JP2001308051A - 液処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 制御が容易で被処理体の液処理を効率的に行
うことを可能ならしめる省スペース化された液処理装置
を提供する。 【解決手段】 内部に被処理体を収納して被処理体の液
処理を行う外側チャンバ２６と内側チャンバ２７から二
重構造チャンバを備えた液処理装置において、内側チャ
ンバ２７は処理位置と退避位置との間をスライド自在に
配設される。内側チャンバ２７の下端部に配設された排
液誘導部材４７の先端部４８は別体であるドレイン管４
９の係合部５０と接離可能であり、先端部４８とドレイ
ン管４９の係合部５０とは、内側チャンバ２７が処理位
置にあるときには嵌合し、退避位置にあるときには離隔
した状態となる構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハやＬ
ＣＤ基板等の各種基板に対して所定の液処理や乾燥処理
を施すために用いられる液処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、半導体デバイスの製造工程にお
いては、基板としての半導体ウエハ（以下「ウエハ」と
いう）を所定の薬液や純水等の洗浄液によって洗浄し、
ウエハからパーティクル、有機汚染物、金属不純物等の
コンタミネーションを除去するウエハ洗浄装置や、窒素
（Ｎ_２）ガス等の不活性ガスや揮発性および親水性の高
いＩＰＡ蒸気等によってウエハから液滴を取り除いてウ
エハを乾燥させるウエハ乾燥装置が使用されている。こ
れらの洗浄装置および乾燥装置としては、複数枚のウエ
ハをウエハ洗浄室やウエハ乾燥室内に収納してバッチ式
に処理するものが知られている。

【０００３】例えば、米国特許５７８４７９７号、同第
５６７８３２０号に記載されているウエハ洗浄装置で
は、ウエハ洗浄室の前面側（ウエハ搬送アームが移動し
てきた際にウエハ搬送アームと対向する面）に設けられ
た搬入出口を介して、ウエハ搬送アームのウエハチャッ
クをウエハ洗浄槽の前方側（ロータの前方側）からウエ
ハ洗浄室内に進入させ、このウエハチャックに把持され
たウエハをロータに渡したり、ロータに保持されたウエ
ハをウエハチャックにより受け取るようになっている。

【０００４】また、図１９に示すウエハ洗浄装置２００
も知られており、ウエハ洗浄装置２００は、ウエハ洗浄
室２０１を形成する処理チャンバ２０２を有し、ウエハ
Ｗを保持可能かつ回転可能に設けられたロータ２０５を
処理チャンバ２０２の前方側に形成されたウエハ搬入出
口２０３から進出退入可能とし、ロータ２０５を処理チ
ャンバ２０２から進出させた状態で、ロータ２０５と搬
送アームのウエハチャック２０９ａ・２０９ｂとの間で
ウエハＷの受け渡しが可能となっている。なお、参照符
号２０７はロータ２０５を進出退避させ回転させる駆動
機構、２０８は回転軸、２０４は処理チャンバ２０２の
蓋、２０６はロータ２０５の保持部材である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記米
国特許第５７８４７９７号、同第５６７８３２０号に開
示されたウエハ洗浄装置では、ウエハ洗浄室内に進入し
てきたウエハチャックを開閉させるだけの十分なスペー
スを設ける必要があり、その分、ウエハ洗浄室が大型化
してしまう問題を内在する。また、ウエハ洗浄室の限ら
れたスペース内でウエハチャックを開閉させるため、ウ
エハ洗浄槽の内壁等に衝突しないようにウエハチャック
の動作を注意深く制御する必要があり、そのため、ウエ
ハ搬送アームの動作が複雑化し、動作制御プログラムも
複雑なものとならざるを得ない。

【０００６】また、図１９に示したウエハ洗浄装置２０
０では、限られたスペースの中でウエハチャックを開閉
させる必要はないが、ウエハチャック２０９ａ・２０９
ｂとロータ２０５の保持部材２０６とが互いに衝突しな
いように制御しなければならず、やはり動作プログラム
等が複雑なものとなってしまう問題がある。

