に隣接して設けられている。このアーム待機部８０において、処理室２０から退避したノズル支持アーム８２が待機するようになっている。また、アーム待機部８０と処理室２０との間には鉛直方向に延びる壁９０が設けられている。この壁９０は、各ノズル支持アーム８２が通過可能な開口８８ｐが設けられたアーム洗浄部８８を有している。このアーム洗浄部８８により各ノズル支持アーム８２の洗浄が行われるようになっている。アーム洗浄部８８の構成の詳細については後述する。
また、図３に示すように、処理室２０の上方にはＦＦＵ（ファンフィルタユニット）７０が設けられており、このＦＦＵ７０からＮ２ガス（窒素ガス）やクリーンエア等のガスがダウンフローで処理室２０内に送られるようになっている。また、図２および図３に示すように、処理室２０の底部におけるカップ外周筒５０の内側には排気部５４が設けられており、この排気部５４により処理室２０内の雰囲気の排気が行われるようになっている。このように、ＦＦＵ７０から処理室２０内にクリーンエア等のガスがダウンフローで送られ、このガスが排気部５４により排気されることにより、処理室２０内の雰囲気の置換が行われるようになっている。
また、図２および図３に示すように、処理室２０の底部におけるカップ外周筒５０の外側には排気部５６が設けられており、この排気部５６により処理室２０内の雰囲気の排気が行われるようになっている。この排気部５６により、処理室２０内におけるカップ外周筒５０の外側の雰囲気の排気を行うことができるようになっている。具体的には、排気部５６により、アーム待機部８０内の雰囲気がカップ外周筒５０内に入り込むことが抑止される。また、この排気部５６により、カップ外周筒５０内の雰囲気がアーム待機部８０に出てしまうことが抑止される。
また、図２および図３に示すように、アーム待機部８０の底部には排気部５８が設けられており、この排気部５８によりアーム待機部８０内の雰囲気の排気が行われるようになっている。具体的には、各ノズル支持アーム８２を駆動するためのアーム駆動機構８５（後述）から発生するパーティクルを排気部５８により引くことができるようになっている。
また、図２に示すように、液処理装置１０の処理室２０およびアーム待機部８０の出入口にはそれぞれメンテナンス用のシャッター６０、６２が設けられている。処理室２０およびアーム待機部８０にそれぞれメンテナンス用のシャッター６０、６２が設けられていることにより、これらの処理室２０内やアーム待機部８０内の機器を個別にメンテナンスすることができる。また、処理室２０内でウエハＷを処理している最中でも、シャッター６２を開くことによりアーム待機部８０内の機器をメンテナンスすることができるようになる。
また、図２に示すように、液処理装置１０の側壁には、搬送アーム１０４により処理室２０内へウエハＷを搬入したり処理室２０からウエハＷを搬出したりするための開口９４ａが設けられており、この開口９４ａには、当該開口９４ａを開閉するためのシャッター９４が設けられている。
なお、図２に示す液処理装置１０において、処理室２０内におけるカップ外周筒５０の内部の領域はクリーンルームに対して微陽圧となっており、一方、処理室２０内におけるカップ外周筒５０の外側の領域はクリーンルームに対して微陰圧となっている。このため、処理室２０内において、カップ外周筒５０の内部の領域の気圧はカップ外周筒５０の外側の領域の気圧よりも大きくなっている。
次に、図２および図３に示すような液処理装置１０の構成の詳細について図４および図５を用いて説明する。
図４および図５に示すように、保持部２１は、ウエハＷを保持するための円板形状の保持プレート２６と、保持プレート２６の上方に設けられた円板形状のリフトピンプレート２２とを備えている。リフトピンプレート２２の上面には、ウエハＷを下方から支持するためのリフトピン２３が周方向に等間隔で３つ設けられている。なお、図４および図５では２つのリフトピン２３のみを表示している。また、リフトピンプレート２２にはピストン機構２４が設けられており、このピストン機構２４によりリフトピンプレート２２が昇降するようになっている。より具体的には、搬送アーム１０４（図１参照）によりウエハＷをリフトピン２３上に載置したりリフトピン２３上からウエハＷを取り出したりするときには、ピストン機構２４によりリフトピンプレート２２が図４等に示すような位置から上方に移動させられ、このリフトピンプレート２２は回転カップ４０よりも上方に位置するようになる。一方、処理室２０内でウエハＷの液処理を行う際には、ピストン機構２４によりリフトピンプレート２２が図４等に示すような下方位置に移動させられ、ウエハＷの周囲に回転カップ４０が位置するようになる。
保持プレート２６には、ウエハＷを側方から支持するための保持部材２５が周方向に等間隔で３つ設けられている。なお、図４および図５では２つの保持部材２５のみを表示している。各保持部材２５は、リフトピンプレート２２が上方位置から図４および図５に示すような下方位置に移動したときにこのリフトピン２３上のウエハＷを支持し、このウエハＷをリフトピン２３からわずかに離間させるようになっている。
リフトピンプレート２２および保持プレート２６の構成について、図６Ａを用いてより詳細に説明する。図６Ａにおいて、（ａ）は、リフトピンプレート２２が上方位置から図４等に示すような下方位置に移動する途中での状態を示す図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す状態からリフトピンプレート２２が下方に移動したときの状態を示す図であり、（ｃ）は、（ｂ）に示す状態からリフトピンプレート２２が更に下方に移動し、リフトピンプレート２２が図４等に示すような下方位置に到達したときの状態を示す図である。
図６Ａに示すように、保持部材２５は軸２５ａを介して保持プレート２６に軸支されている。より詳細には、図６Ａに示すように、保持プレート２６には軸受け部２６ａが取り付けられており、この軸受け部２６ａに設けられた軸受け孔２６ｂに軸２５ａが受け入れられる。軸受け孔２６ｂは水平方向に延びるような細長い孔からなり、保持部材２５の軸２５ａはこの軸受け孔２６ｂに沿って水平方向に移動することができる。このようにして、保持部材２５は、軸受け部２６ａの軸受け孔２６ｂに受け入れられた軸２５ａを中心として揺動することができる。
保持部材２５の軸２５ａには、ねじりバネ等のバネ部材２５ｄが巻き掛けられている。
このバネ部材２５ｄは、軸２５ａを中心として保持部材２５を図６Ａにおける時計回りの方向に回転させるような力を保持部材２５に付勢するようになっている。これにより、保持部材２５に何ら力が加えられていない場合には、保持部材２５が保持プレート２６に対して傾斜した状態となり、保持部材２５におけるウエハＷを側方から支持するための支持部分２５ｂ（後述）は保持プレート２６の中心から遠ざかった状態となる。
また、軸２５ａに巻き掛けられたバネ部材２５ｄからは線状部分が伸び出しており、この線状部分は軸受け部２６ａの内壁面２６ｃに係止されて、軸２５ａを保持プレート２６の中心に向かって押し返す。このように、バネ部材２５ｄの線状部分により、軸２５ａは保持プレート２６の中心に向かって（すなわち、図６Ａにおける左方向に向かって）常時押圧される。このため、比較的径が小さなウエハＷが保持部材２５により保持される場合には、軸２５ａは、図６Ａに示すように、軸受け孔２６ｂにおける保持プレート２６の中心に近い位置（すなわち、図６Ａにおける左側の位置）に位置する。一方、比較的径が大きなウエハＷが保持部材２５により支持される場合には、バネ部材２５ｄの線状部分による力に抗して、軸２５ａは軸受け孔２６ｂに沿って図６Ａに示す位置から右方向に移動する。なお、ここでのウエハＷの径の大小とは、許容寸法誤差内でのウエハＷの径の大小を意味している。
また、保持部材２５は、ウエハＷを側方から支持する支持部分２５ｂと、軸２５ａに関して支持部分２５ｂと反対側に設けられた被押圧部材２５ｃとを有している。被押圧部材２５ｃは、リフトピンプレート２２と保持プレート２６との間に設けられており、この被押圧部材２５ｃは、図６Ａに示すようにリフトピンプレート２２が下方位置またはその近傍位置にあるときに当該リフトピンプレート２２の下面により下方に向かって押圧される。
図６Ａに示すように、保持部材２５は、リフトピンプレート２２が上方位置から下方位置に移動したときに、当該リフトピンプレート２２の下面により被押圧部材２５ｃが下方に押圧されることにより軸２５ａを中心として図６Ａにおける反時計回りの方向（図６Ａにおける矢印方向）に回転する。そして、保持部材２５が軸２５ａを中心として回転することにより、支持部分２５ｂがウエハＷに向かって当該ウエハＷの側方から移動する。これにより、リフトピンプレート２２が下方位置に到達したときに、図６Ａ（ｃ）に示すように、ウエハＷが保持部材２５により側方から支持される。ここで、図６Ａ（ｃ）に示すように、ウエハＷが保持部材２５により側方から支持されたときに、このウエハＷはリフトピン２３の先端から上方に離間し、リフトピン２３から上方に浮いた状態となる。また、前述のように、ウエハＷの大きさによっては、バネ部材２５ｄの線状部分による力に抗して軸２５ａが軸受け孔２６ｂに沿って図６Ａに示す位置から右方向に移動する場合もある。このため、比較的大きなウエハＷが保持部材２５により支持される場合であっても、保持部材２５が水平方向に移動可能となっているので、ウエハＷを変形させたり破損させたりすることなくウエハＷを側方から支持することができる。
