CN102610488B - 液处理装置及液处理方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种液处理装置及液处理方法，其能够防止由附着在用于支承喷嘴的喷嘴支承臂上的污垢污染处理室内的基板。液处理装置(10)包括：处理室(20)，其在内部设有用于保持基板(W)的基板保持部(21)和配设在该基板保持部(21)的周围的杯(40)；喷嘴(82a)，其用于向保持在基板保持部(21)的基板W供给流体；喷嘴支承臂，其用于支承喷嘴(82a)。在液处理装置(10)中设有用于对喷嘴支承臂(82)进行清洗的臂清洗部(88)。

Description

液处理装置及液处理方法
技术领域
本发明涉及通过一边使基板以保持为水平状态的状态旋转、一边向该基板供给处理液来对基板进行清洗处理、蚀刻处理、镀处理、显影处理等液处理的液处理装置及液处理方法。
背景技术
以往，作为通过一边使半导体晶圆等基板(以下也称作晶圆)以保持为水平状态的状态旋转、一边向该基板的表面、背面供给处理液来对基板进行清洗处理、蚀刻处理、镀处理、显影处理等液处理的液处理装置，公知有各种类型的装置(例如参照专利文献1等)。在专利文献1中公开有一种利用旋转卡盘将基板保持为水平地使基板旋转并向由旋转卡盘保持、进行旋转的基板的表面供给处理液这样的、逐张处理基板的单片式的液处理装置。另外，对于该单片式的液处理装置公知有这样的技术：在处理室的上方设置FFU(风机过滤单元)，自该FFU以下降流(downflow)方式将N2气(氮气)、清洁空气等气体输送到处理室内。
使用图14及图15对在处理室的上方设有FFU的液处理装置的结构进行说明。图14是表示以往的液处理装置的概略结构的侧视图，图15是图14所示的以往的液处理装置的俯视图。如图14及图15所示，以往的液处理装置200包括用于收容晶圆W并对该被收容的晶圆W进行液处理的处理室(腔室)210。如图14及图15所示，在处理室210内设有用于保持晶圆W并使其旋转的保持部220，在该保持部220的周围配设有杯230。另外，在以往的液处理装置200中，在处理室210内设有用于从杯230的上方向保持在保持部220上的晶圆W供给处理液的喷嘴240、及用于支承该喷嘴240的臂241。另外，在臂241上设有沿着大致铅垂方向延伸的臂支承部242，利用该臂支承部242支承臂241。而且，臂支承部242利用未图示的驱动机构向正反两方向旋转驱动。由此，臂241能够以臂支承部242为中心地向正反两方向旋转，该臂241在向利用保持部220保持的晶圆W供给处理液的进入位置(参照图15中的实线)与自杯230退避的退避位置(参照图15中的双点划线)之间以臂支承部242为中心地旋转移动(参照图15中的箭头)。
另外，如图14所示，在处理室210的上方设有FFU(风机过滤单元)250，始终自该FFU250以下降流方式将N2气(氮气)、清洁空气等气体输送到处理室210内。另外，在处理室210的底部设有排气部260，利用该排气部260对处理室210内的气氛气体进行排气。这样，自FFU250以下降流方式向处理室210内输送清洁空气等气体，并利用排气部260排出该气体，从而对处理室210内的气氛气体进行更换。
专利文献1：日本特开2009-94525号公报
在图14及图15所示的以往的液处理装置200中，用于支承喷嘴240的臂241、用于支承该臂241的臂支承部242被设于处理室210内。在此，在图14及图15所示的以往的液处理装置200中，附着在臂241上的污垢有可能落下并附着于处理室210内的晶圆W。另外，在处理室210内对晶圆W进行液处理时，若药液等飞散而附着于臂241，则该药液会残留在臂241上，在之后的晶圆W处理中有可能产生由该残留的药液的气氛气体导致晶圆W被污染等的不良影响。
发明内容
本发明即是考虑到这一点而做成的，其目的在于提供能够防止由附着在用于支承喷嘴的喷嘴支承臂上的污垢污染处理室内的基板的液处理装置及液处理方法。
本发明的液处理装置的特征在于，包括：处理室，其在内部设有用于保持基板的基板保持部和配设在该基板保持部的周围的杯；喷嘴，其用于向保持在上述基板保持部的基板供给流体；喷嘴支承臂，其用于支承上述喷嘴；臂清洗部，其用于对上述喷嘴支承臂进行清洗。
采用该液处理装置，由于设有用于对喷嘴支承臂进行清洗的臂清洗部，因此，能够通过由臂清洗部清洗喷嘴支承臂来防止由附着在喷嘴支承臂上的污垢污染处理室内的基板。
在本发明的液处理装置中，也可以是上述臂清洗部在上述喷嘴支承臂移动时对该喷嘴支承臂进行清洗。或者，也可以是上述臂清洗部在上述喷嘴支承臂处于退避位置时对该喷嘴支承臂进行清洗。
此时，也可以是上述臂清洗部具有用于收容清洗液的收容部分，在上述臂清洗部中，通过一边使上述喷嘴支承臂的一部分接触于被收容在上述收容部分的清洗液、一边使该喷嘴支承臂移动，来对上述喷嘴支承臂进行清洗。
另外，在上述臂清洗部中，也可以在上述喷嘴支承臂的移动方向上的比上述收容部分接近上述处理室的前方位置和比上述收容部分远离上述处理室的后方位置中的至少任意一个位置设有吸引机构。
也可以是上述臂清洗部在上述喷嘴支承臂的移动方向上的比上述收容部分远离上述处理室的后方位置具有用于向上述喷嘴支承臂喷射干燥用气体的干燥部件。
另外，也可以是上述喷嘴支承臂在其内部具有用于向上述喷嘴输送流体的配管，在上述臂清洗部中，在上述喷嘴支承臂的移动方向上的比上述收容部分接近上述处理室的前方位置和比上述收容部分远离上述处理室的后方位置中的至少任意一个位置设有用于排出残留在上述喷嘴支承臂内的上述配管中的液体的排液部分，移动上述喷嘴支承臂而使上述喷嘴位于上述排液部分的正上方，从而将残留在上述喷嘴支承臂内的上述配管中的液体从上述喷嘴输送到上述排液部分。
在本发明的液处理装置中，也可以还包括与上述处理室相邻地设置的、用于供自该处理室退避的上述喷嘴支承臂待机的臂待机部。
此时，也可以是上述臂清洗部以位置固定的方式设置在上述处理室中的上述杯与上述臂待机部之间的区域或者上述臂待机部。
另外，也可以是在上述处理室与上述臂待机部之间设有沿铅垂方向延伸的壁，在上述壁上设有能够供上述喷嘴支承臂通过的开口，在上述壁上安装有上述臂清洗部。
在本发明的液处理装置中，也可以是还包括圆筒状的杯外周筒，该杯外周筒在上述处理室内配设在上述杯的周围，能够在上方位置和下方位置之间升降，设有能够供上述喷嘴支承臂通过的开口，上述臂清洗部设置在上述杯外周筒的外侧。
本发明的液处理装置能够如下地构成。即，上述喷嘴支承臂设置为，能够沿其长度方向进退，能够位于使上述喷嘴处于由上述基板保持部保持的基板的上方的进入位置和自该进入位置后退的退避位置，上述臂清洗部具有清洗箱和干燥部件，上述清洗箱构成为包围位于上述退避位置的上述喷嘴支承臂的外周，在上述清洗箱中设有朝向位于上述清洗箱内的上述喷嘴支承臂喷射清洗液的至少一个清洗液喷嘴，上述干燥部件与上述清洗箱相邻，在上述喷嘴支承臂的进退方向上，设置在比上述清洗箱靠前方的位置，上述干燥部件构成为具有朝向上述喷嘴支承臂的外周面喷射干燥用气体的气体喷射孔，能够通过一边使上述喷嘴支承臂从上述退避位置朝向上述进入位置地向前方移动、一边自上述气体喷射孔向上述喷嘴支承臂喷射干燥用气体，使上述喷嘴支承臂干燥。
也可以是上述干燥部件构成为使从上述气体喷射孔喷射出的干燥用气体朝向上述清洗箱侧流动。
也可以是在上述清洗箱内设有用于朝向上述喷嘴支承臂的上部喷射清洗液的第1清洗液喷嘴、及用于朝向上述喷嘴支承臂的下部喷射清洗液的第2清洗液喷嘴。
本发明的液处理方法的特征在于，包括以下工序：利用设置在处理室的内部的基板保持部保持基板；使用于支承喷嘴的喷嘴支承臂进入到上述处理室内；利用进入到上述处理室内的喷嘴支承臂的喷嘴向由上述基板保持部保持的基板供给流体；利用臂清洗部，在上述喷嘴支承臂移动时对该喷嘴支承臂进行清洗。
本发明的另一液处理方法的特征在于，包括以下工序：利用设置在处理室的内部的基板保持部保持基板；使用于支承喷嘴的喷嘴支承臂进入到上述处理室内；利用进入到上述处理室内的喷嘴支承臂的喷嘴向由上述基板保持部保持的基板供给流体；利用臂清洗部，在上述喷嘴支承臂处于退避位置时对该喷嘴支承臂进行清洗。