【０００７】本発明はかかる事情に鑑みてなされたもの
であって、装置を大型化させることなく、制御が容易
で、被処理体に対する洗浄等の液処理を効率的に行うこ
とを可能ならしめる液処理装置を提供することを目的と
する。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決すること
ができる技術として、本出願人は、先に特願平１１−３
２６０８４号において、処理チャンバ（処理室）を移動
する機構を備えた基板処理装置（液処理装置）を提案し
ている。しかしながら、図１８を参照して後述説明する
ように、特願平１１−３２６０８４号に開示の基板処理
装置では、処理液の排出を処理チャンバの前面の垂直壁
２６ｂから行うようになっており、それに伴って処理チ
ャンバ内の雰囲気の分離や入れ替えに時間を要する等の
新たな問題が生じる。

【０００９】本発明は上記課題の他にこのような新たな
問題をも解決するものであり、第１発明として、被処理
体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置で
あって、被処理体を収納可能な処理チャンバと、前記処
理チャンバに収納された被処理体に所定の処理液を供給
する処理液供給手段と、前記処理チャンバを処理位置と
退避位置との間で移動させるチャンバ移動機構と、前記
処理チャンバの退避位置側下端部に設けられた処理液排
出口と、前記処理液排出口から排出される処理液をドレ
インに誘導するための排液誘導部材を有する処理液排出
機構と、を具備することを特徴とする液処理装置、を提
供する。

【００１０】本発明は第２発明として、被処理体に所定
の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
被処理体を収納可能な筒状に形成された処理チャンバ
と、前記処理チャンバを略水平方向に位置する処理位置
と退避位置との間でスライドさせるチャンバ移動機構
と、前記処理チャンバ内の被処理体に所定の処理液を供
給する処理液供給手段と、前記処理チャンバの退避位置
側下端部に設けられた処理液排出口と、前記処理液排出
口と連通し、前記処理液排出口から排出される処理液を
所定の方向に誘導する排液誘導部材と、前記処理チャン
バの処理位置側において前記処理チャンバとは別体で設
けられたドレイン管と、を具備し、前記排液誘導部材と
前記ドレイン管とは、前記処理チャンバが処理位置にあ
るときには嵌合されて排液流路が形成され、前記処理チ
ャンバが待避位置にあるときには離隔して前記排液流路
が断絶された状態となることを特徴とする液処理装置、
を提供する。

【００１１】本発明は第３発明として、被処理体に所定
の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
被処理体を収納可能な筒状の内側チャンバ、および、被
処理体と前記内側チャンバを収納可能な筒状の外側チャ
ンバとからなる二重構造を有する処理チャンバと、前記
内側チャンバまたは前記外側チャンバに収納された被処
理体に所定の処理液を供給する処理液供給手段と、略水
平方向に位置する被処理体の液処理を行う処理位置と前
記処理位置から離隔した退避位置との間で前記内側チャ
ンバまたは前記外側チャンバをスライド移動させるチャ
ンバ移動機構と、前記内側チャンバの退避位置側下端部
に設けられた処理液排出口と、前記処理液排出口と連通
し、前記処理液排出口から排出される処理液を所定の方
向に誘導する排液誘導部材と、前記処理位置側に前記処
理チャンバとは別体で設けられたドレイン管と、を具備
し、前記排液誘導部材と前記ドレイン管とは、前記内側
チャンバが処理位置にあるときには嵌合されて排液流路
が形成され、前記内側チャンバが待避位置にあるときに
は離隔して前記排液流路が断絶された状態となることを
特徴とする液処理装置、を提供する。

【００１２】これら第１発明から第３発明においては、
排液経路（ドレイン）の構造が簡単であり、接離も可能
であることから、ドレインの配設スペースが削減されて
装置構成の設計自由度が増し、装置の小型化も可能とな
る。また、内側チャンバと外側チャンバからなる処理チ
ャンバでは、両チャンバの処理雰囲気の分離も容易であ
り、液処理を効率的に進めることが可能となる。さら
に、処理チャンバを移動させることから被処理体の搬送
制御が複雑とならず、こうして被処理体の破損が回避さ
れる。