また、リフトピンプレート２２および保持プレート２６の中心部分にはそれぞれ貫通穴が形成されており、これらの貫通穴を通るよう処理液供給管２８が設けられている。この処理液供給管２８は、保持プレート２６の各保持部材２５により保持されたウエハＷの裏面に薬液や純水等の処理液を供給するようになっている。また、処理液供給管２８はリフトピンプレート２２と連動して昇降するようになっている。処理液供給管２８の上端には、リフトピンプレート２２の貫通穴を塞ぐよう設けられたヘッド部分２８ａが形成されている。また、図４等に示すように、処理液供給管２８には処理液供給部２９が接続されており、この処理液供給部２９により処理液供給管２８に処理液が供給されるようになっている。
図４および図５に示すように、保持部２１の周囲にはリング状の回転カップ４０が配設されている。この回転カップ４０は保持プレート２６に取り付けられており、保持プレート２６と一体的に回転するようになっている。より詳細には、回転カップ４０は、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されたウエハＷを側方から囲うよう設けられており、ウエハＷの液処理を行う際にこのウエハＷから側方に飛散した処理液を受けるようになっている。
また、回転カップ４０の周囲には、ドレインカップ４２、第１案内カップ４３、第２案内カップ４４および第３案内カップ４５が上方から順に設けられている。ドレインカップ４２および各案内カップ４３、４４、４５はそれぞれリング状に形成されている。ここで、ドレインカップ４２は処理室２０において固定されている。一方、各案内カップ４３、４４、４５にはそれぞれ昇降シリンダ（図示せず）が連結されており、これらの案内カップ４３、４４、４５は対応する昇降シリンダにより互いに独立して昇降自在となっている。
図４および図５に示すように、ドレインカップ４２や各案内カップ４３、４４、４５の下方には、第１処理液回収用タンク４６ａ、第２処理液回収用タンク４６ｂ、第３処理液回収用タンク４６ｃおよび第４処理液回収用タンク４６ｄがそれぞれ設けられている。そして、各案内カップ４３、４４、４５の上下方向における位置により、ウエハＷの液処理を行う際にこのウエハＷから側方に飛散した処理液が、この処理液の種類に基づいて、４つの処理液回収用タンク４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄのうちいずれか一つの処理液回収用タンクに選択的に送られるようになっている。具体的には、全ての案内カップ４３、４４、４５が全て上方位置にあるときには（図４および図５に示すような状態）、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第４処理液回収用タンク４６ｄに送られるようになっている。一方、第３案内カップ４５のみが下方位置にあるときには、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第３処理液回収用タンク４６ｃに送られるようになっている。また、第２案内カップ４４および第３案内カップ４５が下方位置にあるときには、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第２処理液回収用タンク４６ｂに送られるようになっている。また、全ての案内カップ４３、４４、４５が下方位置にあるときには、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第１処理液回収用タンク４６ａに送られるようになっている。
また、図４および図５に示すように、第４処理液回収用タンク４６ｄの内側には排気部４８が設けられている。そして、各案内カップ４３、４４、４５の上下方向における位置が所定の位置となることにより、ウエハＷの周囲の雰囲気が、排気部４８により排気されるようになっている。
また、本実施の形態の液処理装置１０においては、処理室２０内においてドレインカップ４２や各案内カップ４３、４４、４５の周囲にカップ外周筒５０が設けられている。このカップ外周筒５０は、図４に示すような下方位置と図５に示すような上方位置との間で昇降可能となっている。また、図２および図３に示すように、カップ外周筒５０には、ノズル支持アーム８２が通過可能な開口５０ｍが設けられている。カップ外周筒５０は、図５に示すような上方位置にあるときに、カップ外周筒５０内の領域を外部に対して隔離するようになっている。
このようなカップ外周筒５０の構成の詳細について図６Ｂを用いて説明する。図６Ｂは、カップ外周筒５０の構成を示す斜視図である。図６Ｂに示すように、カップ外周筒５０の側面には、ノズル支持アーム８２が通過可能な開口５０ｍが、ノズル支持アーム８２の本数に応じて設けられている（例えばノズル支持アーム８２が６本の場合、６つの開口５０ｍが設けられる）。また、カップ外周筒５０の上部には、このカップ外周筒５０を支持するための支持部材５０ａが連結されており、支持部材５０ａには当該支持部材５０ａを昇降させる駆動機構５０ｂが設けられている。そして、駆動機構５０ｂにより支持部材５０ａを昇降させることにより、この支持部材５０ａに支持されるカップ外周筒５０も昇降するようになっている。
また、図４および図５に示すように、ＦＦＵ７０にはガイド部材５１が取り付けられている。このガイド部材５１は、図５に示すようにカップ外周筒５０が上方位置にあるときに、このカップ外周筒５０から内側にわずかに距離を隔てて位置するよう配置されている。また、本実施の形態の液処理装置１０においては、図５に示すようにカップ外周筒５０が上方位置にあるときには、カップ外周筒５０内の気圧はカップ外周筒５０の外側の気圧よりも大きくなるようになっている。このため、カップ外周筒５０が上方位置にあるときには、ＦＦＵ７０により生じる処理室２０内のダウンフローのガスが、ガイド部材５１によりカップ外周筒５０の上端近傍において当該カップ外周筒５０の内側から外側に案内されるようになっている。
また、図４および図５に示すように、処理室２０内には、カップ外周筒５０を洗浄するための洗浄部５２が設けられている。この洗浄部５２は、純水等の洗浄液を貯留するための貯留部分５２ａを有しており、図４に示すようにカップ外周筒５０が下方位置にあるときにこのカップ外周筒５０が貯留部分５２ａに貯留された洗浄液に浸されるようになっている。洗浄部５２は、貯留部分５２ａに貯留された洗浄液にカップ外周筒５０が浸されることにより、このカップ外周筒５０の洗浄を行うようになっている。貯留部分５２ａに貯留される洗浄液としては、例えば室温以上の、好ましくは４０℃以上の、更に好ましくは６０℃以上の純水等が用いられる。貯留部分５２ａに貯留される洗浄液の温度が高い場合には、カップ外周筒５０に対する洗浄効果がより大きくなる。
図４に示すように、カップ外周筒５０が下方位置にあるときにはこのカップ外周筒５０の大部分が貯留部分５２ａに貯留された洗浄液に浸されるようになる。また、図５に示すように、カップ外周筒５０が上方位置にあるときにもこのカップ外周筒５０の下部が貯留部分５２ａに貯留された洗浄液に浸されるようになる。このため、カップ外周筒５０が上方位置にあるときには、貯留部分５２ａに貯留された洗浄液とカップ外周筒５０の下部との間で水シールを行うとともに、カップ外周筒５０の上部とガイド部材５１との間が狭くなるので、カップ外周筒５０内の領域を外部から隔離することができるようになる。
また、図４および図５に示すように、処理室２０内において、洗浄部５２の内側には処理室２０内の雰囲気の排気を行うための排気部５４が設けられており、また、洗浄部５２の外側には処理室２０内の雰囲気の排気を行うための排気部５６が設けられている。このような排気部５４および排気部５６が設けられていることにより、カップ外周筒５０が図４に示すような下方位置にあるときには、これらの排気部５４および排気部５６により処理室２０内全体の雰囲気の排気を行うことができる。一方、カップ外周筒５０が図５に示すような上方位置にあるときには、カップ外周筒５０内の領域が外部から隔離されるので、排気部５４によりカップ外周筒５０の内部の雰囲気の排気を行うことができ、また、排気部５６によりカップ外周筒５０の外側の雰囲気の排気を行うことができる。