采用本发明的液处理装置和液处理方法，能够防止由附着在用于支承喷嘴的喷嘴支承臂上的污垢污染处理室内的基板。
附图说明
图1是从上方看包含本发明的实施方式的液处理装置的液处理系统的俯视图。
图2是表示本发明的实施方式的液处理装置的概略结构的俯视图。
图3是表示图2所示的液处理装置的侧视图。
图4是表示图2所示的液处理装置的详细结构的纵剖视图，是表示杯外周筒处于下方位置时的状态的图。
图5是表示图2所示的液处理装置的详细结构的纵剖视图，是表示杯外周筒处于上方位置时的状态的图。
图6A的(a)是表示图4等所示的液处理装置中的设置于保持板的保持构件的结构的放大纵剖视图，图6A的(b)是表示升降销板自图6A的(a)所示的状态向下方移动后的状态的放大纵剖视图，图6A的(c)是表示升降销板自图6A的(b)所示的状态进一步向下方移动后的状态的放大纵剖视图。
图6B是表示图4等所示的液处理装置中的杯外周筒的结构的立体图。
图7是表示图2等所示的液处理装置中的处理室和6个喷嘴支承臂的立体图。
图8是图7所示的喷嘴支承臂的放大立体图。
图9是表示从图7等所示的各喷嘴支承臂的后方朝向处理室看这些喷嘴支承臂时的结构的图。
图10是表示图7等所示的喷嘴支承臂的详细结构的侧剖视图。
图11是表示臂清洗部的另一实施方式的侧剖视图和纵剖视图。
图12是表示图11所示的臂清洗部的清洗液供给喷嘴的另一例子的剖视图。
图13是表示图10所示的臂清洗部的变形例的侧剖视图。
图14是表示以往的液处理装置的概略结构的侧视图。
图15是图14所示的以往的液处理装置的俯视图。
具体实施方式
下面，参照附图说明本发明的实施方式。图1～图10是表示本实施方式的液处理装置的图。更详细地讲，图1是从上方看包含本发明的实施方式的液处理装置的液处理系统的俯视图。另外，图2是表示本发明的实施方式的液处理装置的概略结构的俯视图，图3是表示图2所示的液处理装置的概略结构的侧视图。另外，图4及图5是表示图2所示的液处理装置的详细结构的纵剖视图。另外，图6A是表示图4等所示的液处理装置中的设置于保持板的保持构件的结构的放大纵剖视图，图6B是表示图4等所示的液处理装置中的杯外周筒的结构的立体图。另外，图7～图10是表示设置在图2等所示的液处理装置中的喷嘴支承臂的结构的图。
首先，使用图1说明包含本实施方式的液处理装置的液处理系统。如图1所示，液处理系统包括用于从外部载置收容有作为被处理基板的半导体晶圆等基板W(以下也称作晶圆W)的载体的载置台101、用于取出收容在载体中的晶圆W的输送臂102、用于载置由输送臂102取出的晶圆W的架单元103、及用于接受载置在架单元103上的晶圆W并将该晶圆W输送到液处理装置10内的输送臂104。如图1所示，在液处理系统中设有多个(在图1所示的形态中是4个)液处理装置10。
接着，使用图2及图3说明本实施方式的液处理装置10的概略结构。
如图2及图3所示，本实施方式的液处理装置10包括用于收容晶圆W并对该被收容的晶圆W进行液处理的处理室(腔室)20。如图3所示，在处理室20内设有用于以水平状态保持晶圆W并使其旋转的保持部(基板保持部)21，在该保持部21的周围配设有环状的旋转杯40。另外，如图2及图3所示，在处理室20内，在旋转杯40的周围配设有圆筒状的杯外周筒50。如后所述，该杯外周筒50能够与晶圆W的处理状况相应地升降。该保持部21、旋转杯40和杯外周筒50的详细结构见后述。
另外，在液处理装置10中设有用于从被保持于保持部21的晶圆W的上方向该晶圆W供给处理液、N2气等流体的喷嘴82a、及用于支承该喷嘴82a的喷嘴支承臂82。如图2所示，在1个液处理装置10中设有多个(具体地讲，例如6个)喷嘴支承臂82，在各喷嘴支承臂82的顶端设有喷嘴82a。另外，如图3所示，在各喷嘴支承臂82上设有臂支承部84，各臂支承部84利用后述的臂驱动机构85向图3中的左右方向驱动。由此，各喷嘴支承臂82在喷嘴82a进入到处理室20内的进入位置与喷嘴82a自处理室20退避的退避位置之间沿着水平方向进行直线运动(参照图2及图3中的设于各喷嘴支承臂82的箭头)。另外，如图3所示，在各喷嘴支承臂82中设有表面处理液供给管82m，各表面处理液供给管82m连接于表面处理液供给部89。于是，自表面处理液供给部89经由各表面处理液供给管82m向各喷嘴支承臂82的喷嘴82a供给处理液、N2气等流体。
如图2及图3所示，在液处理装置10中，臂待机部80与处理室20相邻地设置。在该臂待机部80中，自处理室20退避的喷嘴支承臂82待机。另外，在臂待机部80与处理室20之间设有沿着铅垂方向延伸的壁90。该壁90具有臂清洗部88，该臂清洗部88设有能够供各喷嘴支承臂82通过的开口88p。利用该臂清洗部88对各喷嘴支承臂82进行清洗。臂清洗部88的详细结构见后述。
另外，如图3所示，在处理室20的上方设有FFU(风机过滤单元)70，自该FFU70以下降流方式向处理室20内输送N2气(氮气)、清洁空气等气体。另外，如图2及图3所示，在处理室20的底部的位于杯外周筒50的内侧的部分设有排气部54，利用该排气部54对处理室20内的气氛气体进行排气。这样，自FFU70以下降流方式向处理室20内输送清洁空气等气体，并利用该排气部54排出该气体，从而对处理室210内的气氛气体进行更换。
另外，如图2及图3所示，在处理室20的底部的位于杯外周筒50的外侧的部分设有排气部56，利用该排气部56对处理室20内的气氛气体进行排气。利用该排气部56，能够对处理室20内的杯外周筒50外侧的气氛气体进行排气。具体地讲，利用排气部56，能够抑制臂待机部80内的气氛进入到杯外周筒50内。另外，利用该排气部56，能够抑制杯外周筒50内的气氛溢出到臂待机部80中。
另外，如图2及图3所示，在臂待机部80的底部设有排气部58，利用该排气部58对臂待机部80内的气氛气体进行排气。具体地讲，能够利用排气部58抽出自用于驱动各喷嘴支承臂82的臂驱动机构85(见后述)产生的微粒。
另外，如图2所示，在液处理装置10的处理室20的出入口及液处理装置10的臂待机部80的出入口分别设有维护用的闸门(shutter)60、62。通过在处理室20和臂待机部80分别设有维护用的闸门60、62，能够单独地维护该处理室20内、臂待机部80内的设备。另外，即使是在处理室20内正在处理晶圆W的过程中，也能够通过打开闸门62来维护臂待机部80内的设备。
另外，如图2所示，在液处理装置10的侧壁设有用于利用输送臂104将晶圆W搬入到处理室20内、或者将晶圆W自处理室20搬出的开口94a，在该开口94a设有用于开闭该开口94a的闸门94。
另外，在图2所示的液处理装置10中，处理室20内的杯外周筒50的内部的区域相对于无尘室(cleanroom)成为微正压，另一方面，处理室20内的杯外周筒50的外侧的区域相对于无尘室成为微负压。因此，在处理室20内，杯外周筒50的内部的区域的气压大于杯外周筒50的外侧的区域的气压。
接着，使用图4及图5说明图2及图3所示的液处理装置10的详细结构。
如图4及图5所示，保持部21包括用于保持晶圆W的圆板形状的保持板26、及设置在保持板26的上方的圆板形状的升降销板22。在升降销板22的上表面，在周向上等间隔地设有3个用于从下方支承晶圆W的升降销23。另外，在图4及图5中仅表示了两个升降销23。另外，在升降销板22上设有活塞机构24，利用该活塞机构24使升降销板22升降。更具体地讲，在利用输送臂104(参照图1)将晶圆W载置在升降销23上、或者将晶圆W从升降销23上取下时，利用活塞机构24使升降销板22从图4等所示的位置移动到上方，使该升降销板22位于比旋转杯40靠上方的位置。另一方面，在处理室20内对晶圆W进行液处理时，利用活塞机构24使升降销板22移动到图4等所示的下方位置，使旋转杯40位于晶圆W的周围。
在保持板26上，在周向上等间隔地设有3个用于从侧方支承晶圆W的保持构件25。另外，在图4及图5中仅表示了两个保持构件25。在升降销板22从上方位置移动到图4及图5所示的下方位置时，各保持构件25支承该升降销23上的晶圆W，使该晶圆W自升降销23稍稍分开。