【００１３】また、本発明は第４発明として、被処理体
に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であ
って、被処理体を収納可能な筒状に形成された処理チャ
ンバと、前記処理チャンバを略水平方向に位置する処理
位置と退避位置との間でスライドさせるチャンバ移動機
構と、前記処理チャンバ内の被処理体に所定の処理液を
供給する処理液供給手段と、前記処理チャンバの下端部
に設けられた処理液排出口と、前記処理液排出口と連通
し、前記処理液排出口から排出される処理液を所定の方
向に誘導する排液誘導部材と、前記処理チャンバの処理
位置側において前記処理チャンバとは別体で設けられた
ドレイン管と、を具備し、前記排液誘導部材と前記ドレ
イン管とは前記処理チャンバのスライドに合わせて伸縮
する伸縮自在な蛇腹管により連通していることを特徴と
する液処理装置、を提供する。

【００１４】本発明は第５発明として、被処理体に所定
の処理液を供給して液処理を行う液処理装置であって、
被処理体を収納可能な筒状に形成された処理チャンバ
と、前記処理チャンバを略水平方向に位置する処理位置
と退避位置との間でスライドさせるチャンバ移動機構
と、前記処理チャンバ内の被処理体に所定の処理液を供
給する処理液供給手段と、前記処理チャンバの下端部に
設けられた処理液排出口と、前記処理液排出口と連通
し、前記処理液排出口から排出される処理液を所定の方
向に誘導する排液誘導部材と、前記処理チャンバの処理
位置側において前記処理チャンバとは別体で設けられた
ドレイン管と、を具備し、前記排液誘導部材と前記ドレ
イン管は一方が他方の内部をスライドする互いにパイプ
で構成された嵌合部を有し、前記嵌合部は前記処理チャ
ンバのスライドに合わせて長さが変化しつつ、常に連通
した状態にあることを特徴とする液処理装置、を提供す
る。

【００１５】これら第４発明および第５発明では、ドレ
インが連通していることから処理液の液垂れが防止さ
れ、また、処理チャンバが内側チャンバと外側チャンバ
からなる二重構造チャンバの内側チャンバである場合に
は、各チャンバの雰囲気分離と制御が容易である利点が
ある。

【００１６】さらに、本発明は第６発明として、被処理
体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装置で
あって、被処理体を収納可能な筒状の胴部を有する処理
チャンバと、前記処理チャンバ内の被処理体に所定の処
理液を供給する処理液供給手段と、を具備し、前記処理
チャンバは前記胴部の長さ方向を略水平方向として配置
され、前記胴部の底部には３°以上の勾配が設けられて
いることを特徴とする液処理装置、を提供する。

【００１７】この第６発明において用いられる処理チャ
ンバは、前述した第１から第５の液処理装置が具備する
処理チャンバとして用いることができ、処理液排出口か
らの排液を容易とする。また、処理チャンバの内側下部
に処理液排出口への案内溝等を形成する必要がなく、処
理チャンバの製造コスト低減にも寄与する。さらに、処
理チャンバ内部に案内溝等の凹凸が形成されていないの
で、被処理体を回転等させて処理チャンバ内に気流が発
生しても、気流によって処理液が凹凸部分に衝突して飛
散し、被処理体に再付着して液跡を生ずることも回避さ
れる。

【００１８】さらにまた、本発明は第７発明として、被
処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理装
置であって、被処理体を収納可能な筒状の胴部を有する
処理チャンバと、前記被処理体に所定の処理液を供給す
る処理液供給手段と、を具備し、前記処理液供給手段
は、前記処理チャンバに収納された被処理体の上方外延
範囲外かつ水平位置より上方の範囲において前記処理チ
ャンバ内に配設されていることを特徴とする液処理装
置、を提供する。

【００１９】この第７発明において用いられる処理チャ
ンバは、前述した第１から第６の液処理装置が具備する
処理チャンバとして用いることができ、処理液の供給が
停止されている場合に、処理液供給手段から処理液の液
垂れ等が生じても、被処理体に処理液が付着せず、被処
理体に液跡が生ずることが回避される。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明の実施の形態について具体的に説明する。本発明の液
処理装置は、各種基板を被処理体とする洗浄処理装置、
乾燥処理装置等に適用できるが、本実施形態では、半導
体ウエハ（以下「ウエハ」という）の搬入、洗浄、乾
燥、搬出をバッチ式に一貫して行うように構成された洗
浄処理装置として用いた場合について説明する。