前述のように、本実施の形態においては、１つの液処理装置１０に複数（具体的には例えば６つ）のノズル支持アーム８２が設けられており、各ノズル支持アーム８２の先端にノズル８２ａが設けられている。具体的には、各ノズル８２ａは、それぞれ、第１の薬液（具体的には、例えば酸性の薬液）、第２の薬液（具体的には、例えばアルカリ性の薬液）、純水、Ｎ２ガス、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、純水のミストをウエハＷの上面に供給するようになっている。
以下、本実施の形態におけるノズル支持アーム８２の構成について図７乃至図１０を用いて詳述する。ここで、図７は、図２等に示す液処理装置１０における処理室２０および６つのノズル支持アーム８２ｐ〜８２ｕを示す斜視図であり、図８は、図７に示す各ノズル支持アーム８２ｐ〜８２ｕの拡大斜視図である。また、図９は、図７等に示す各ノズル支持アーム８２ｐ〜８２ｕを、これらのノズル支持アーム８２ｐ〜８２ｕの後方から処理室２０に向かって見たときの構成を示す図であり、図１０は、図７等に示す各ノズル支持アーム８２ｐ〜８２ｕの構成の詳細を示す側断面図である。
図７に示すように、６つのノズル支持アーム８２は、例えば純水供給用アーム８２ｐ、第１の薬液供給用アーム８２ｑ、Ｎ２ガス供給用アーム８２ｒ、第２の薬液供給用アーム８２ｓ、純水のミスト供給用アーム８２ｔおよびＩＰＡ供給用アーム８２ｕから構成されている。前述のように、これらのアーム８２ｐ〜８２ｕの先端にはノズル８２ａが設けられている。このようにして、純水供給用アーム８２ｐの先端に設けられたノズル８２ａからは純水がウエハＷの上面に供給され、第１の薬液供給用アーム８２ｑの先端に設けられたノズル８２ａからは第１の薬液（具体的には、例えば酸性の薬液）がウエハＷの上面に供給され、Ｎ２ガス供給用アーム８２ｒの先端に設けられたノズル８２ａからはＮ２ガスがウエハの上面に供給されるようになっている。また、第２の薬液供給用アーム８２ｓの先端に設けられたノズル８２ａからは第２の薬液（具体的には、例えばアルカリ性の薬液）がウエハＷの上面に供給され、純水のミスト供給用アーム８２ｔの先端に設けられたノズル８２ａからは純水のミストがウエハＷの上面に供給され、ＩＰＡ供給用アーム８２ｕの先端に設けられたノズル８２ａからはＩＰＡがウエハＷの上面に供給されるようになっている。
図８および図１０に示すように、各ノズル支持アーム８２には、当該ノズル支持アーム８２を直進運動させるためのアーム駆動機構８５が設けられている。アーム駆動機構８５は、ベース部材８５ｄに取り付けられ正逆両方向に回転するモータ８５ａと、モータ８５ａに対向するようベース部材８５ｄに取り付けられたプーリ８５ｂと、モータ８５ａおよびプーリ８５ｂに巻き掛けられた循環ベルト８５ｃと、循環ベルト８５ｃに取り付けられたベルト取付部材８５ｅとを有している。ここで、ベルト取付部材８５ｅは、ノズル支持アーム８２を支持するアーム支持部８４の下部に取り付けられており、ベルト取付部材８５ｅおよびアーム支持部８４は一体的に移動するようになっている。そして、このようなアーム駆動機構８５において、モータ８５ａが回転することにより循環ベルト８５ｃが図１０における右方向または左方向に移動し、この循環ベルト８５ｃに取り付けられたベルト取付部材８５ｅが図１０における右方向または左方向に移動することにより、アーム支持部８４が図１０における左右方向に直進運動を行うようになる。このようにして、アーム支持部８４に支持されるノズル支持アーム８２も図１０における左右方向に直進運動を行う。
本実施の形態の液処理装置１０においては、アーム駆動機構８５が処理室２０の外部に設けられていることにより、このアーム駆動機構８５から発生するゴミ等が処理室２０内に入ってしまうことを抑制することができる。また、処理室２０内の雰囲気がアーム駆動機構８５に到達してしまうことを抑制することができる。
また、図９に示すように、上述した６つのアーム８２ｐ〜８２ｕのうち、純水供給用アーム８２ｐ、Ｎ２ガス供給用アーム８２ｒおよび純水のミスト供給用アーム８２ｔは同じ高さレベルに設置されている。より具体的には、図９において、これらのアーム８２ｐ、８２ｒ、８２ｔは、図９における二点鎖線Ａで囲まれる領域の高さレベルに設置されている。一方、上述した６つのアーム８２ｐ〜８２ｕのうち、第１の薬液供給用アーム８２ｑ、第２の薬液供給用アーム８２ｓおよびＩＰＡ供給用アーム８２ｕも同じ高さレベルに設置されている。より具体的には、図９において、これらのアーム８２ｑ、８２ｓ、８２ｕは、図９における二点鎖線Ｂで囲まれる領域の高さレベルに設置されている。そして、図９に示すように、純水供給用アーム８２ｐ、Ｎ２ガス供給用アーム８２ｒおよび純水のミスト供給用アーム８２ｔは、それぞれ、第１の薬液供給用アーム８２ｑ、第２の薬液供給用アーム８２ｓおよびＩＰＡ供給用アーム８２ｕよりも高い位置に設置されている。
また、本実施の形態の液処理装置１０においては、高さレベルが互いに異なる複数のアーム８２ｐ〜８２ｕが同時に処理室２０内に進出したときにアーム同士が衝突または干渉しないようになっている。
本実施の形態の液処理装置１０においては、ウエハＷの乾燥処理を行うにあたり、処理室２０内において保持部２１により保持されたウエハＷに対してＩＰＡを供給した後、このウエハＷにおけるＩＰＡが供給された箇所にＮ２ガスを供給するようになっている。このような場合、Ｎ２ガス供給用アーム８２ｒおよびＩＰＡ供給用アーム８２ｕが同時に処理室２０内に進出する。ここで、前述のように、Ｎ２ガス供給用アーム８２ｒおよびＩＰＡ供給用アーム８２ｕは互いに高さレベルが異なるようになっている。より詳細には、Ｎ２ガス供給用アーム８２ｒは図９における二点鎖線Ａで囲まれる領域の高さレベルに設置されているのに対し、ＩＰＡ供給用アーム８２ｕは図９における二点鎖線Ｂで囲まれる領域の高さレベルに設置されている。
そして、処理室２０内において、ＩＰＡ供給用アーム８２ｕに設けられたノズル８２ａからＩＰＡが噴射されるウエハＷ上の領域に対して、Ｎ２ガス供給用アーム８２ｒに設けられたノズル８２ａからＮ２が噴射されるウエハＷ上の領域が後を追うように、これらのＩＰＡ供給用アーム８２ｕおよびＮ２ガス供給用アーム８２ｒを処理室２０内で移動させる。この際に、Ｎ２ガス供給用アーム８２ｒおよびＩＰＡ供給用アーム８２ｕは互いに高さレベルが異なるようになっているので、これらのアーム８２ｒ、８２ｕが互いに干渉することはない。このようにして、処理室２０内に進出したＩＰＡ供給用アーム８２ｕに設けられたノズル８２ａからウエハＷに対してＩＰＡを供給した後に、このウエハＷにおけるＩＰＡが供給された箇所に対して処理室２０内に進出したＮ２ガス供給用アーム８２ｒに設けられたノズル８２ａからＮ２ガスを供給することができるようになる。
また、他の例としては、ウエハＷに対して酸性やアルカリ性の薬液により処理を行うにあたり、処理室２０内において保持部２１により保持されたウエハＷに対して薬液を供給した後に中断することなく引き続きこのウエハＷに純水を供給してリンス処理を行うようになっている。このような場合、第１の薬液供給用アーム８２ｑ（または第２の薬液供給用アーム８２ｓ）および純水供給用アーム８２ｐが同時に処理室２０内に進出する。ここで、前述のように、純水供給用アーム８２ｐおよび第１の薬液供給用アーム８２ｑ（または第２の薬液供給用アーム８２ｓ）は互いに高さレベルが異なるようになっている。より詳細には、純水供給用アーム８２ｐは図９における二点鎖線Ａで囲まれる領域の高さレベルに設置されているのに対し、第１の薬液供給用アーム８２ｑ（または第２の薬液供給用アーム８２ｓ）は図９における二点鎖線Ｂで囲まれる領域の高さレベルに設置されている。
そして、処理室２０内において、保持部２１により保持されたウエハＷに対して薬液を供給した後に中断することなく引き続きこのウエハＷに純水を供給するように、純水供給用アーム８２ｐおよび第１の薬液供給用アーム８２ｑ（または第２の薬液供給用アーム８２ｓ）を処理室２０内で移動させる。この際に、純水供給用アーム８２ｐおよび第１の薬液供給用アーム８２ｑ（または第２の薬液供給用アーム８２ｓ）は互いに高さレベルが異なるようになっているので、これらのアーム８２ｐ、８２ｑ（またはアーム８２ｐ、８２ｓ）が互いに干渉することはない。このようにして、処理室２０内に進出した第１の薬液供給用アーム８２ｑ（または第２の薬液供給用アーム８２ｓ）に設けられたノズル８２ａからウエハＷに対して薬液を供給した後に、処理室２０内に進出した純水供給用アーム８２ｐに設けられたノズル８２ａから純水を中断することなく引き続き供給してリンス処理を行うことができるようになる。