使用图6A进一步详细地说明升降销板22和保持板26的结构。在图6A中，图6A的(a)是表示升降销板22从上方位置向图4等所示的下方位置移动的中途的状态的图，图6A的(b)是表示升降销板22自图6A的(a)所示的状态向下方移动后的状态的图，图6A的(c)是表示升降销板22自图6A的(b)的状态进一步向下方移动，升降销板22到达图4等所示的下方位置时的状态的图。
如图6A所示，保持构件25借助轴25a轴支承在保持板26上。更详细地讲，如图6A所示，在保持板26上安装有轴承部26a，在设置于该轴承部26a的轴承孔26b中插入轴25a。轴承孔26b由沿着水平方向延伸的细长的孔构成，保持构件25的轴25a能够沿着该轴承孔26b在水平方向上移动。这样，保持构件25能够以插入在轴承部26a的轴承孔26b中的轴25a为中心地摆动。
在保持构件25的轴25a上卷挂有扭转弹簧等弹簧构件25d。该弹簧构件25d对保持构件25施加使保持构件25以轴25a为中心地向图6A中的顺时针方向旋转的力。由此，在未对保持构件25施加任何的力的情况下，保持构件25相对于保持板26成为倾斜的状态，保持构件25中的用于从侧方支承晶圆W的支承部分25b(见后述)成为远离保持板26的中心的状态。
另外，自卷挂在轴25a上的弹簧构件25d伸出有线状部分，该线状部分卡定于轴承部26a的内壁面26c，将轴25a推回向保持板26的中心。这样，利用弹簧构件25d的线状部分始终将轴25a朝向保持板26的中心(即朝向图6A中的左方)按压。因此，在利用保持构件25保持直径较小的晶圆W的情况下，如图6A所示，轴25a位于轴承孔26b中的接近保持板26的中心的位置(即图6A中的左侧位置)。另一方面，在利用保持构件25保持直径较大的晶圆W的情况下，轴25a克服弹簧构件25d的线状部分的力沿着轴承孔26b从图6A所示的位置向右方移动。另外，这里的晶圆W的直径大小是指容许尺寸误差内的晶圆W的直径大小。
另外，保持构件25具有用于从侧方支承晶圆W的支承部分25b、及相对于轴25a设置在支承部分25b的相反侧的被按压构件25c。被按压构件25c设置在升降销板22与保持板26之间，如图6A所示，在升降销板22处于下方位置或者下方位置的附近位置时，该被按压构件25c被升降销板22的下表面朝向下方按压。
如图6A所示，在升降销板22从上方位置移动到下方位置时，被按压构件25c被该升降销板22的下表面向下方按压，从而保持构件25以轴25a为中心地向图6A中的逆时针方向(图6A中的箭头方向)旋转。于是，保持构件25以轴25a为中心地旋转，从而支承部分25b朝向晶圆W地从该晶圆W的侧方移动过来。由此，升降销板22到达下方位置时，如图6A的(c)所示，利用保持构件25从侧方支承晶圆W。在此，如图6A的(c)所示，在晶圆W被保持构件25从侧方支承时，该晶圆W自升降销23的顶端向上方分开，成为自升降销23向上方浮起的状态。另外，如上所述，根据晶圆W的尺寸，也存在轴25a克服弹簧构件25d的线状部分的力沿着轴承孔26b从图6A所示的位置向右方移动的情况。因此，即使在利用保持构件25支承比较大的晶圆W的情况下，由于保持构件25能够向水平方向移动，因此，也能够不会使晶圆W变形或者破损地从侧方支承晶圆W。
另外，在升降销板22和保持板26的中心部分分别形成有通孔，以穿过上述通孔的方式设有处理液供给管28。该处理液供给管28向利用保持板26的各保持构件25保持的晶圆W的背面供给药液、纯水等处理液。另外，处理液供给管28与升降销板22连动地升降。在处理液供给管28的上端形成有以堵塞升降销板22的通孔的方式设置的头部分28a。另外，如图4等所示，在处理液供给管28上连接有处理液供给部29，利用该处理液供给部29向处理液供给管28供给处理液。
如图4及图5所示，在保持部21的周围配设有环状的旋转杯40。该旋转杯40安装在保持板26上，与保持板26一体旋转。更详细地讲，旋转杯40以从侧方包围由保持板26的各保持构件25支承的晶圆W的方式设置，在对晶圆W进行液处理时接收自该晶圆W向侧方飞散的处理液。
另外，在旋转杯40的周围从上方依次设有排液杯42、第1引导杯43、第2引导杯44和第3引导杯45。排液杯42及各引导杯43、44、45分别形成为环状。在此，排液杯42在处理室20中固定。另一方面，在各引导杯43、44、45上连结有升降作动缸(未图示)，这些引导杯43、44、45利用对应的升降作动缸互相独立地升降自如。
如图4及图5所示，在排液杯42、各引导杯43、44、45的下方分别设有第1处理液回收用容器(tank)46a、第2处理液回收用容器46b、第3处理液回收用容器46c及第4处理液回收用容器46d。并且，根据各引导杯43、44、45在上下方向上的位置，在对晶圆W进行液处理时，自该晶圆W飞散到侧方的处理液被基于该处理液的种类选择性地输送到4个处理液回收用容器46a、46b、46c、46d中的一个处理液回收用容器中。具体地讲，在所有的引导杯43、44、45全部处于上方位置时(图4及图5所示的状态)，自晶圆W飞散到侧方的处理液被输送到第4处理液回收用容器46d中。另一方面，在仅有第3引导杯45处于下方位置时，自晶圆W飞散到侧方的处理液被输送到第3处理液回收用容器46c中。另外，在第2引导杯44和第3引导杯45处于下方位置时，自晶圆W飞散到侧方的处理液被输送到第2处理液回收用容器46b中。另外，在所有的引导杯43、44、45都处于下方位置时，自晶圆W飞散到侧方的处理液被输送到第1处理液回收用容器46a中。
另外，如图4及图5所示，在第4处理液回收用容器46d的内侧设有排气部48。于是，通过使各引导杯43、44、45在上下方向上的位置为规定位置，利用排气部48对晶圆W周围的气氛气体进行排气。
另外，在本实施方式的液处理装置10中，在处理室20内，在排液杯42、各引导杯43、44、45的周围设有杯外周筒50。该杯外周筒50能够在图4所示的下方位置与图5所示的上方位置之间升降。另外，如图2及图3所示，在杯外周筒50上设有能够供喷嘴支承臂82通过的开口50m。杯外周筒50处于图5所示的上方位置时，将杯外周筒50内的区域相对于外部隔离。
使用图6B说明该杯外周筒50的详细结构。图6B是表示杯外周筒50的结构的立体图。如图6B所示，在杯外周筒50的侧面，与喷嘴支承臂82的根数相应地设有能够供喷嘴支承臂82通过的开口50m(例如在喷嘴支承臂82为6根的情况下设有6个开口50m)。另外，在杯外周筒50的上部连结有用于支承该杯外周筒50的支承构件50a，在支承构件50a上设有用于使该支承构件50a升降的驱动机构50b。于是，通过利用驱动机构50b使支承构件50a升降，支承在该支承构件50a上的杯外周筒50也会升降。
另外，如图4及图5所示，在FFU70上安装有引导构件51。如图5所示，在杯外周筒50处于上方位置时，该引导构件51以位于稍稍向内侧自该杯外周筒50隔开距离的位置的方式配置。另外，在本实施方式的液处理装置10中，如图5所示，在杯外周筒50处于上方位置时，杯外周筒50内的气压大于杯外周筒50外侧的气压。因此，在杯外周筒50处于上方位置时，利用FFU70生成的处理室20内的下降流的气体在杯外周筒50的上端附近被引导构件51从该杯外周筒50的内侧引导到外侧。
另外，如图4及图5所示，在处理室20内设有用于清洗杯外周筒50的清洗部52。该清洗部52具有用于积存纯水等清洗液的积存部分52a，如图4所示，在杯外周筒50处于下方位置时，该杯外周筒50浸入到积存于积存部分52a的清洗液中。在清洗部52中，通过将杯外周筒50浸入到积存于积存部分52a的清洗液中，对该杯外周筒50进行清洗。作为积存于积存部分52a的清洗液，例如采用室温以上的、优选为40℃以上、更优选为60℃以上的纯水等。在积存于积存部分52a的清洗液的温度较高的情况下，对于杯外周筒50的清洗效果更大。