【００２１】図１は本実施形態に係る洗浄処理装置の斜
視図であり、図２はその平面図である。これら図１およ
び図２に示されるように、洗浄処理装置１は、ウエハＷ
を収納可能なキャリア（基板収納容器）Ｃの搬入出が行
われるイン・アウトポート（容器搬入出部）２と、ウエ
ハＷに対して洗浄処理を実施する洗浄処理ユニット３
と、イン・アウトポート２と洗浄処理ユニット３との間
に設けられ、洗浄処理ユニット３に対してキャリアＣの
搬入出を行うためのステージ部４と、キャリアＣを洗浄
するキャリア洗浄ユニット５と、複数のキャリアＣをス
トックするキャリアストックユニット６とを備えてい
る。なお、参照符号７は電源ユニットであり、８はケミ
カルタンクボックスである。

【００２２】イン・アウトポート２は、４個のキャリア
Ｃを載置可能な載置台１０と、キャリアＣの配列方向に
沿って形成された搬送路１１を移動可能に設けられ、載
置台１０のキャリアＣをステージ部４に搬送し、かつス
テージ部４のキャリアＣを載置台１０に搬送するための
キャリア搬送機構１２とを有している。キャリアＣ内に
は、例えば、２５枚または２６枚のウエハＷが収納可能
となっており、キャリアＣはウエハＷの主面が略鉛直に
配列されるように配置されている。

【００２３】ステージ部４は、キャリアＣを載置するス
テージ１３を有しており、また、後に図３に示すように
このステージ１３にはスライドステージ３２が配設され
ている。イン・アウトポート２からこのスライドステー
ジ３２に搬送され、載置されたキャリアＣは、スライド
ステージ３２を駆動することによって洗浄処理ユニット
３内に搬入され、洗浄処理ユニット３内のキャリアＣは
このスライドステージ３２によりステージ１３に搬出さ
れる。

【００２４】なお、ステージ１３には、載置台１０から
キャリア搬送機構１２のアームを回転させてキャリアＣ
が載置されるため、載置台１０とは逆向きにキャリアＣ
が載置される。このため、ステージ１３にはキャリアＣ
の向きを戻すための図示しない反転機構が設けられてい
る。

【００２５】ステージ部４と洗浄処理ユニット３との間
には仕切壁１４が設けられており、仕切壁１４には搬入
出用の開口部１４ａが形成されている。この開口部１４
ａはシャッター１５により開閉可能となっており、処理
中にはシャッター１５が閉じられ、キャリアＣの搬入出
時にはシャッター１５が開けられる。

【００２６】キャリア洗浄ユニット５は、キャリア洗浄
槽１６を有しており、後述するように洗浄処理ユニット
３においてウエハＷが取り出されて空になったキャリア
Ｃが洗浄されるようになっている。

【００２７】キャリアストックユニット６は、洗浄前の
ウエハＷが入ったキャリアＣや洗浄前のウエハＷが取り
出されて空になったキャリアＣを一時的に待機させるた
めや、洗浄後のウエハＷを収納するための空のキャリア
Ｃを予め待機させるためのものであり、上下方向に複数
のキャリアＣがストック可能となっており、その中の所
定のキャリアＣを載置台１０に載置したり、その中の所
定の位置にキャリアＣをストックしたりするためのキャ
リア移動機構を内蔵している。

【００２８】次に、洗浄処理ユニット３の構成ついて説
明する。ここで、洗浄処理ユニット３に配設される処理
チャンバとしては、外側チャンバ２６と外側チャンバ２
６内に収納可能な内側チャンバ２７とからなる二重構造
チャンバを例示するものとする。

【００２９】図３は洗浄処理ユニット３の内部を示す断
面図、図４および図５は洗浄処理ユニットの洗浄処理部
２０を示す断面図であり、図４は内側チャンバ２７を外
側チャンバ２６の外部に出した状態（以下、このような
状態における内側チャンバ２７の位置を「退避位置」と
いうこととする）、図５は外側チャンバ２６の内部に内
側チャンバ２７を配置した状態（以下、このような状態
における内側チャンバ２７の位置を「処理位置」という
こととする）を示している。なお、図３は外側チャンバ
２６と内側チャンバ２７の両方を退避位置にスライドさ
せた状態を示している。