図１０に示すように、各アーム８２ｐ〜８２ｕは二重配管構造となっている。より詳細には、各アーム８２ｐ〜８２ｕは内部配管８２ｂおよび外部配管８２ｃから構成されている。内部配管８２ｂはノズル８２ａに連通しており、この内部配管８２ｂからノズル８２ａに流体が送られるようになっている。内部配管８２ｂは例えばフッ素系樹脂から構成されている。また、内部配管８２ｂは外部配管８２ｃに覆われるようになっており、この外部配管８２ｃは例えばステンレス鋼パイプにフッ素系樹脂をコーティングしたものからなる。
また、図８および図１０等に示すように、各アーム８２ｐ〜８２ｕの後端側におけるこれらのアーム８２ｐ〜８２ｕの外側には、各内部配管８２ｂに連通する渦巻き形状配管８３ｐ〜８３ｕがそれぞれ設けられている。各渦巻き形状配管８３ｐ〜８３ｕは可撓性材料から形成されている。具体的には、各渦巻き形状配管８３ｐ〜８３ｕは例えばフッ素系樹脂等のチューブが渦巻き形状に曲げられたものから形成されている。図７、図８および図１０に示すように、各渦巻き形状配管８３ｐ〜８３ｕは、対応するアーム８２ｐ〜８２ｕが退避位置にあるときに、これらのアーム８２ｐ〜８２ｕの延びる方向に直交する平面（すなわち、鉛直方向に延びる平面）上で渦巻き形状となるよう構成されている。そして、各渦巻き形状配管８３ｐ〜８３ｕに薬液等の流体が送られることにより、各アーム８２ｐ〜８２ｕの内部に設けられた内部配管８２ｂを経てノズル８２ａから流体が下方に噴射されるようになっている。また、各渦巻き形状配管８３ｐ〜８３ｕは可撓性材料から形成されているため、対応するアーム８２ｐ〜８２ｕが処理室２０内に進出した場合には、渦巻き形状配管８３ｐ〜８３ｕは図８に示すような渦巻き形状から変形して円錐螺旋形状（先端が徐々に細くなるような螺旋形状）となる。
また、本実施の形態の液処理装置１０においては、各アーム８２ｐ〜８２ｕは、当該アーム８２ｐ〜８２ｕの移動方向に沿った長手方向軸を中心として回転可能となっている。具体的には、図８に示すように、各アーム８２ｐ〜８２ｕには回転機構８６が設けられており、この回転機構８６により各アーム８２ｐ〜８２ｕは図８における矢印方向に回転するようになっている。各アーム８２ｐ〜８２ｕを回転させることにより、ノズル８２ａの向きを図１０に示すような下向きから他の方向に変えることができるようになる。また、各渦巻き形状配管８３ｐ〜８３ｕは渦巻き形状となっているとともに可撓性材料から形成されているため、回転機構８６により各アーム８２ｐ〜８２ｕを回転させた場合でも、対応する渦巻き形状配管８３ｐ〜８３ｕはアーム８２ｐ〜８２ｕの回転に合わせてスムーズに変形するようになり、アーム８２ｐ〜８２ｕの回転が各渦巻き形状配管８３ｐ〜８３ｕにより妨げられることはない。
回転機構８６は、保持部２１に保持されたウエハＷに対してノズル８２ａにより流体を供給する際に、このノズル８２ａを支持するアーム８２ｐ〜８２ｕを選択的に長手方向軸を中心として回転させるようになっている。具体的には、保持部２１に保持されたウエハＷの周縁部にノズル８２ａが近づくと、このノズル８２ａの向きは下向きから斜めに傾斜するようアーム８２ｐ〜８２ｕが回転するようになっている。このことにより、保持部２１に保持されたウエハＷの周縁部において、ノズル８２ａから斜め下方に流体が噴射されることによって、ノズル８２ａからウエハＷに供給された流体、具体的には薬液等の液体について、ウエハＷの周縁部上での液ハネを抑制することができるようになる。このように、回転機構８６は、ノズル８２ａがウエハＷの中心に位置する場合とノズル８２ａがウエハＷの周縁部に位置する場合とで、ノズル８２ａの向きを変えることができるようになっている。
また、回転機構８６は、各アーム８２ｐ〜８２ｕが進出位置と退避位置との間で移動する際に、ノズル８２ａが下向き以外の向き、具体的には例えば上向きとなるよう、長手方向軸を中心としてアーム８２ｐ〜８２ｕを回転させるようになっている。このことにより、アーム８２ｐ〜８２ｕを移動させる際にノズル８２ａから薬液等の液体がボタ落ちしてしまうことを防止することができる。
また、図７および図１０に示すように、各アーム８２ｐ〜８２ｕには、これらのアーム８２ｐ〜８２ｕの洗浄を行うためのアーム洗浄部８８がアーム８２ｐ〜８２ｕ毎に位置固定で設けられている。各アーム洗浄部８８は、それぞれ対応するアーム８２ｐ〜８２ｕが移動する際に当該アーム８２ｐ〜８２ｕの洗浄を行うようになっている。このような各アーム洗浄部８８による各アーム８２ｐ〜８２ｕの洗浄のタイミングは自由に設定できるようになっており、具体的には、各アーム８２ｐ〜８２ｕの洗浄は例えば処理毎に、または一日一回、あるいは月に一回行われるようになっている。
アーム洗浄部８８の構成の詳細について図１０を用いて説明する。図１０に示すように、アーム洗浄部８８には、ノズル支持アーム８２（８２ｐ〜８２ｕ）が通過する貫通穴が水平方向（図１０における左右方向）に延びるよう設けられている。この貫通穴の断面は、ノズル支持アーム８２の断面よりもわずかに大きくなっている。また、この貫通穴には、洗浄液が収容される収容部分８８ａが設けられている。また、収容部分８８ａには洗浄液供給管８８ｂが接続されており、洗浄液供給管８８ｂから収容部分８８ａに洗浄液が供給されるようになっている。収容部分８８ａに洗浄液が供給されると、この収容部分８８ａ内でノズル支持アーム８２の外周面上に液膜が張られるようになる。そして、アーム洗浄部８８において、収容部分８８ａに収容された洗浄液にノズル支持アーム８２（８２ｐ〜８２ｕ）の一部が接触しながら当該ノズル支持アーム８２が移動することによりノズル支持アーム８２の洗浄が行われるようになっている。
また、アーム洗浄部８８において、ノズル支持アーム８２の移動方向（図１０における左右方向）における収容部分８８ａよりも処理室２０に近い前方位置および収容部分８８ａよりも処理室２０から遠い後方位置にはそれぞれ吸引機構８８ｃ、８８ｄが設けられている。これらの吸引機構８８ｃ、８８ｄは、収容部分８８ａに収容された洗浄液がこの収容部分８８ａから外部に漏れたときに漏れた分の洗浄液を吸引して排液するようになっている。なお、吸引機構は、必ずしもノズル支持アーム８２の移動方向における収容部分８８ａよりも前方位置および後方位置の両方に設ける必要はなく、代わりに、ノズル支持アーム８２の移動方向における収容部分８８ａよりも前方位置または後方位置のうちいずれか一方にのみ吸引機構が設けられるようになっていてもよい。
また、吸引機構８８ｃ、８８ｄは、ノズル支持アーム８２が洗浄された後に、このノズル支持アーム８２に付着した液滴を吸引することにより、ノズル支持アーム８２の乾燥を行うようになっている。
また、アーム洗浄部８８において、ノズル支持アーム８２の移動方向における収容部分８８ａよりも後方位置には、ノズル支持アーム８２の内部配管８２ｂに残留した薬液等の液体を排出するための排液部分８８ｅが設けられている。また、排液部分８８ｅにはドレン管８８ｆが接続されており、排液部分８８ｅに送られた液体はドレン管８８ｆにより排出されるようになっている。そして、ノズル８２ａが排液部分８８ｅの真上に位置するようノズル支持アーム８２が移動して、ノズル支持アーム８２の内部配管８２ｂに残留した薬液等の液体がノズル８２ａから排液部分８８ｅに吐出されるようになっている。このような排液部分８８ｅが設けられていることにより、ウエハＷの液処理が終了した後、ノズル支持アーム８２の内部配管８２ｂに液体が残留してしまった場合でも、このノズル支持アーム８２に設けられたノズル８２ａを用いて次の液処理を行う際に、内部配管８２ｂに残留した液体を予めこの内部配管８２ｂから排出することができるようになる。とりわけ、ウエハＷに高温の薬液等をノズル８２ａから供給するときには、ノズル支持アーム８２の内部配管８２ｂに残留している液体は冷めている場合が多いため、この残留している冷めた液体を排液部分８８ｅにより予め内部配管８２ｂから排出することが望ましい。
なお、排液部分８８ｅは、ノズル支持アーム８２の移動方向における収容部分８８ａよりも後方位置ではなく収容部分８８ａよりも前方位置に設けられていてもよい。この場合でも、ノズル８２ａが排液部分８８ｅの真上に位置するようノズル支持アーム８２が移動し、ノズル８２ａから薬液を吐出することにより、ノズル支持アーム８２の内部配管８２ｂに残留した薬液等の液体がノズル８２ａから排液部分８８ｅに送られるようになる。
図７および図１０に示すように、各アーム８２ｐ〜８２ｕに対応する各アーム洗浄部８８は、処理室２０とアーム待機部８０との間に設けられた壁９０の外側に取り付けられるようになっている。このため、各アーム洗浄部８８はカップ外周筒５０の外側に設けられるようになる。なお、各アーム洗浄部８８は壁９０の外側に取り付けられる代わりに壁９０の内側に取り付けられるようになっていてもよい。この場合には、各アーム洗浄部８８は、回転カップ４０とアーム待機部８０との間の領域に位置するようになる。