如图4所示，在杯外周筒50处于下方位置时，该外周筒50的大部分浸入到积存于积存部分52a的清洗液中。另外，如图5所示，在杯外周筒50处于上方位置时，该外周筒50的下部也浸入到积存于积存部分52a的清洗液中。因此，在杯外周筒50处于上方位置时，在积存于积存部分52a的清洗液与杯外周筒50的下部之间进行水密封，并且，由于杯外周筒50的上部与引导构件51之间较窄，因此，能够将杯外周筒50内的区域与外部隔离。
另外，如图4及图5所示，在处理室20内，在清洗部52的内侧设有用于对处理室20内的气氛气体进行排气的排气部54，而且，在清洗部52的外侧设有用于对处理室20内的气氛气体进行排气的排气部56。通过设置该排气部54和排气部56，在杯外周筒50处于图4所示的下方位置时，能够利用该排气部54和排气部56对整个处理室20内的气氛气体进行排气。另一方面，在杯外周筒50处于图5所示的上方位置时，杯外周筒50内的区域与外部隔离，因此，能够利用排气部54对杯外周筒50内部的气氛气体进行排气，而且，能够利用排气部56对杯外周筒50外侧的气氛气体进行排气。
如上所述，在本实施方式中，在1个液处理装置10中设有多个(具体地讲例如为6个)喷嘴支承臂82，在各喷嘴支承臂82的顶端设有喷嘴82a。具体地讲，各喷嘴82a分别用于将第1药液(具体地讲例如是酸性的药液)、第2药液(具体地讲例如是碱性的药液)、纯水、N2气、IPA(异丙基乙醇)、纯水的喷雾(mist)供给到晶圆W的上表面。
下面，使用图7～图10详细说明本实施方式的喷嘴支承臂82的结构。在此，图7是表示图2等所示的液处理装置10中的处理室20和6个喷嘴支承臂82p～82u的立体图，图8是表示图7所示的各喷嘴支承臂82p～82u的放大立体图。另外，图9是表示从图7等所示的各喷嘴支承臂82p～82u的后方朝向处理室20看这些喷嘴支承臂82p～82u时的结构的图，图10是表示图7等所示的各喷嘴支承臂82p～82u的详细结构的侧剖视图。
如图7所示，6个喷嘴支承臂82例如由纯水供给用臂82p、第1药液供给用臂82q、N2气供给用臂82r、第2药液供给用臂82s、纯水的喷雾供给用臂82t和IPA供给用臂82u构成。如上所述，在这些喷嘴支承臂82p～82u的顶端设有喷嘴82a。这样，自设置在纯水供给用臂82p的顶端的喷嘴82a向晶圆W的上表面供给纯水，自设置在第1药液供给用臂82q的顶端的喷嘴82a向晶圆W的上表面供给第1药液(具体地讲例如是酸性的药液)，自设置在N2气供给用臂82r的顶端的喷嘴82a向晶圆的上表面供给N2气。另外，自设置在第2药液供给用臂82s的顶端的喷嘴82a向晶圆W的上表面供给第2药液(具体地讲例如是碱性的药液)，自设置在纯水的喷雾供给用臂82t的顶端的喷嘴82a向晶圆W的上表面供给纯水的喷雾，自设置在IPA供给用臂82u的顶端的喷嘴82a向晶圆W的上表面供给IPA。
如图8及图10所示，在各喷嘴支承臂82上设有用于使该喷嘴支承臂82直线运动的臂驱动机构85。臂驱动机构85具有安装于基底构件85d的向正反两方向旋转的电动机85a、与电动机85a相对地安装于基底构件85d的皮带轮85b、卷挂在电动机85a和皮带轮85b上的循环带85c、及安装于循环带85c的带安装构件85e。在此，带安装构件85e安装在用于支承喷嘴支承臂82的臂支承部84的下部，带安装构件85e和臂支承部84一体移动。于是，在该臂驱动机构85中，通过电动机85a旋转，循环带85c向图10中的右方或者左方移动，安装于该循环带85c的带安装构件85e向图10中的右方或者左方移动，从而臂支承部84向图10中的左右方向进行直线运动。这样，支承于臂支承部84的喷嘴支承臂82也向图10中的左右方向进行直线运动。
在本实施方式的液处理装置10中，臂驱动机构85设置在处理室20的外部，从而能够抑制自该臂驱动机构85产生的灰尘(日语：ゴミ)等进入到处理室20内。另外，能够抑制处理室20内的气氛到达臂驱动机构85。
另外，如图9所示，上述6个臂82p～82u中的、纯水供给用臂82p、N2气供给用臂82r和纯水的喷雾供给用臂82t设置在相同的高度水平。更具体地讲，在图9中，这些臂82p、82r、82t设置在由图9中的双点划线A围成的区域的高度水平。另一方面，上述6个臂82p～82u中的、第1药液供给用臂82q、第2药液供给用臂82s和IPA供给用臂82u也设置在相同的高度水平。更具体地讲，在图9中，这些臂82q、82s、82u设置在由图9中的双点划线B围成的区域的高度水平。于是，如图9所示，纯水供给用臂82p、N2气供给用臂82r和纯水的喷雾供给用臂82t分别设置在比第1药液供给用臂82q、第2药液供给用臂82s和IPA供给用臂82u高的位置。
另外，在本实施方式的液处理装置10中，在高度水平互不相同的多个臂82p～82u同时进入到处理室20内时，臂相互间不会冲突或者干涉。
在本实施方式的液处理装置10中，在对晶圆W进行干燥处理时，在处理室20内向由保持部21保持的晶圆W供给IPA之后，向该晶圆W中的供给有IPA的部位供给N2气。在这种情况下，N2气供给用臂82r和IPA供给用臂82u同时进入到处理室20内。在此，如上所述，N2气供给用臂82r和IPA供给用臂82u的高度水平互不相同。更详细地讲，相对于N2气供给用臂82r设置在由图9中的双点划线A围成的区域的高度水平，IPA供给用臂82u设置在由图9中的双点划线B围成的区域的高度水平。
并且，在处理室20内使该IPA供给用臂82u和N2气供给用臂82r移动，以相对于晶圆W上的自设置于IPA供给用臂82u的喷嘴82a喷射IPA的区域，晶圆W上的自设置于N2气供给用臂82r的喷嘴82a喷射N2的区域追随其后。此时，由于N2气供给用臂82r和IPA供给用臂82u的高度水平互不相同，因此，上述臂82r、82u不会互相干涉。这样，在自设置于进入到处理室20内的IPA供给用臂82u的喷嘴82a向晶圆W供给了IPA之后，能够自设置于进入到处理室20内的N2气供给用臂82r的喷嘴82a向该晶圆W中的供给有IPA的部位供给N2气。
另外，作为另一例子，在利用酸性、碱性的药液对晶圆W进行处理时，在处理室20内向由保持部21保持的晶圆W供给药液之后，不中断地继续向晶圆W供给纯水来进行冲洗处理。在这种情况下，第1药液供给用臂82q(或者第2药液供给用臂82s)和纯水供给用臂82p同时进入到处理室20内。在此，如上所述，纯水供给用臂82p和第1药液供给用臂82q(或者第2药液供给用臂82s)的高度水平互不相同。更详细地讲，相对于纯水供给用臂82p设置在由图9中的双点划线A围成的区域的高度水平，第1药液供给用臂82q(或者第2药液供给用臂82s)设置在由图9中的双点划线B围成的区域的高度水平。
并且，在处理室20内使该纯水供给用臂82p和第1药液供给用臂82q(或者第2药液供给用臂82s)移动，以在向由保持部21保持的晶圆W供给了药液之后不中断地继续向该晶圆W供给纯水。此时，由于纯水供给用臂82p和第1药液供给用臂82q(或者第2药液供给用臂82s)的高度水平互不相同，因此，这些臂82p、82q(或者臂82p、82s)不会互相干涉。这样，在自设置于进入到处理室20内的第1药液供给用臂82q(或者第2药液供给用臂82s)的喷嘴82a向晶圆W供给了药液之后，能够自设置于进入到处理室20内的纯水供给用臂82p的喷嘴82a不中断地继续供给纯水来来进行冲洗处理。
如图10所示，各臂82p～82u是双重配管构造。更具体地讲，各臂82p～82u由内部配管82b和外部配管82c构成。内部配管82b连通于喷嘴82a，自该内部配管82b向喷嘴82a输送流体。内部配管82b例如由氟系树脂构成。另外，内部配管82b被外部配管82c覆盖，该外部配管82c例如由在不锈钢管上涂敷氟系树脂而成的管件构成。