【００３０】洗浄処理ユニット３の内部には、図３に示
すように、洗浄処理部２０と、洗浄処理部２０の直下に
キャリアＣを待機させるキャリア待機部３０と、キャリ
ア待機部３０に待機されたキャリアＣ内の複数のウエハ
Ｗを押し上げて洗浄処理部２０に移動させ、かつ洗浄処
理部２０の複数のウエハＷを保持してキャリア待機部３
０のキャリアＣに収納させるためのウエハ移動機構４０
とが設けられている。

【００３１】なお、洗浄処理ユニット３では、ウエハＷ
は、洗浄処理部２０の下側を出入り口として、洗浄処理
部２０とキャリア待機部３０との間を上下方向に移動す
る構造となっているが、ウエハＷの移動の機構に制限は
なく、ウエハＷは、洗浄処理部２０の上側から、あるい
は横方向等から、洗浄処理部２０に収容されるように構
成してもよい。

【００３２】ステージ１３上にはキャリアＣを載置する
スライドステージ３２が配設されている。スライドステ
ージ３２は、例えば、３段に構成されており、上方の２
段をそれぞれキャリア待機部３０側にスライドさせるこ
とで、上段に載置されたキャリアＣをキャリア待機部３
０におけるロータ２４の直下に搬入して待機させること
が可能となっている。

【００３３】ウエハ移動機構４０は、ウエハＷを保持す
るウエハ保持部材４１と、鉛直に配置されウエハ保持部
材４１を支持する支持棒４２と、支持棒４２を介してウ
エハ保持部材４１を昇降する昇降駆動部４３とを有して
いる。昇降駆動部４３によりウエハ保持部材４１を昇降
させることにより、キャリア待機部３０にあるキャリア
Ｃに収納された洗浄処理前のウエハＷを上方の洗浄処理
部２０のロータ２４内に移動させ、またはロータ２４内
の洗浄処理後のウエハＷをキャリア待機部３０にあるキ
ャリアＣに移動させるようになっている。

【００３４】洗浄処理部２０は、ウエハＷのエッチング
処理後にレジストマスク、エッチング残渣であるポリマ
ー層等を除去するものであり、鉛直に設けられた支持壁
１８と、回転軸２３ａを水平にして支持壁１８に取り付
け治具１８ａを用いて固定されたモータ２３と、モータ
２３の回転軸２３ａに取り付けられたロータ２４と、モ
ータ２３の回転軸２３ａを囲繞する円筒状の支持筒２５
と、支持筒２５に支持され、ロータ２４を囲繞するよう
に構成される外側チャンバ２６と、外側チャンバ２６の
内側に配置された状態で薬液処理を行う内側チャンバ２
７とを有している。

【００３５】ロータ２４は、鉛直にされた複数（例えば
２６枚）のウエハＷを水平方向に配列した状態で保持可
能となっており、このロータ２４は、モータ２３によっ
て回転軸２３ａを介して、係止部材７１ａ・７１ｂ・７
２ａ・７２ｂによって係止され、ウエハ保持部材８３ａ
・８３ｂにより保持された複数のウエハＷとともに回転
されるようになっている。なお、図４および図５におい
て、係止部材７１ｂ・７２ｂはそれぞれ係止部材７１ａ
・７２ａの背面に位置し、また、ウエハ保持部材８３ｂ
はウエハ保持部材８３ａの背面に位置している。

【００３６】外側チャンバ２６は略円錐台形状（略円錐
形の頂点側を底面に平行な面で切り落とした土台部分の
形状をいう）をなし、処理位置（図３の二点鎖線）と支
持筒２５の外側の退避位置（図３の実線）との間で移動
可能に構成されており、ウエハＷの搬入出時には図３に
示すように退避位置に位置される。