本実施の形態の液処理装置１０においては、アーム洗浄部８８はノズル支持アーム８２の全体を洗浄するようになっていてもよく、あるいはノズル支持アーム８２の一部分のみを洗浄するようになっていてもよい。また、アーム洗浄部８８はノズル支持アーム８２の全周を洗浄するようになっているが、このことに限定されることはない。
また、本実施の形態の液処理装置１０においては、図２や図１０に示すように、各アーム８２ｐ〜８２ｕは、アーム待機部８０で待機しているときに、処理室２０とアーム待機部８０との間に設けられた壁９０のアーム洗浄部８８の開口８８ｐを塞ぐようになっている。このことにより、各アーム８２ｐ〜８２ｕは、壁９０のアーム洗浄部８８の開口８８ｐを塞ぐ蓋として機能するようになり、処理室２０内の領域とアーム待機部８０の領域とを隔離することができるようになる。
また、各アーム８２ｐ〜８２ｕは、図５に示すような上方位置にあるカップ外周筒５０の開口５０ｍも塞ぐことができるようになっている。このことにより、カップ外周筒５０内の領域とアーム待機部８０の領域とを隔離することができるようになる。
次に、このような構成からなる液処理装置１０の動作について説明する。
まず、保持部２１におけるリフトピンプレート２２および処理液供給管２８を図４に示す位置から上方に移動させることと、処理室２０の開口９４ａに設けられたシャッター９４をこの開口９４ａから退避させることにより開口９４ａを開くことを行う。そして、液処理装置１０の外部からウエハＷが搬送アーム１０４により開口９４ａを介して処理室２０内に搬送され、このウエハＷがリフトピンプレート２２のリフトピン２３上に載置され、その後、搬送アーム１０４は処理室２０から退避する。この際に、カップ外周筒５０は図４に示すような下方位置に位置している。また、各ノズル支持アーム８２は処理室２０から退避した退避位置に位置している。すなわち、各ノズル支持アーム８２はアーム待機部８０で待機している。また、ＦＦＵ７０から処理室２０内にクリーンエア等のガスが常にダウンフローで送られ、このガスが排気部５４により排気されることにより、処理室２０内の雰囲気の置換が行われるようになっている。
次に、リフトピンプレート２２および処理液供給管２８を下方に移動させ、これらのリフトピンプレート２２および処理液供給管２８を図４に示すような下方位置に位置させる。この際に、保持プレート２６に設けられた各保持部材２５が、リフトピン２３上のウエハＷを支持し、このウエハＷをリフトピン２３からわずかに離間させる。
その後に、またはリフトピンプレート２２の下降中に、カップ外周筒５０に設けられた駆動機構５０ｂにより、このカップ外周筒５０を上方に移動させ、カップ外周筒５０を図５に示すような上方位置に位置させる。そして、カップ外周筒５０が上方位置に移動した後、アーム待機部８０で待機している６つのノズル支持アーム８２のうち一または複数のノズル支持アーム８２が壁９０のアーム洗浄部８８の開口８８ｐおよびカップ外周筒５０の開口５０ｍを介して処理室２０内に進出する（図５の二点鎖線参照）。この際に、アーム駆動機構８５によりノズル支持アーム８２は直線運動を行う。
そして、保持部２１における保持プレート２６およびリフトピンプレート２２を回転させる。このことにより、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されているウエハＷも回転する。
その後、まず、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されているウエハＷに対して酸性の薬液により処理を行い、その後引き続いてリンス処理を行う。具体的には、図５に示すような状態で、アーム待機部８０で待機している６つのノズル支持アーム８２のうち第１の薬液供給用アーム８２ｑおよび純水供給用アーム８２ｐがそれぞれ壁９０のアーム洗浄部８８の開口８８ｐおよびカップ外周筒５０の開口５０ｍを介して処理室２０内に同時に進出する。この際に、第１の薬液供給用アーム８２ｑおよび純水供給用アーム８２ｐは互いに高さレベルが異なるようになっているので、これらのアーム８２ｑ、８２ｐが互いに干渉することはない。
そして、ウエハＷが回転した状態で、処理室２０内に進出した第１の薬液供給用アーム８２ｑのノズル８２ａからウエハＷの上面に酸性の薬液を供給する。また、この際に、ウエハＷの下面（裏面）に向かって処理液供給管２８から酸性の薬液を供給してもよい。このようにして、ウエハＷの少なくとも上面に酸性の薬液が供給され、ウエハＷの薬液処理が行われる。ウエハＷに供給された酸性の薬液は、４つの処理液回収用タンク４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄのうち例えば第１処理液回収用タンク４６ａに送られて回収される。また、上述のような薬液処理が行われる際に、純水供給用アーム８２ｐは、第１の薬液供給用アーム８２ｑのノズル８２ａによる酸性の薬液の吐出位置からわずかに後退した位置に当該純水供給用アーム８２ｐのノズル８２ａが位置するよう、処理室２０内で待機している。ここで、純水供給用アーム８２ｐが待機しているときに、ノズル８２ａが下向き以外の向き、具体的には例えば上向きとなるように純水供給用アーム８２ｐを回転させておけば、薬液処理中において純水供給用アーム８２ｐのノズル８２ａからのボタ落ちを防止することができる。
そして、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されているウエハＷに対して酸性の薬液が供給された後に中断することなく引き続きこのウエハＷに純水が供給される。具体的には、処理室２０内に進出した第１の薬液供給用アーム８２ｑに設けられたノズル８２ａからウエハＷに対して酸性の薬液を供給した後に、処理室２０内に進出した純水供給用アーム８２ｐに設けられたノズル８２ａから純水を中断することなく引き続きウエハＷに供給する。ウエハＷに供給された純水は、４つの処理液回収用タンク４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄのうち例えば第３処理液回収用タンク４６ｃに送られて回収される。このようにして、カップ外周筒５０内でウエハＷに対して酸性の薬液により処理が行われ、その後引き続いてリンス処理が行われるようになる。この際に、処理室２０内において純水供給用アーム８２ｐと第１の薬液供給用アーム８２ｑは互いに高さレベルが異なっているのでこれらのアーム８２ｐ、８２ｑが互いに干渉することはない。そして、ウエハＷに対する酸性の薬液による処理およびリンス処理が終了すると、処理室２０に進出した第１の薬液供給用アーム８２ｑはこの処理室２０から退避してアーム待機部８０で待機するようになる。一方、純水供給用アーム８２ｐは処理室２０内に残ったままとなる。また、リンス処理が行われる間に、第２の薬液供給用アーム８２ｓが壁９０のアーム洗浄部８８の開口８８ｐおよびカップ外周筒５０の開口５０ｍを介して処理室２０内に進出する。より詳細には、上述のようなリンス処理が行われる際に、第２の薬液供給用アーム８２ｓは、純水供給用アーム８２ｐのノズル８２ａによる純水の吐出位置からわずかに後退した位置に当該第２の薬液供給用アーム８２ｓのノズル８２ａが位置するよう、処理室２０内で待機している。
その後、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されているウエハＷに対してアルカリ性の薬液により処理を行い、その後引き続いてリンス処理を行う。具体的には、処理室２０内に進出している第２の薬液供給用アーム８２ｓおよび純水供給用アーム８２ｐにより、ウエハＷに対してアルカリ性の薬液による処理およびリンス処理が行われる。この際に、第２の薬液供給用アーム８２ｓおよび純水供給用アーム８２ｐは互いに高さレベルが異なるようになっているので、これらのアーム８２ｓ、８２ｐが互いに干渉することはない。
具体的に説明すると、ウエハＷが回転した状態で、処理室２０内に進出した第２の薬液供給用アーム８２ｓのノズル８２ａからウエハＷの上面にアルカリ性の薬液を供給する。また、この際に、ウエハＷの下面（裏面）に向かって処理液供給管２８からアルカリ性の薬液を供給してもよい。このようにして、ウエハＷの少なくとも上面にアルカリ性の薬液が供給され、ウエハＷの薬液処理が行われる。ウエハＷに供給されたアルカリ性の薬液は、４つの処理液回収用タンク４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄのうち例えば第２処理液回収用タンク４６ｂに送られて回収される。また、上述のような薬液処理が行われる際に、純水供給用アーム８２ｐは、第２の薬液供給用アーム８２ｓのノズル８２ａによるアルカリ性の薬液の吐出位置からわずかに後退した位置に当該純水供給用アーム８２ｐのノズル８２ａが位置するよう、処理室２０内で待機している。