另外，如图8及图10等所示，在各臂82p～82u的后端侧的这些臂82p～82u外侧分别设有连通于各内部配管82b的螺旋形状配管83p～83u。各螺旋形状配管83p～83u由挠性材料形成。具体地讲，各螺旋形状配管83p～83u例如由氟系树脂等的管弯曲成螺旋形状而成的管件构成。如图7、图8及图10所示，各螺旋形状配管83p～83u构成为，在对应的臂82p～82u处于退避位置时，在与这些臂82p～82u所延伸的方向正交的平面(即沿着铅垂方向延伸的平面)上成为螺旋形状。于是，通过向各螺旋形状配管83p～83u中输送药液等流体，经由设置在各臂82p～82u内部的内部配管82b自喷嘴82a向下方喷射流体。另外，由于各螺旋形状配管83p～83u由挠性材料构成，因此，在对应的臂82p～82u进入到处理室20内的情况下，螺旋形状配管83p～83u自图8所示的螺旋形状变形，成为圆锥螺旋形状(顶端逐渐变细的螺旋形状)。
另外，在本实施方式的液处理装置10中，各臂82p～82u能够以沿着该臂82p～82u的移动方向的长度方向轴线为中心地旋转。具体地讲，如图8所示，在各臂82p～82u上设有旋转机构86，利用该旋转机构86，各臂82p～82u向图8中的箭头方向旋转。通过使各臂82p～82u旋转，能够将喷嘴82a的朝向从图10所示的朝下变为其他方向。另外，由于各螺旋形状配管83p～83u成为螺旋形状，并由挠性材料形成，因此，即使在利用旋转机构86使各臂82p～82u旋转的情况下，对应的螺旋形状配管83p～83u也会与臂82p～82u的旋转相配合地顺畅地变形，臂82p～82u的旋转不会被各螺旋形状配管83p～83u所妨碍。
在利用喷嘴82a向保持于保持部21的晶圆W供给流体时，旋转机构86选择性地使支承该喷嘴82a的臂82p～82u以长度方向轴线为中心地旋转。具体地讲，在喷嘴82a接近保持于保持部21的晶圆W的周缘部时，臂82p～82u旋转使该喷嘴82a的朝向倾斜朝下地倾斜。由此，在保持于保持部21的晶圆W的周缘部，通过自喷嘴82a向斜下方喷射流体，能够抑制从喷嘴82a供给到晶圆W的流体、具体地讲是药液等流体在晶圆W的周缘部上的液体飞溅。这样，旋转机构86在喷嘴82a位于晶圆W的中心的情况和喷嘴82a位于晶圆W的周缘部的情况下，能够改变喷嘴82a的朝向。
另外，在各臂82p～82u在进入位置与退避位置之间移动时，旋转机构86使臂82p～82u以长度方向轴线为中心地旋转，以使喷嘴82a是除朝下之外的朝向、具体地讲例如朝上。由此，在使臂82p～82u移动时，能够防止药液等液体自喷嘴82a滴落。
另外，如图7及图10所示，在各臂82p～82u上，针对每个臂82p～82u以位置固定的方式设有用于清洗这些臂82p～82u的臂清洗部88。各臂清洗部88分别在对应的臂82p～82u移动时清洗该臂82p～82u。由该各臂清洗部88清洗各臂82p～82u的时机能够自由地设定，具体地讲，对各臂82p～82u的清洗例如每次处理都进行，或者一天一次或一个月一次地进行。
使用图10说明臂清洗部88的详细结构。如图10所示，在臂清洗部88中，以向水平方向(图10中的左右方向)延伸的方式设有供喷嘴支承臂82(82p～82u)通过的通孔。该通孔的截面稍稍大于喷嘴支承臂82的截面。另外，在该通孔中设有用于收容清洗液的收容部分88a。另外，在收容部分88a上连接有清洗液供给管88b，自清洗液供给管88b向收容部分88a中供给清洗液。向收容部分88a供给清洗液时，在该收容部分88a内，在喷嘴支承臂82的外周面上覆盖有液膜。于是，在臂清洗部88中，一边使喷嘴支承臂82(82p～82u)的一部分接触于收容在收容部分88a中的清洗液、一边使该喷嘴支承臂82移动，从而对喷嘴支承臂82进行清洗。
另外，在臂清洗部88中，在喷嘴支承臂82的移动方向(图10中的左右方向)上的与收容部分88a相比接近处理室20的前方位置及与收容部分88a相比远离处理室20的后方位置分别设有吸引机构88c、88d。该吸引机构88c、88d用于吸引在收容于收容部分88a中的清洗液自该收容部分88a泄漏到外部时所泄漏的那部分的清洗液并将其排出。另外，吸引机构未必一定在收容部分88a的在喷嘴支承臂82的移动方向上的前方位置及后方位置都设置，取而代之，也可以仅在收容部分88a的在喷嘴支承臂82的移动方向上的前方位置或者后方位置中的任一个位置上设有吸引机构。
另外，在喷嘴支承臂82被清洗之后，通过利用吸引机构88c、88d吸引附着在该喷嘴支承臂82上的液滴，来对喷嘴支承臂82进行干燥。
另外，在臂清洗部88中，在收容部分88a的在喷嘴支承臂82的移动方向上的后方位置设有用于将残留在喷嘴支承臂82的内部配管82b中的药液等液体排出的排液部分88e。另外，在排液部分88e上连接有排液管88f，利用排液管88f排出被输送到排液部分88e中的液体。于是，移动喷嘴支承臂82而使喷嘴82a位于排液部分88e的正上方，从而自喷嘴82a向排液部分88e排出残留在喷嘴支承臂82的内部配管82b中的药液等液体。通过设置该排液部分88e，在对晶圆W的液处理结束之后，即使在喷嘴支承臂82的内部配管82b中残留液体的情况下，在使用设置于该喷嘴支承臂82的喷嘴82a进行接下来的液处理时，也能够预先将残留在内部配管82b中的液体自该内部配管82b排出。特别是，在自喷嘴82a向晶圆W供给高温的药液等时，残留在喷嘴支承臂82的内部配管82b中的液体变凉的情况较多，因此，期望利用排液部分88e预先将该残留的变凉的液体自内部配管82b排出。
另外，排液部分88e也可以不设置在收容部分88a的在喷嘴支承臂82的移动方向上的后方位置，而设置在收容部分88a的前方位置。在这种情况下，也通过移动喷嘴支承臂82而使喷嘴82a位于排液部分88e的正上方，从而自喷嘴82a排出药液，由此自喷嘴82a将残留在喷嘴支承臂82的内部配管82b中的药液等液体输送到排液部分88e。
如图7及图10所示，与各臂82p～82u相对应的各臂清洗部88安装在被设置于处理室20与臂待机部80之间的壁90的外侧。因此，各臂清洗部88设置在杯外周筒50的外侧。另外，各臂清洗部88也可以替代安装在壁90的外侧，而安装在壁90的内侧。在这种情况下，各臂清洗部88位于旋转杯40与臂待机部80之间的区域。
在本实施方式的液处理装置10中，臂清洗部88既可以清洗整个喷嘴支承臂82，或者也可以仅清洗喷嘴支承臂82的一部分。另外，臂清洗部88清洗喷嘴支承臂82的整周，但并不限定于此。
另外，在本实施方式的液处理装置10中，如图2、图10所示，各臂82p～82u在臂待机部80处待机时，各臂82p～82u堵塞被设置在处理室20与臂待机部80之间的壁90的臂清洗部88的开口88p。由此，各臂82p～82u起到堵塞壁90的臂清洗部88的开口88p的盖的功能，能够将处理室20内的区域和臂待机部80的区域隔离。
另外，各臂82p～82u也能够堵塞图5所示的处于上方位置的杯外周筒50的开口50m。由此，将杯外周筒50内的区域和臂待机部80的区域隔离。
接着，对由该结构构成的液处理装置10的动作进行说明。
首先，使保持部21中的升降销板22和处理液供给管28从图4所示的位置移动到上方，使设置在处理室20的开口94a的闸门94自该开口94a退避而打开开口94a。然后，利用输送臂104将晶圆W从液处理装置10的外部经由开口94a输送到处理室20内，将该晶圆W载置在升降销板22的升降销23上，之后，输送臂104自处理室20退避。此时，杯外周筒50位于图4所示的下方位置。另外，各喷嘴支承臂82位于自处理室20退避的退避位置。即，各喷嘴支承臂82在臂待机部80处待机。另外，通过始终自FFU70以下降流方式向处理室20内输送清洁空气等气体，并利用排气部54排出该气体，来对处理室20内的气氛气体进行更换。
接着，使升降销板22和处理液供给管28向下方移动，使该升降销板22和处理液供给管28位于图4所示的下方位置。此时，设置在保持板26上的各保持构件25支承升降销23上的晶圆W，使该晶圆W自升降销23稍稍分开。
之后或者在升降销板22的下降过程中，利用设置在杯外周筒50上的驱动机构50b使该杯外周筒50向上方移动，使杯外周筒50位于图5所示的上方位置。然后，在杯外周筒50移动到上方位置之后，在臂待机部80处待机的6个喷嘴支承臂82中的一个或者多个喷嘴支承臂82经由壁90的臂清洗部88的开口88p和杯外周筒50的开口50m进入到处理室20内(参照图5中的双点划线)。此时，利用臂驱动机构85使喷嘴支承臂82进行直线运动。