【００３７】また、図４に示すように、外側チャンバ２
６が処理位置にあり、内側チャンバ２７が退避位置にあ
る際には、外側チャンバ２６と、モータ２３側の垂直壁
２６ａと、先端側の垂直壁２６ｂとで処理空間５１が形
成される。処理空間５１の下部には、ドレイン管６３と
ドレインバルブ６１からなるドレイン（排液経路）が垂
直壁２６ｂに形成された排液口６１ａに連通して形成さ
れており、処理空間５１の上部には、排気バルブ６５と
排気管６７からなる排気経路が垂直壁２６ｂに形成され
た排気口６５ａに連通して設けられている。

【００３８】なお、外側チャンバ２６はその端面の外径
が異なることから、長径側を垂直壁２６ｂ側として、外
側チャンバ２６の胴部の底部に垂直壁２６ｂ側が下方と
なるような勾配を設けることにより、処理空間５１で用
いられた処理液を、容易にドレイン管６３を通して排出
することができる。

【００３９】垂直壁２６ａは支持筒２５に取り付けられ
ており、支持筒２５と回転軸２３ａとの間にはベアリン
グ２８が設けられている。また、垂直壁２６ａと支持筒
２５の先端部はラビリンスシール２９によりシールされ
ており、モータ２３で発生するパーティクル等が処理空
間５１に侵入することが防止されている。なお、支持筒
２５のモータ２３側の端部には外側チャンバ２６と内側
チャンバ２７を係止する係止部材２５ａが設けられてお
り、係止部材２５ａは支持壁１８に取り付けられてい
る。

【００４０】内側チャンバ２７は外側チャンバ２６より
も径が小さい略円錐台形状をなし、図５に示す処理位置
と、図３、図４に示す退避位置との間でスライド移動可
能に構成されており、ウエハＷの搬入出時には外側チャ
ンバ２６とともに退避位置に位置される。また、図５に
示すように内側チャンバ２７が処理位置にある際には、
内側チャンバ２７と垂直壁２６ａ・２６ｂとで処理空間
５２が形成される。

【００４１】次に、内側チャンバ２７の構成について詳
細に説明する。図６は内側チャンバ２７の斜視図であ
り、図７は内側チャンバ２７の正面図および断面図であ
る。図６および図７において、図４等に示されている処
理液供給手段としての吐出ノズル５６は省略されてい
る。

【００４２】内側チャンバ２７の胴部２７ａは略円錐台
形状であり、短径側が先端側（垂直壁２６ｂ側（処理位
置側））、長径側がモータ２３側（退避位置側）となる
ように、また、上側が略水平で底部に所定の勾配が形成
されるようにして、さらに長さ方向（図６中の線ＡＡ方
向）がスライド方向に一致するように配置されている。
内側チャンバ２７の両端面には、その短径側にリング部
材２７ｂが、長径側にリング部材２７ｃが、それぞれ胴
部２７ａに接合されており、内側チャンバ２７が処理位
置に配置されたときには、リング部材２７ｂの内周面と
垂直壁２６ｂとがシールされ、リング部材２７ｃと垂直
壁２６ａとがシールされる構造となっている。

【００４３】なお、内側チャンバ２７のスライド方向
は、図６において水平方向とされている。また、先に示
した図５に示されるように、内側チャンバ２７は、胴部
２７ａの底部に所定の勾配が形成される限り、胴部２７
ａの上側にも勾配が形成されるように配置してもよい。
さらに、胴部２７ａに代えて、図８の断面図に示すよう
に円筒型に形成された胴部８７ａを用い、胴部８７ａの
底部にチャンネルすなわち案内溝８１を形成するように
してもよい。この場合、案内溝８１の底部にリング部材
２７ｂ側からリング部材２７ｃ側に向かって低くなるよ
うな勾配を設けるとよい。

【００４４】処理空間５２内の雰囲気を調整するため
に、また、退避位置での内側チャンバ２７内の雰囲気を
調整するために、リング部材２７ｃの上端部には排気口
４５ａが形成されており、排気口４５ａには排気管４４
が取り付けられ、排気管４４の途中に排気バルブ４５が
設けられている。また、リング部材２７ｃの下端部には
処理液排出口４６が形成されており、この処理液排出口
４６と連通するように排液誘導部材４７が配設されてい
る。