そして、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されているウエハＷに対してアルカリ性の薬液が供給された後に中断することなく引き続きこのウエハＷに純水が供給される。具体的には、処理室２０内に進出した第２の薬液供給用アーム８２ｓに設けられたノズル８２ａからウエハＷに対してアルカリ性の薬液を供給した後に、処理室２０内に進出している純水供給用アーム８２ｐに設けられたノズル８２ａから純水を中断することなく引き続きウエハＷに供給する。ウエハＷに供給された純水は、４つの処理液回収用タンク４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄのうち例えば第３処理液回収用タンク４６ｃに送られて回収される。このようにして、カップ外周筒５０内でウエハＷに対してアルカリ性の薬液により処理が行われ、その後引き続いてリンス処理が行われるようになる。そして、ウエハＷに対するアルカリ性の薬液による処理およびリンス処理が終了すると、処理室２０に進出した第２の薬液供給用アーム８２ｓおよび純水供給用アーム８２ｐはこの処理室２０から退避してアーム待機部８０で待機するようになる。また、上述のようなリンス処理が行われる間に、ＩＰＡ供給用アーム８２ｕが壁９０のアーム洗浄部８８の開口８８ｐおよびカップ外周筒５０の開口５０ｍを介して処理室２０内に進出する。より詳細には、上述のようなリンス処理が行われる際に、ＩＰＡ供給用アーム８２ｕは、純水供給用アーム８２ｐのノズル８２ａによる純水の吐出位置からわずかに後退した位置に当該ＩＰＡ供給用アーム８２ｕのノズル８２ａが位置するよう、処理室２０内で待機している。
その後、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されているウエハＷに対してＩＰＡにより乾燥処理が行われる。具体的には、アーム待機部８０で待機している６つのノズル支持アーム８２のうちＮ２ガス供給用アーム８２ｒが壁９０のアーム洗浄部８８の開口８８ｐおよびカップ外周筒５０の開口５０ｍを介して処理室２０内に進出する。このようにして、処理室２０内にＮ２ガス供給用アーム８２ｒおよびＩＰＡ供給用アーム８２ｕがそれぞれ進出した状態となる。この際に、Ｎ２ガス供給用アーム８２ｒおよびＩＰＡ供給用アーム８２ｕは互いに高さレベルが異なるようになっているので、これらのアーム８２ｒ、８２ｕが互いに干渉することはない。
そして、ウエハＷが回転した状態で、処理室２０内に進出したＩＰＡ供給用アーム８２ｕに設けられたノズル８２ａからウエハＷに対してＩＰＡを供給した後に、このウエハＷにおけるＩＰＡが供給された箇所に対して処理室２０内に進出したＮ２ガス供給用アーム８２ｒに設けられたノズル８２ａからＮ２ガスを供給する。具体的には、処理室２０内において、ＩＰＡ供給用アーム８２ｕに設けられたノズル８２ａによりウエハＷの中心にＩＰＡが供給される。その後、ＩＰＡ供給用アーム８２ｕがウエハＷの中心から周縁部に移動し、ＩＰＡが供給された後のウエハＷ上の領域に対して、Ｎ２ガス供給用アーム８２ｒに設けられたノズル８２ａによりガスが噴射されるウエハＷ上の領域が後を追うように、これらのＩＰＡ供給用アーム８２ｕおよびＮ２ガス供給用アーム８２ｒをウエハＷ上で移動させる。このようにして、ウエハＷの表面において、ＩＰＡが供給された箇所にＮ２ガスがすぐに供給されるようになり、ウエハＷの乾燥処理を適切に行うことができるようになる。なお、ウエハＷに供給されたＩＰＡは、４つの処理液回収用タンク４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄのうち例えば第４処理液回収用タンク４６ｄに送られて回収される。ウエハＷの乾燥処理が終了すると、処理室２０に進出したＩＰＡ供給用アーム８２ｕおよびＮ２ガス供給用アーム８２ｒはこの処理室２０から退避してアーム待機部８０で待機するようになる。
ウエハの乾燥処理が終了すると、カップ外周筒５０に設けられた駆動機構５０ｂにより、このカップ外周筒５０を下方に移動させ、カップ外周筒５０を図４に示すような下方位置に位置させる。
その後、保持部２１におけるリフトピンプレート２２および処理液供給管２８を図４に示す位置から上方に移動させる。この際に、保持プレート２６の保持部材２５により支持されたウエハＷがリフトピンプレート２２のリフトピン２３上に受け渡される。次に、処理室２０の開口９４ａに設けられたシャッター９４をこの開口９４ａから退避させることにより開口９４ａを開き、液処理装置１０の外部から開口９４ａを介して搬送アーム１０４を処理室２０内に進出させ、この搬送アーム１０４によりリフトピンプレート２２のリフトピン２３上のウエハＷを取り出す。搬送アーム１０４により取り出されたウエハＷは液処理装置１０の外部に搬送される。このようにして、一連のウエハＷの液処理が完了する。
なお、各ノズル支持アーム８２の洗浄は、ノズル支持アーム８２が処理室２０からアーム待機部８０における退避位置に移動する際にアーム洗浄部８８により行ってもよい。また、各ノズル支持アーム８２の洗浄は、ウエハＷに対する各処理後に行ってもよいし、あるいは定期的に行ってもよい。
ここで、本実施の形態の液処理装置１０によれば、アーム洗浄部８８がアーム待機部８０に位置固定で設けられており、このアーム洗浄部８８は、ノズル支持アーム８２が移動する際に当該ノズル支持アーム８２の洗浄を行えるようになっている。このように、アーム洗浄部８８によりノズル支持アーム８２を洗浄することによって、汚れが付着していない状態でノズル支持アーム８２が処理室２０内に進入することができるようになり、ノズル支持アーム８２に付着した汚れにより処理室２０内のウエハＷが汚れてしまうことを防止することができる。さらに、アーム洗浄部８８が処理室２０の外部に設けられることにより、処理室２０内の気流が乱れてしまうことを防止することができる。
また、本実施の形態の液処理装置１０においては、アーム洗浄部８８は、洗浄液が収容される収容部分８８ａを有しており、アーム洗浄部８８において、収容部分８８ａに収容された洗浄液にノズル支持アーム８２の一部が接触しながらノズル支持アーム８２が移動することによりノズル支持アーム８２の洗浄が行われるようになっている。この場合には、アーム洗浄部８８を移動させることなく、位置が固定された収容部分８８ａに収容された洗浄液によりノズル支持アーム８２の洗浄を行うことができるので、アームの洗浄を行うための機構をシンプルなものとすることができる。
また、本実施の形態の液処理装置１０においては、ノズル支持アーム８２は、ノズル８２ａに流体を送るための内部配管８２ｂを有しており、アーム洗浄部８８において、ノズル支持アーム８２の移動方向における収容部分８８ａよりも後方位置に、ノズル支持アーム８２の内部配管８２ｂに残留した液体を排出するための排液部分８８ｅが設けられている。そして、ノズル８２ａが排液部分８８ｅの真上に位置するようノズル支持アーム８２が移動することにより、ノズル支持アーム８２の内部配管８２ｂから排出された液体がノズル８２ａから排液部分８８ｅに送られるようになっている。このことにより、ウエハＷの液処理が終了した後、ノズル支持アーム８２の内部配管８２ｂに不要な液体が残留してしまった場合でも、このノズル支持アーム８２に設けられたノズル８２ａを用いて次の液処理を行う際に、内部配管８２ｂに残留した液体を予めこの内部配管８２ｂから排出することができるようになる。とりわけ、ウエハＷに高温の薬液等をノズル８２ａから供給するときには、ノズル支持アーム８２の内部配管８２ｂに残留している液体は冷めている場合が多いため、この残留している冷めた液体を排液部分８８ｅにより予め内部配管８２ｂから排出することが望ましい。
また、本実施の形態の液処理装置１０においては、アーム洗浄部８８はカップ外周筒５０の外側に設けられている。このことにより、カップ外周筒５０内の気流がアーム洗浄部８８により乱れてしまうことを防止することができる。
なお、本実施の形態による液処理装置は、上記の態様に限定されるものではなく、様々の変更を加えることができる。例えば、処理室２０内に進出したノズル支持アーム８２のノズル８２ａおよび処理液供給管２８によりウエハＷの上面および下面の両方に処理液を供給する必要はなく、ノズル支持アーム８２のノズル８２ａによりウエハＷの上面のみに処理液を供給するようになっていてもよい。
また、一本のノズル支持アーム８２に対して複数のノズル８２ａが設けられるようになっていてもよい。