接着，使保持部21中的保持板26和升降销板22旋转。由此，利用保持板26的各保持构件25支承的晶圆W也旋转。
之后，首先，利用酸性的药液对由保持板26的各保持构件25支承的晶圆W进行处理，之后，接着进行冲洗处理。具体地讲，在图5所示的状态下，在臂待机部80处待机的6个喷嘴支承臂82中的、第1药液供给用臂82q和纯水供给用臂82p分别经由壁90的臂清洗部88的开口88p和杯外周筒50的开口50m同时进入到处理室20内。此时，由于第1药液供给用臂82q和纯水供给用臂82p的高度水平互不相同，因此，这些臂82q、82p不会互相干涉。
然后，在晶圆W旋转的状态下，自进入到处理室20内的第1药液供给用臂82q的喷嘴82a向晶圆W的上表面供给酸性药液。另外，此时，也可以自处理液供给管28朝向晶圆W的下表面(背面)供给酸性药液。这样，在晶圆W的至少上表面供给有酸性药液，对晶圆W进行药液处理。被供给到晶圆W的酸性药液被输送到4个处理液回收用容器46a、46b、46c、46d中的、例如第1处理液回收用容器46a而被回收。另外，在进行上述的药液处理时，纯水供给用臂82p以该纯水供给用臂82p的喷嘴82a位于自第1药液供给用臂82q的喷嘴82a的酸性药液喷出位置稍稍后退的位置的方式在处理室20内待机。在此，在纯水供给用臂82p待机时，只要使纯水供给用臂82p旋转成喷嘴82a是除朝下之外的朝向、具体地讲例如朝上，就能够在药液处理过程中防止自纯水供给用臂82p的喷嘴82a出现滴落。
然后，在向由保持板26的各保持构件25支承的晶圆W供给了酸性药液之后，不中断地继续向该晶圆W供给纯水。具体地讲，在自设置于进入到处理室20内的第1药液供给用臂82q的喷嘴82a向晶圆W供给了酸性药液之后，自设置于进入到处理室20内的纯水供给用臂82p的喷嘴82a不中断地继续向晶圆W供给纯水。被供给到晶圆W的纯水被输送到4个处理液回收用容器46a、46b、46c、46d中的、例如第3处理液回收用容器46c而被回收。这样，在杯外周筒50内利用酸性药液对晶圆W进行处理，之后继续进行冲洗处理。此时，在处理室20内纯水供给用臂82p和第1药液供给用臂82q的高度水平互不相同，因此，这些臂82p、82q不会互相干涉。然后，在利用酸性药液对晶圆W进行的处理及冲洗处理结束后，进入到处理室20中的第1药液供给用臂82q自该处理室20退避而在臂待机部80处待机。另一方面，纯水供给用臂82p留在处理室20内。另外，在进行冲洗处理的期间里，第2药液供给用臂82s经由壁90的臂清洗部88的开口88p和杯外周筒50的开口50m进入到处理室20内。更详细地讲，在进行上述的冲洗处理时，第2药液供给用臂82s以该第2药液供给用臂82s的喷嘴82a位于自纯水供给用臂82p的喷嘴82a的纯水喷出位置稍稍后退的位置的方式在处理室20内待机。
然后，利用碱性药液对由保持板26的各保持构件25支承的晶圆W进行处理，之后继续进行冲洗处理。具体地讲，利用进入到处理室20内的第2药液供给用臂82s和纯水供给用臂82p对晶圆W进行采用碱性药液的处理及冲洗处理。此时，由于第2药液供给用臂82s和纯水供给用臂82p的高度水平互不相同，因此，这些臂82s、82p不会互相干涉。
具体地说明，在晶圆W旋转的状态下，自进入到处理室20内的第2药液供给用臂82s的喷嘴82a向晶圆W的上表面供给碱性药液。另外，此时，也可以自处理液供给管28朝向晶圆W的下表面(背面)供给碱性药液。这样，在晶圆W的至少上表面供给有碱性药液，对晶圆W进行药液处理。被供给到晶圆W的碱性药液被输送到4个处理液回收用容器46a、46b、46c、46d中的、例如第2处理液回收用容器46b而被回收。另外，在进行上述的药液处理时，纯水供给用臂82p以该纯水供给用臂82p的喷嘴82a位于自第2药液供给用臂82s的喷嘴82a的碱性药液喷出位置稍稍后退的位置的方式在处理室20内待机。
然后，在向由保持板26的各保持构件25支承的晶圆W供给了碱性药液之后，不中断地继续向该晶圆W供给纯水。具体地讲，在自设置于进入到处理室20内的第2药液供给用臂82s的喷嘴82a向晶圆W供给了碱性药液之后，自设置于进入到处理室20内的纯水供给用臂82p的喷嘴82a不中断地继续向晶圆W供给纯水。被供给到晶圆W的纯水被输送到4个处理液回收用容器46a、46b、46c、46d中的、例如第3处理液回收用容器46c而被回收。这样，在杯外周筒50内利用碱性药液对晶圆W进行处理，之后，接着进行冲洗处理。然后，在利用碱性药液对晶圆W进行的处理及冲洗处理结束时，进入到处理室20中的第2药液供给用臂82s和纯水供给用臂82p自该处理室20退避而在臂待机部80处待机。另外，在进行上述冲洗处理的期间里，IPA供给用臂82u经由壁90的臂清洗部88的开口88p和杯外周筒50的开口50m进入到处理室20内。更详细地讲，在进行上述的冲洗处理时，IPA供给用臂82u以该IPA供给用臂82u的喷嘴82a位于自纯水供给用臂82p的喷嘴82a的纯水喷出位置稍稍后退的位置的方式在处理室20内待机。
之后，利用IPA对由保持板26的各保持构件25支承的晶圆W进行干燥处理。具体地讲，在臂待机部80处待机的6个喷嘴支承臂82中的、N2气供给用臂82r经由壁90的臂清洗部88的开口88p和杯外周筒50的开口50m进入到处理室20内。这样，成为N2气供给用臂82r和IPA供给用臂82u分别进入到处理室20内的状态。此时，由于N2气供给用臂82r和IPA供给用臂82u的高度水平互不相同，因此，这些臂82r、82u不会互相干涉。
然后，在晶圆W旋转的状态下，自设置于进入到处理室20内的IPA供给用臂82u的喷嘴82a向晶圆W供给了IPA之后，自设置于进入到处理室20内的N2气供给用臂82r的喷嘴82a向该晶圆W中的供给有IPA的部位供给N2气。具体地讲，在处理室20内，利用设置于IPA供给用臂82u的喷嘴82a向晶圆W的中心供给IPA。之后，以下述方式使该IPA供给用臂82u和N2气供给用臂82r在晶圆W上移动，即：IPA供给用臂82u从晶圆W的中心向周缘部移动，相对于晶圆W上的供给了IPA之后的区域，晶圆W上的利用设置于N2气供给用臂82r的喷嘴82a喷射气体的区域追随其后。这样，在晶圆W的表面上，立即向供给有IPA的部位供给N2气，能够适当地对晶圆W进行干燥处理。被供给到晶圆W的IPA被输送到4个处理液回收用容器46a、46b、46c、46d中的、例如第4处理液回收用容器46d而被回收。另外，在对晶圆W的干燥处理结束时，进入到处理室20中的IPA供给用臂82u和N2气供给用臂82r自该处理室20退避而在臂待机部80处待机。
在对晶圆的干燥处理结束时，利用设置在杯外周筒50上的驱动机构50b使该杯外周筒50向下方移动，使杯外周筒50位于图4所示的下方位置。
之后，使保持部21中的升降销板22和处理液供给管28从图4所示的位置移动到上方。此时，将由保持板26的保持构件25支承的晶圆W交接到升降销板22的升降销23上。接着，通过使设置在处理室20的开口94a的闸门94自该开口94a退避来打开开口94a，使输送臂104从液处理装置10的外部经由开口94a进入到处理室20内，利用该输送臂104取出升降销板22的升降销23上的晶圆W。将由输送臂104取出的晶圆W输送到液处理装置10的外部。这样，一连串的对晶圆W的液处理完成。
另外，也可以在喷嘴支承臂82自处理室20移动到臂待机部80中的退避位置时，利用臂清洗部88对各喷嘴支承臂82进行清洗。各喷嘴支承臂82的清洗既可以在对晶圆W的各处理之后进行，或者也可以定期进行。
在此，采用本实施方式的液处理装置10，臂清洗部88以位置固定的方式设置于臂待机部80，该臂清洗部88在喷嘴支承臂82移动时能够对该喷嘴支承臂82进行清洗。这样，通过由臂清洗部88清洗喷嘴支承臂82，喷嘴支承臂82能够以未附着污垢的状态进入到处理室20内，能够防止由附着于喷嘴支承臂82的污垢污染处理室20内的晶圆W。并且，通过将臂清洗部88设置在处理室20的外部，能够防止处理室20内的气流紊乱。