【００４５】前述したように、リング部材２７ｃは胴部
２７ａの長径側に取り付けられており、また、胴部２７
ａは上側が略水平で底部に勾配が形成されるように配置
されていることから、内側チャンバ２７で使用された処
理液は、容易に処理液排出口４６から排液誘導部材４７
へ流れ込む構造となっている。

【００４６】排液誘導部材４７は下方に伸び、その先端
部４８は水平方向に長軸方向が一致するように、直管状
のパイプ４８ａで構成されている。一方、垂直壁２６ａ
の近傍下部には、別体として、ドレイン管４９が配置さ
れており、ドレイン管４９の先端には係合部５０が形成
されている。なお、ドレイン管４９は、外側チャンバ２
６を退避位置に移動させる際に外側チャンバ２６の移動
を妨害しない位置に配設されている。

【００４７】内側チャンバ２７が退避位置にあるとき
は、パイプ４８ａと係合部５０とは隔離された状態にあ
るが、内側チャンバ２７をウエハＷの洗浄処理等のため
に処理位置へスライドさせると、パイプ４８ａは係合部
５０に嵌合されてシールされる。これにより排液誘導部
材４７とドレイン管４９とが連通し、処理液の排液が可
能となる。一方、ウエハＷの液処理が終了して内側チャ
ンバ２７を退避位置へ戻す際には、パイプ４８ａと係合
部５０とは離隔される。

【００４８】図９は、パイプ４８ａと係合部５０との嵌
合の一形態を示す断面図であり、パイプ４８ａと係合部
５０のシールは、例えば、中空シール部材８４を用い
て、中空シール部材８４の中空部に流体を供給して中空
部を膨張させることで行うことができる。一方、中空シ
ール部材８４の中空部から流体を排出させて中空部を収
縮させるとシール状態が解除され、この状態においてパ
イプ４８ａの挿入と退出を行うことができる。なお、図
９に示した係合部５０には、排気口８５が形成されてお
り、排液と同時に排気も行うことができる構造となって
いる。この排気口８５からの排気の際には、邪魔板８６
により排液（液体）の排気口８５内への混入が防止され
ている。

【００４９】上述のように、接離可能な排液誘導部材４
７およびドレイン管４９からなるドレインを形成する
と、排液性能を損なうことなく装置の省スペース化が可
能となる。つまり、例えば、内側チャンバ２７にホース
状等の連続的なドレイン管を設けた場合には、内側チャ
ンバ２７のスライドに伴ってドレイン管もまた移動する
ことから、機械的な耐久性に問題が生ずるのみならず、
ドレイン管が占有するスペースも広くなり、装置の大型
化を招く等の問題を生ずるが、本発明においては、この
ような問題が生じないという特徴がある。

【００５０】また、内側チャンバ２７が退避位置にある
場合には、ロータ２４の下方にドレインが形成されてい
ない状態となるので、ロータ２４とキャリア待機部３０
の間のウエハＷの交換・移動を、容易に行うことが可能
となる利点もある。

【００５１】なお、図１８に示すように、長径側を垂直
壁２６ｂ側として、胴部の底部の勾配が図４または図５
の場合と逆に垂直壁２６ｂ側が下方となるように構成さ
れた内側チャンバ１７を用い、内側チャンバ１７が処理
位置にあるときに形成される処理空間８７の下部にあた
る垂直壁２６ｂの所定位置に排液口を設け、この排液口
に連通するドレイン管６４およびドレインバルブ６２を
配設した構造とすると、ドレインバルブ６２を閉じて内
側チャンバ１７を退避位置に移動させても、ドレインバ
ルブ６２が外側チャンバ２６によって形成される処理空
間５１内に存在することとなる。

【００５２】つまり、図１８に示した構造の場合、ドレ
インバルブ６２に残る内側チャンバ１７の基板処理に係
る処理液の雰囲気が、処理空間５１の雰囲気に拡散する
こととなり、処理空間８７から処理空間５１へ移行する
際の雰囲気制御に時間がかかるという問題を生ずるが、
上述した図４〜図９に示したドレインの構造を採用する
ことにより、このような問題をも回避することが可能と
なる。