次に、図１１を参照して、前述したアーム洗浄部８８（図１０参照）に代えて用いることができるアーム洗浄部１２０について説明する。アーム洗浄部１２０は、激しい汚染環境、例えば硫酸と過酸化水素水とを混合して得た高温のＳＰＭ（Sulfuric Acid Hydrogen Peroxide Mixture）液をレジスト剥離のためにウエハに供給するＳＰＭ処理等の薬液処理の行われた処理室から退避してきた後に、汚染されたノズル支持アーム８２を洗浄するために特に適している。但し、アーム洗浄部１２０により洗浄されるノズル支持アーム８２は、ＳＰＭ液を吐出するためのノズル８２ａを有するノズル支持アーム８２に限らず、別のノズル支持アーム８２、例えばＳＰＭ処理直後のＳＰＭ雰囲気中でリンス液を吐出するためのノズル８２ａを有するノズル支持アーム８２であってもよい。図１１（ａ）は、図１０左側に示されたアーム洗浄部８８をアーム洗浄部１２０で置き換えた場合の、アーム洗浄部１２０近傍を拡大して示した軸方向断面図であり、図１１（ｂ）は、図１１（ａ）中のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。図１１（ａ）には、ノズル支持アーム８２の先端部のみが示されているが、ノズル支持アーム８２およびこれに付随する構成部品（アーム支持部８４、アーム駆動機構８５、渦巻き形状配管８３ｐ〜８３ｕ）の構成は図１０に示したものと同じでよい。図１１において、図１０に示した構成部品と同一部品については同一符号を付して、重複説明は省略する。
アーム洗浄部１２０は、洗浄ボックス１３０と、乾燥ブロック１４０とを有している。洗浄ボックス１３０は、内部に洗浄空間を形成する天板１３２ａ、左右の側板１３２ｂおよび底板１３２ｃを有している。洗浄ボックス１３０の両側板１３２ｂの内面の上部に第１洗浄液ノズル１３３Ａ（１３３）が設けられており、また、底部板１３２ｃの上面に第２洗浄液ノズル１３３Ｂ（１３３）が設けられている。なお、第１、第２洗浄液ノズル１３３Ａ、１３３Ｂは同じ構成を有しており、両者を区別する必要が無い場合には、以下、単に「洗浄液ノズル１３３」とも記す。各洗浄液ノズル１３３の内部には、洗浄液供給路１３３ａが洗浄ボックス１３０の長手方向（ノズル支持アーム８２の長手方向と同じ）に沿って延びている。各洗浄液ノズル１３３のノズル支持アーム８２を向いた面には、洗浄ボックス１３０の長手方向に沿って間隔を空けて配置された複数の洗浄液吐出口（ノズル孔）１３４が設けられている。洗浄液吐出口１３４は洗浄液供給路１３３ａと連通している。各洗浄液ノズル１３３（１３３Ａ，１３３Ｂ）の洗浄液供給路１３３ａには、洗浄液供給源１３５からノズルアーム洗浄用の洗浄液としてＤＩＷ（純水）が供給され、これにより、矢印１３４ａ，１３４ｂで示すように複数の洗浄液吐出口１３４からノズル支持アーム８２に向けて洗浄液が噴射されるようになっている。第１洗浄液ノズル１３３Ａからは、ノズル支持アーム８２の上部に向けて洗浄液が噴射され、第２洗浄液ノズル１３３Ｂからは、ノズル支持アーム８２の下部に向けて洗浄液が噴射される。
底板１３２ｃには１つまたは複数のドレン孔１３１が形成されており、洗浄液吐出口１３４から噴射された洗浄液によりノズル支持アーム８２から洗い流された薬液及び反応生成物がドレン孔１３１を介して洗浄空間（天板１３２ａ、側板１３２ｂおよび底板１３２ｃにより囲まれた空間）から排出されるようになっている。ドレン孔１３１は適当な排液管を介して工場廃液系に接続されている。ドレン孔１３１への洗浄液の排出をスムーズに行うため、底板１３２ｃにドレン孔１３１に近づくに従って低くなるような傾斜を設けることが好ましい。洗浄ボックス１３０のカップ外周筒５０から遠い側の端部には、後板１３６が設けられている。後板１３６の中央部には、ノズル支持アーム８２を通すことが可能なサイズの穴が形成されている。この後板１３６により、洗浄空間内の液が後方に飛散することが防止または抑制される。
なお、洗浄効率の向上およびクロスコンタミネーション防止の観点から、洗浄ボックス１３０は、洗浄中にノズル支持アーム８２の洗浄対象部分（すなわち薬液処理時に薬液を浴びるカップ外周筒５０内に浸入する部分およびその近傍）の全体を同時に洗浄ボックス１３０内に収容できる程度の長さを有している。
乾燥ブロック１４０（ガス噴射部分）は、洗浄ボックス１３０の先端側に連結されている。乾燥ブロック１４０の中心には、ノズル支持アーム８２の外径よりもやや大きい内径の貫通穴が形成されている。この貫通穴の内表面には、ノズル支持アーム８２の外周面に乾燥用ガス、例えば清浄空気、Ｎ２ガスなどを噴射するための複数（例えば６〜１２個）のガス噴射口１４２が、円周方向に間隔を空けて形成されている。乾燥ブロック１４０の内部には、円環状のガス通路１４３が形成されており、このガス通路１４３に各ガス噴射口１４２が連通している。ガス通路１４３には乾燥用ガス供給源１４４が接続されており、乾燥用ガス供給源１４４から乾燥用ガス（例えばＮ２ガス、ドライエア）を供給することにより、ガス噴射口１４２からノズル支持アーム８２の外周面に乾燥用ガスを吹き付けて、ノズル支持アーム８２を乾燥させることができるようになっている。なお、ノズル支持アーム８２の外周面に吹き付けた乾燥用ガスは、主に洗浄ボックス１３０の方に流れることが望ましい。このため、図１１（ａ）に示したようにガス噴射口１４２を洗浄ボックス１３０に向けて傾斜させることが好ましい。あるいは、ノズル支持アーム８２の外周面と、ノズル支持アーム８２が通される乾燥ブロック１４０の貫通孔の内表面との間の間隔を、カップ外周筒５０側で狭くすることも好ましい。
アーム洗浄部１２０の動作について説明する。ノズル支持アーム８２が開口５０ｍを通ってカップ外周筒５０内に進入し、ノズル８２ａからウエハに所定時間ＳＰＭ液を供給してレジスト剥離のためのＳＰＭ処理を行う。なお、各々に図１１に示すアーム洗浄部１２０が付設された２つのノズル支持アーム８２を同時にカップ外周筒５０内に進入させて、一方のノズル支持アーム８２のノズル８２ａから硫酸を、他方のノズル支持アーム８２のノズル８２ａから過酸化水素水をウエハに供給することも考えられる。ＳＰＭ処理において、気化または霧化した高温のＳＰＭ液および反応生成物（これらはヒューム（fume）と呼ばれる）がノズル支持アーム８２に付着する。ＳＰＭ処理が終了したら、ノズル支持アーム８２はカップ外周筒５０の外側に退出し、別のノズル支持アーム（図７などを参照）がカップ外周筒５０内に進入し、次の液処理（リンス処理、他の薬液処理）がウエハに施される。カップ外周筒５０の外側に退出したノズル支持アーム８２は、次のウエハを処理するまで待機する。待機中に、ノズル支持アーム８２に洗浄処理が施される。
ノズル支持アーム８２をカップ外周筒５０の外側に退出させる際、まず、洗浄液供給源１３５から洗浄液（ＤＩＷ）が供給されて洗浄液吐出口１３４から矢印１３４ａ，１３４ｂで示すようにノズル支持アーム８２の上部及び下部に向けてＤＩＷが噴射され、この状態で、ノズル支持アーム８２を図中右側に向けてノズル支持アーム８２の先端８２ｗが完全に洗浄ボックス１３０内に入るまで後退させて、その位置でノズル支持アーム８２を停止させ、ノズル支持アーム８２の汚染された部分全体を十分に洗浄する。洗浄液の供給量は例えば２Ｌ／ｍｉｎとすることができる。洗浄中にノズル支持アーム８２の洗浄対象部分は洗浄ボックス１３０内に収容されているので、洗浄液あるいは洗浄により除去された汚染物質が他のノズル支持アームおよびその駆動部に飛散してこれらを汚染することが防止される。また、ＳＰＭ処理後にカップ外周筒５０から退出したノズル支持アーム８２からは、汚染物質の蒸気が立ち上っているが、内部にＤＩＷが噴射された洗浄ボックス１３０内へとノズル支持アーム８２を引き抜いていくことにより、汚染物質の蒸気によりアーム待機部８０が汚染されることも防止される。洗浄が終了し、ノズル支持アーム８２を再びカップ外周筒５０内に進入させる際には、乾燥用ガス供給源１４４から乾燥用ガスを供給してガス噴射口１４２から乾燥用ガスをノズル支持アーム８２の表面に吹きつけながらノズル支持アーム８２をカップ外周筒５０側に移動させてゆくことにより、ノズル支持アーム８２の外周面上に残存している洗浄液は洗浄ボックス１３０内に向けて吹き飛ばされ、ノズル支持アーム８２のうちの少なくともカップ外周筒５０内に進入する部分からは、洗浄液が除去される。なお、洗浄終了後、ノズル支持アーム８２を再びカップ外周筒５０内に進入させるまでの間、ノズル支持アーム８２を僅かに前進させ（図１１（ａ）に示す位置まで）、ノズル支持アーム８２の先端８２ｗがカップ外周筒５０の開口５０ｍを塞ぐような位置に位置させておくことも、カップ外周筒５０内の雰囲気がアーム待機部８０内に浸入することを防止する意味において好ましい。
アーム洗浄部１２０の構成は、図１１に示したものに限定されるものではない。例えば、洗浄液ノズル１３３の位置は適宜変更することができる。具体的に例えば、洗浄液ノズル１３３を洗浄ボックス１３０の天板１３２ａに設けて、その洗浄液ノズル１３３からノズル支持アーム８２の上部に洗浄液を噴射してもよい。また、ノズル支持アーム８２の斜め下方に（例えば図１１（ｂ）における左右対称位置）２つの洗浄液ノズル１３３を設けて、これらの洗浄液ノズル１３３からノズル支持アーム８２の下部に洗浄液を噴射してもよい。