另外，在本实施方式的液处理装置10中，臂清洗部88具有用于收容清洗液的收容部分88a，在臂清洗部88中，一边使喷嘴支承臂82的一部分接触于收容在收容部分88a中的清洗液、一边使喷嘴支承臂82移动，从而对喷嘴支承臂82进行清洗。在这种情况下，不使臂清洗部88移动就能够利用收容在位置固定的收容部分88a中的清洗液对喷嘴支承臂82进行清洗，因此，能够将用于清洗臂的机构简化。
另外，在本实施方式的液处理装置10中，喷嘴支承臂82具有用于向喷嘴82a输送流体的内部配管82b，在臂清洗部88中，在收容部分88a的在喷嘴支承臂82的移动方向上的后方位置设有用于将残留在喷嘴支承臂82的内部配管82b中的液体排出的排液部分88e。于是，通过使喷嘴支承臂82移动，以使喷嘴82a位于排液部分88e的正上方，从而将从喷嘴支承臂82的内部配管82b排出来的液体自喷嘴82a输送到排液部分88e。由此，即使在对晶圆W的液处理结束之后在喷嘴支承臂82的内部配管82b中残留有无用的液体的情况下，在使用设置于该喷嘴支承臂82的喷嘴82a进行下一次液处理时，也能够预先将残留在内部配管82b中的液体自内部配管82b排出。特别是，在自喷嘴82a向晶圆W供给高温的药液等时，残留在喷嘴支承臂82的内部配管82b中的液体变凉的情况较多，因此，期望利用排液部分88e预先将该残留的变凉的液体自内部配管82b排出。
另外，在本实施方式的液处理装置10中，臂清洗部88设置在杯外周筒50的外侧。由此，能够防止由臂清洗部88导致杯外周筒50内的气流紊乱。
另外，本实施方式的液处理装置并不限定于上述形态，能够施加各种变更。例如不必利用进入到处理室20内的喷嘴支承臂82的喷嘴82a和处理液供给管28向晶圆W的上表面和下表面这两者都供给处理液，也可以利用喷嘴支承臂82的喷嘴82a仅向晶圆W的上表面供给处理液。
另外，也可以在一根喷嘴支承臂82上设置多个喷嘴82a。
接着，参照图11对能够替代上述臂清洗部88(参照图10)使用的臂清洗部120进行说明。臂清洗部120特别适合严重污染的环境，例如在自进行了SPM处理等药液处理的处理室退避之后清洗被污染的喷嘴支承臂82的情况，该SPM处理是为了剥离抗蚀层(resist)而向晶圆供给例如将硫酸和过氧化氢水混合得到的高温的SPM(SulfuricAcidHydrogenPeroxideMixture：硫酸过氧化氢混合物)液的药液处理。但是，被臂清洗部120清洗的喷嘴支承臂82并不限定于具有用于喷出SPM液的喷嘴82a的喷嘴支承臂82，也可以是其他的喷嘴支承臂82、例如具有用于在刚刚进行了SPM处理后的SPM气氛中喷出冲洗液的喷嘴82a的喷嘴支承臂82。图11的(a)是用臂清洗部120替换图10左侧所示的臂清洗部88的情况的图，是将臂清洗部120附近放大表示的轴向剖视图，图11的(b)是沿着图11的(a)中的B-B的剖视图。在图11的(a)中仅表示了喷嘴支承臂82的顶端部，喷嘴支承臂82及其所附带的构成部件(臂支承部84、臂驱动机构85、螺旋形状配管83p～83u)的结构可以与图10所示的部件相同。在图11中，对与图10所示的构成部件相同的部件标注相同的附图标记，省略重复说明。
臂清洗部120具有清洗箱(box)130和干燥部件(block)140。清洗箱130具有用于在其内部形成清洗空间的顶板132a、左右的侧板132b和底板132c。在清洗箱130的两侧板132b的内表面的上部设有第1清洗液喷嘴133A(133)，并在底板132c的上表面设有第2清洗液喷嘴133B(133)。另外，第1清洗液喷嘴133A、第2清洗液喷嘴133B具有相同的结构，在不需要区分两者的情况下，以下也简记作“清洗液喷嘴133”。在各清洗液喷嘴133的内部，清洗液供给通路133a沿着清洗箱130的长度方向(与喷嘴支承臂82的长度方向相同)延伸。在各清洗液喷嘴133的朝向喷嘴支承臂82的面上设有沿着清洗箱130的长度方向隔有间隔地配置的多个清洗液喷出口(喷嘴孔)134。清洗液喷出口134与清洗液供给通路133a相连通。自清洗液供给源135向各清洗液喷嘴133(133A、133B)的清洗液供给通路133a中供给DIW(纯水)来作为喷嘴支承臂清洗用的清洗液，由此，如箭头134a、134b所示地自多个清洗液喷出口134朝向喷嘴支承臂82喷射清洗液。自第1清洗液喷嘴133A朝向喷嘴支承臂82的上部喷射清洗液，自第2清洗液喷嘴133B朝向喷嘴支承臂82的下部喷射清洗液。
在底板132c中形成有一个或者多个排液孔131，利用自清洗液喷出口134喷射来的清洗液将自喷嘴支承臂82冲洗下来的药液和反应生成物经由排液孔131从清洗空间(由顶板132a、侧板132b和底板132c围成的空间)排出。排液孔131经由适当的排液管连接于工厂废液系统。为了顺畅地向排液孔131排出清洗液，优选在底板132c上设置随着接近排液孔131而变低的倾斜。在清洗箱130的距杯外周筒50较远一侧的端部设有后板136。在后板136的中央部形成有能够供喷嘴支承臂82通过的尺寸的孔。利用该后板136能够防止或抑制清洗空间内的液体向后方飞散。
另外，从提高清洗效率及防止交叉污染的方面考虑，清洗箱130具有在清洗过程中能够同时将喷嘴支承臂82的整个清洗对象部分(即，在药液处理时进入到弥漫有药液的杯外周筒50内的部分及其附近)收容在清洗箱130内的程度的长度。
干燥部件140(气体喷射部分)连结于清洗箱130的顶端侧。在干燥部件140的中心形成有内径稍稍大于喷嘴支承臂82的外径的通孔。在该通孔的内表面，在圆周方向上隔有间隔地形成有用于向喷嘴支承臂82的外周面喷射干燥用气体、例如清洁空气、N2气等的多个(例如6个～12个)气体喷射口142。在干燥部件140的内部形成有圆环状的气体通路143，各气体喷射口142连通于该气体通路143。在气体通路143上连接有干燥用气体供给源144，通过自干燥用气体供给源144供给干燥用气体(例如N2气、干燥空气)，能够自气体喷射口142向喷嘴支承臂82的外周面喷射干燥用气体，使喷嘴支承臂82干燥。另外，优选喷射到喷嘴支承臂82的外周面的干燥用气体主要向清洗箱130侧流动。因此，优选如图11的(a)所示地使气体喷射口142朝向清洗箱130倾斜。或者，也优选使喷嘴支承臂82的外周面与干燥部件140的供喷嘴支承臂82穿过的通孔的内表面之间的间隔在杯外周筒50侧较窄。
对臂清洗部120的动作进行说明。喷嘴支承臂82穿过开口50m进入到杯外周筒50内，自喷嘴82a向晶圆供给SPM液规定时间，进行用于剥离抗蚀层的SPM处理。另外，也可以使分别附设有图11所示的臂清洗部120的两个喷嘴支承臂82同时进入到杯外周筒50内，自一个喷嘴支承臂82的喷嘴82a向晶圆供给硫酸，自另一个喷嘴支承臂82的喷嘴82a向晶圆供给过氧化氢水。在SPM处理中，气化或者雾化了的高温的SPM液及反应生成物(它们被称作烟雾(fume))附着在喷嘴支承臂82上。在SPM处理结束之后，喷嘴支承臂82退出到杯外周筒50的外侧，其他的喷嘴支承臂(参照图7等)进入到杯外周筒50内，对晶圆实施下一个液处理(冲洗处理、其他药液处理)。退出到杯外周筒50的外侧的喷嘴支承臂82待机直至处理下一个晶圆为止。在待机过程中，对喷嘴支承臂82实施清洗处理。
在使喷嘴支承臂82退出到杯外周筒50的外侧时，首先，自清洗液供给源135供给清洗液(DIW)，从清洗液喷出口134如箭头134a、134b所示地朝向喷嘴支承臂82的上部和下部喷射DIW，在该状态下，使喷嘴支承臂82朝向图中右侧后退，直到喷嘴支承臂82的顶端82w完全进入到清洗箱130内为止，在该位置使喷嘴支承臂82停止，充分清洗喷嘴支承臂82的整个被污染的部分。清洗液的供给量例如能够为2L/min。在清洗过程中，喷嘴支承臂82的清洗对象部分收容在清洗箱130内，因此，能够防止清洗液或者通过清洗被除去的污染物质飞散到其他的喷嘴支承臂及其驱动部而将它们污染。另外，在SPM处理之后，污染物质的蒸气从自杯外周筒50退出来的喷嘴支承臂82升腾，但通过使喷嘴支承臂82穿过在内部喷射有DIW的清洗箱130内，也能够防止由污染物质的蒸气污染臂待机部80。清洗结束，使喷嘴支承臂82再次进入到杯外周筒50内时，一边自干燥用气体供给源144供给干燥用气体而从气体喷射口142向喷嘴支承臂82的表面喷射干燥用气体，一边使喷嘴支承臂82向杯外周筒50侧移动，从而残留在喷嘴支承臂82的外周面上的清洗液被朝向清洗箱130内吹散，能够自喷嘴支承臂82的至少进入到杯外周筒50内的部分除去清洗液。另外，在清洗结束之后直到使喷嘴支承臂82再次进入到杯外周筒50内的期间里，使喷嘴支承臂82稍稍前进(至图11的(a)所示的位置)，使喷嘴支承臂82的顶端82w位于堵塞杯外周筒50的开口50m的位置，在防止杯外周筒50内的气氛进入到臂待机部80内的方面优选这样做。
臂清洗部120的结构并不限定于图11所示的结构。例如清洗液喷嘴133的位置能够适当地变更。具体地讲，例如也可以将清洗液喷嘴133设置在清洗箱130的顶板132a，自该清洗液喷嘴133向喷嘴支承臂82的上部喷射清洗液。另外，也可以在喷嘴支承臂82的斜下方(例如图11的(b)中的左右对称位置)设置两个清洗液喷嘴133，自这些清洗液喷嘴133向喷嘴支承臂82的下部喷射清洗液。
另外，在清洗过程中，也可以使用旋转机构86(参照图8)使喷嘴支承臂82适当地旋转。由此，能够进一步提高清洗的均匀性。
也可以将多个清洗液喷嘴133中的至少一个构成为图12所示的二流体喷嘴133’。下面，对二流体喷嘴133’进行说明，在图12中，对于与图11中的清洗液喷嘴133的构成要件类似的构成要件，对参照附图标记加注撇号(’)。在图12所示的二流体喷嘴133’内，与清洗液供给通路133a’平行地延伸有气体供给通路136。在清洗液喷出口134’的附近位置，气体流路138与用于连接清洗液供给通路133a’和清洗液喷出口134’的清洗液流路137相连接。在清洗液喷出口134’的跟前向在清洗液流路137中流动的清洗液(在此是DIW)中混合雾化用气体(在此是N2气)，使清洗液在雾化的状态下自清洗液喷出口134’喷射出，利用冲撞能量高效地清洗喷嘴支承臂82。另外，特别是喷嘴支承臂82的下部被严重污染，因此，二流体喷嘴133’优选设置在图11中的第2清洗液喷嘴133B的位置。
图10所示的臂清洗部88通过装入图11所示的臂清洗部120的干燥部件140，能够如图13所示地成为改变了的结构。图13所示的臂清洗部88’在吸引机构88d和排液部分88e之间设有图11所示的干燥部件140。设置于干燥部件140的气体喷射口142朝向吸引机构88d倾斜。其他结构与图10相同。在图13中，对与图10所示的构成要件相同的构成要件标注相同的附图标记。在图13所示的结构中，一边使喷嘴支承臂82后退、一边利用收容在收容部分88a中的清洗液清洗喷嘴支承臂82时，利用自干燥部件140的气体喷射口142喷射来的气体将残留在喷嘴支承臂82的表面的清洗液朝向吸引机构88d吹散。由此，能够可靠地使喷嘴支承臂82的表面干燥，而且，清洗液被吸引机构88d可靠地回收，能够防止清洗液滴落到臂待机部80内。
附图标记说明
10、液处理装置；20、处理室；21、基板保持部；40、42、43、44、45、杯；82、喷嘴支承臂；82a、喷嘴；88、88’、120、臂清洗部。

Claims (16)

1.一种液处理装置，其特征在于，
该液处理装置包括：
处理室，其在内部设有用于水平地保持基板的基板保持部和配设在该基板保持部的周围的杯；
喷嘴，其用于向保持在上述基板保持部的基板供给流体；
喷嘴支承臂，其用于支承上述喷嘴，在上述基板上方相对于上述基板沿水平方向延伸；
臂清洗部，其用于对上述喷嘴支承臂进行清洗。
2.根据权利要求1所述的液处理装置，其特征在于，
上述臂清洗部在上述喷嘴支承臂移动时对该喷嘴支承臂进行清洗。
3.根据权利要求1所述的液处理装置，其特征在于，
上述臂清洗部在上述喷嘴支承臂处于退避位置时对该喷嘴支承臂进行清洗。
4.根据权利要求2所述的液处理装置，其特征在于，
上述臂清洗部具有用于收容清洗液的收容部分；
在上述臂清洗部中，通过一边使上述喷嘴支承臂的一部分接触于被收容在上述收容部分的清洗液、一边使该喷嘴支承臂移动，由此对上述喷嘴支承臂进行清洗。
5.根据权利要求4所述的液处理装置，其特征在于，
上述臂清洗部中，在上述喷嘴支承臂的移动方向上的比上述收容部分接近上述处理室的位置和比上述收容部分远离上述处理室的位置中的至少一个位置设有吸引机构。
6.根据权利要求4所述的液处理装置，其特征在于，
上述臂清洗部在上述喷嘴支承臂的移动方向上的比上述收容部分远离上述处理室的位置具有用于向上述喷嘴支承臂喷射干燥用气体的干燥部件。
7.根据权利要求4或5所述的液处理装置，其特征在于，
上述喷嘴支承臂在其内部具有用于向上述喷嘴输送流体的配管；
在上述臂清洗部中，在上述喷嘴支承臂的移动方向上的比上述收容部分接近上述处理室的位置和比上述收容部分远离上述处理室的位置中的任意一个位置设有用于排出残留在上述喷嘴支承臂内的上述配管中的液体的排液部分；
移动上述喷嘴支承臂而使上述喷嘴位于上述排液部分的正上方，从而将残留在上述喷嘴支承臂内的上述配管中的液体从上述喷嘴输送到上述排液部分。
8.根据权利要求1～6中任一项所述的液处理装置，其特征在于，
该液处理装置还包括与上述处理室相邻地设置的、用于供自该处理室退避的上述喷嘴支承臂待机的臂待机部。
9.根据权利要求8所述的液处理装置，其特征在于，
上述臂清洗部以位置固定的方式设置在上述处理室中的上述杯与上述臂待机部之间的区域或者上述臂待机部。
10.根据权利要求9所述的液处理装置，其特征在于，
在上述处理室与上述臂待机部之间设有沿铅垂方向延伸的壁；
在上述壁上设有能够供上述喷嘴支承臂通过的开口；
在上述壁上安装有上述臂清洗部。
11.根据权利要求1～6、9、10中任一项所述的液处理装置，其特征在于，
该液处理装置还包括圆筒状的杯外周筒，该杯外周筒在上述处理室内配设在上述杯的周围，且能够升降，设有能够供上述喷嘴支承臂通过的开口；
上述臂清洗部设置在上述杯外周筒的外侧。
12.根据权利要求3所述的液处理装置，其特征在于，
上述喷嘴支承臂设置为，能够沿其长度方向进退，能够位于使上述喷嘴处于由上述基板保持部保持的基板的上方的进入位置和自该进入位置后退的退避位置；
上述臂清洗部具有清洗箱和干燥部件；
上述清洗箱构成为包围位于上述退避位置的上述喷嘴支承臂的外周；
在上述清洗箱中设有朝向位于上述清洗箱内的上述喷嘴支承臂喷射清洗液的至少一个清洗液喷嘴；
上述干燥部件与上述清洗箱相邻，在上述喷嘴支承臂的进退方向上，设置在比上述清洗箱靠近上述进入位置的位置；
上述干燥部件构成为具有朝向上述喷嘴支承臂的外周面喷射干燥用气体的气体喷射孔，能够通过一边使上述喷嘴支承臂从上述退避位置朝向上述进入位置地移动、一边自上述气体喷射孔向上述喷嘴支承臂喷射干燥用气体，使上述喷嘴支承臂干燥。
13.根据权利要求12所述的液处理装置，其特征在于，
上述干燥部件构成为使从上述气体喷射孔喷射出的干燥用气体朝向上述清洗箱侧流动。
14.根据权利要求12或13所述的液处理装置，其特征在于，
在上述清洗箱内设有用于朝向上述喷嘴支承臂的上部喷射清洗液的第1清洗液喷嘴、及用于朝向上述喷嘴支承臂的下部喷射清洗液的第2清洗液喷嘴。
15.一种液处理方法，其特征在于，
该液处理方法包括以下工序：
利用设置在处理室的内部的基板保持部水平地保持基板；
使用于支承喷嘴的喷嘴支承臂进入到上述处理室内，所述喷嘴支承臂在上述基板上方相对于上述基板沿水平方向延伸；
利用进入到上述处理室内的喷嘴支承臂的喷嘴向由上述基板保持部保持的基板供给流体；
利用臂清洗部，在上述喷嘴支承臂移动时对该喷嘴支承臂进行清洗。
16.一种液处理方法，其特征在于，
该液处理方法包括以下工序：
利用设置在处理室的内部的基板保持部水平地保持基板；
使用于支承喷嘴的喷嘴支承臂进入到上述处理室内，所述喷嘴支承臂在上述基板上方相对于上述基板沿水平方向延伸；
利用进入到上述处理室内的喷嘴支承臂的喷嘴向由上述基板保持部保持的基板供给流体；
利用臂清洗部，在上述喷嘴支承臂处于退避位置时对该喷嘴支承臂进行清洗。
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