また、洗浄中に、回転機構８６（図８を参照）を用いて、ノズル支持アーム８２を適宜回転させてもよい。これによれば、洗浄の均一性をより向上させることができる。
複数の洗浄液ノズル１３３の少なくとも１つを、図１２に示すような２流体ノズル１３３’として構成してもよい。以下に、２流体ノズル１３３’について説明するが、図１２において、図１１の洗浄液ノズル１３３の構成要素と類似の構成要素については、参照符号にダッシュを付けてある。図１２に示す２流体ノズル１３３’内には、洗浄液供給路１３３ａ’と平行にガス供給路１３６が延びている。洗浄液供給路１３３ａ’と洗浄液吐出口１３４’とを接続する洗浄液流路１３７に、洗浄液吐出口１３４’の近傍位置でガス流路１３８が接続されている。洗浄液流路１３７を流れる洗浄液（ここではＤＩＷ）に霧化用ガス（ここではＮ２ガス）が洗浄液吐出口１３４’の直前で混合され、洗浄液はミスト化（霧化）された状態で洗浄液吐出口１３４’から噴射され、衝突のエネルギーによりノズル支持アーム８２を効率良く洗浄する。なお、特にノズル支持アーム８２の下部の方が激しく汚染されるため、２流体ノズル１３３’は図１１の第２洗浄液ノズル１３３Ｂの位置に設けることが好ましい。
図１０に示したアーム洗浄部８８は、図１２に示したアーム洗浄部１２０の乾燥ブロック１４０を組み込むことにより、図１３に示すように改変した構成とすることができる。図１３に示すアーム洗浄部８８’は、吸引機構８８ｄと排液部分８８ｅとの間に、図１２に示した乾燥ブロック１４０が設けられている。乾燥ブロック１４０に設けられるガス噴射口１４２は、吸引機構８８ｄに向けて傾斜している。その他の構成は、図１０と同じである。図１３において、図１０に示す構成要素と同じ構成要素には同一符号を付している。図１３に示す構成においては、ノズル支持アーム８２を後退させながら収容部分８８ａに収容された洗浄液によりノズル支持アーム８２を洗浄するときに、乾燥ブロック１４０のガス噴射口１４２から噴射されるガスによってノズル支持アーム８２の表面に残存している洗浄液が吸引機構８８ｄに向けて吹き飛ばされる。これにより、ノズル支持アーム８２の表面を確実に乾燥させることができ、かつ、洗浄液が吸引機構８８ｄによって確実に回収され、アーム待機部８０内に洗浄液が垂れ落ちることが防止できる。
１０ 液処理装置
２０ 処理室
２１ 基板保持部
４０、４２、４３、４４、４５ カップ
８２ ノズル支持アーム
８２ａ ノズル
８８、８８’、１２０アーム洗浄部

Claims (16)

  1. 基板を保持する基板保持部および当該基板保持部の周囲に配設されるカップが内部に設けられた処理室と、
    前記基板保持部に保持された基板に対して流体を供給するためのノズルと、
    前記ノズルを支持するノズル支持アームと、
    前記ノズル支持アームの洗浄を行うためのアーム洗浄部と、
    を備えたことを特徴とする液処理装置。
  2. 前記アーム洗浄部は、前記ノズル支持アームが移動する際に当該ノズル支持アームの洗浄を行うようになっていることを特徴とする請求項１記載の液処理装置。
  3. 前記アーム洗浄部は、前記ノズル支持アームが退避位置にあるときに当該ノズル支持アームの洗浄を行うようになっていることを特徴とする請求項１記載の液処理装置。
  4. 前記アーム洗浄部は、洗浄液が収容される収容部分を有し、
    前記アーム洗浄部において、前記収容部分に収容された洗浄液に前記ノズル支持アームの一部が接触しながら当該ノズル支持アームが移動することにより前記ノズル支持アームの洗浄が行われるようになっていることを特徴とする請求項２記載の液処理装置。
  5. 前記アーム洗浄部において、前記ノズル支持アームの移動方向における前記収容部分よりも前記処理室に近い前方位置および前記収容部分よりも前記処理室から遠い後方位置のうち少なくともいずれか一方の位置に吸引機構が設けられていることを特徴とする請求項４記載の液処理装置。
  6. 前記アーム洗浄部は、前記ノズル支持アームの移動方向における前記収容部分よりも前記処理室から遠い後方位置に、前記ノズル支持アームに乾燥用ガスを吹き付ける乾燥ブロックを有していることを特徴とする、請求項４記載の液処理装置。
  7. 前記ノズル支持アームは、前記ノズルに流体を送るための配管を内部に有し、
    前記アーム洗浄部において、前記ノズル支持アームの移動方向における前記収容部分よりも前記処理室に近い前方位置および前記収容部分よりも前記処理室から遠い後方位置のうち少なくともいずれか一方の位置に、前記ノズル支持アーム内の前記配管に残留した液体を排出するための排液部分が設けられており、
    前記ノズルが前記排液部分の真上に位置するよう前記ノズル支持アームが移動することにより、前記ノズル支持アーム内の前記配管に残留した液体が前記ノズルから前記排液部分に送られるようになっていることを特徴とする請求項４または５記載の液処理装置。
  8. 前記処理室に隣接して設けられ、当該処理室から退避した前記ノズル支持アームが待機するためのアーム待機部を更に備えたことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の液処理装置。
  9. 前記アーム洗浄部は、前記処理室における前記カップと前記アーム待機部との間の領域または前記アーム待機部に位置固定で設けられていることを特徴とする請求項８記載の液処理装置。
  10. 前記処理室と前記アーム待機部との間には鉛直方向に延びる壁が設けられており、
    前記壁には、前記ノズル支持アームが通過可能な開口が設けられており、
    前記壁に前記アーム洗浄部が取り付けられていることを特徴とする請求項８または９記載の液処理装置。
  11. 前記処理室内において前記カップの周囲に配設され、上方位置と下方位置との間で昇降可能となっており、前記ノズル支持アームが通過可能な開口が設けられた円筒状のカップ外周筒を更に備え、
    前記アーム洗浄部は前記カップ外周筒の外側に設けられていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の液処理装置。
  12. 前記ノズル支持アームは、その長手方向に進退して、前記ノズルが前記基板保持部により保持された基板の上方に位置する進出位置と、当該進出位置から後退した退避位置をとることができるように設けられており、
    前記アーム洗浄部は、洗浄ボックスと、乾燥ブロックとを有しており、
    前記洗浄ボックスは、前記退避位置に位置する前記ノズル支持アームの外周を包囲するように構成され、
    前記洗浄ボックスに、前記洗浄ボックス内に位置する前記ノズル支持アームに向けて洗浄液を噴射する少なくとも１つの洗浄液ノズルが設けられており、
    前記乾燥ブロックは、前記洗浄ボックスに隣接して、前記ノズル支持アームの進退方向に関して前記洗浄ボックスよりも前方に設けられており、
    前記乾燥ブロックは、前記ノズル支持アームの外周面に向けて乾燥用ガスを噴射するガス噴射孔を有しており、前記ノズル支持アームを前記退避位置から前記進出位置に向けて前方に移動させながら前記ガス噴射孔から乾燥用ガスを前記ノズル支持アームに噴射することにより、前記ノズル支持アームを乾燥させることができるように構成されている
    ことを特徴とする請求項３記載の液処理装置。
  13. 前記乾燥ブロックは、前記ガス噴射孔から噴射された乾燥用ガスが前記洗浄ボックス側に向けて流れるように構成されている、請求項１２記載の液処理装置。
  14. 前記洗浄ボックス内に、前記ノズル支持アームの上部に向けて洗浄液を噴射する第１の洗浄液ノズルと、前記ノズル支持アームの下部に向けて洗浄液を噴射する第２の洗浄液ノズルとが設けられている、請求項１２または１３記載の液処理装置。
  15. 処理室の内部に設けられた基板保持部により基板を保持させる工程と、
    ノズルを支持するノズル支持アームを前記処理室内に進出させる工程と、
    前記処理室内に進出したノズル支持アームのノズルにより、前記基板保持部により保持された基板に流体を供給する工程と、
    アーム洗浄部により、前記ノズル支持アームが移動する際に当該ノズル支持アームの洗浄を行う工程と、
    を備えたことを特徴とする液処理方法。
  16. 処理室の内部に設けられた基板保持部により基板を保持させる工程と、
    ノズルを支持するノズル支持アームを前記処理室内に進出させる工程と、
    前記処理室内に進出したノズル支持アームのノズルにより、前記基板保持部により保持された基板に流体を供給する工程と、
    アーム洗浄部により、前記ノズル支持アームが退避位置にあるときに当該ノズル支持アームの洗浄を行う工程と、
    を備えたことを特徴とする液処理方法。
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