【００５３】上述した内側チャンバ２７に配設されたド
レイン構造においては、排液誘導部材４７の先端部４８
にあるパイプ４８ａに開閉弁を配設して、パイプ４８ａ
がドレイン管４９の係合部５０に嵌合される際には開放
弁が開き、離隔した場合にはパイプ４８ａの端面を閉塞
するように構成すると、パイプ４８ａからの処理液の液
垂れが防止され、好ましい。

【００５４】一方、このような開閉弁を設ける代わり
に、図１０の断面図に示すように、排液誘導部材４７の
パイプ４８ａの下方に、パイプ４８ａから液垂れした処
理液を受ける樋５７を設けると、パイプ４８ａから処理
液の液垂れが生じても、他の装置部材に付着することが
なく、好ましいものとなる。このような樋５７は、排液
誘導部材４７と共に移動することから、ウエハＷの移送
にも支障をきたすことがない。なお、ドレイン管４９の
係合部５０の下方にも、液垂れした処理液を受ける樋を
設けることもできる。

【００５５】次に、上述した内側チャンバ２７に用いら
れるドレイン構造の他の形態について説明する。図１１
は、内側チャンバ２７に取り付けられた排液誘導部材４
７の先端とドレイン管４９の先端との間を、伸縮自在な
蛇腹管５８により常に連通させた構造を示している。蛇
腹管５８は、内側チャンバ２７が処理位置にあるときに
は収縮しており、待避位置に移動する際に伸長した状態
となる。

【００５６】ドレイン構造を図１１に示した構造とする
場合には、先に図１８を用いて説明したように、外側チ
ャンバ２６と内側チャンバ２７によってそれぞれ形成さ
れる処理空間５１・５２の雰囲気の分離が容易となる利
点がある。また、処理液の液垂れが起こらないことか
ら、開閉弁や樋を設ける必要もない。

【００５７】次に、図１２〜図１４を参照して、ドレイ
ン構造のさらに別の実施形態について説明する。内側チ
ャンバ２７に取り付けられた排液誘導部材４７ａは複数
回屈曲し、図１３の平面図に示されるように上方から見
た場合に内側チャンバ２７および外側チャンバ２６と重
ならないように取り回しされている。この排液誘導部材
４７ａは、その先端側に内側チャンバ２７の斜め下方に
位置するとともに内側チャンバ２７のスライド方向に平
行に延びるパイプ部７５を有しており、このパイプ部７
５はドレイン管４９の先端側に形成されたパイプ部７５
と平行に延びるパイプ部７６に嵌合されている。

【００５８】パイプ部７６の先端部には先に図９を参照
して説明したものと同様の係合部５０が形成されてお
り、パイプ部７５・７６の重なり量は内側チャンバ２７
のスライドに伴って変化するが、パイプ部７５は常時ド
レイン管４９のパイプ部７６に設けられた係合部５０の
シール部材８４との係合を維持する。なお、パイプ部７
５が内側チャンバ２７のスライドに合わせて動いている
間は、中空シール部材８４はシール解除の状態にあり、
パイプ部７５は中空シール部材８４とは接触していな
い。

【００５９】パイプ部７６の頂部には排気弁９０が設け
られており、排気弁９０には排気管９１が接続されてい
る。パイプ部７５とパイプ部７６の先端の下方には液受
け９２が設けられており、液受け９２は、万一、係合部
５０の中空シール部材８４を通り越して処理液が外側に
漏洩した場合でも、この処理液を受け止めて、装置の周
辺構成部品への付着を防止する。

【００６０】これら図１２〜図１４に示した実施形態に
よれば、パイプ部７５・７６が常時嵌合しているため
に、基本的には液漏れの問題は生じない。また、フレキ
シブルチューブを用いていないために、耐久性にも優れ
ている。また、排液誘導部材４７ａとそのパイプ部７５
およびドレイン管４９とそのパイプ部７６が、ロータ２
４の直下部と外側チャンバ２６および内側チャンバ２７
の可動範囲から完全に外れた位置に配置されているた
め、図３に示すキャリア待機部３０におけるキャリアＣ
の待機位置からロータ２４へのウエハＷの搬入、ロータ
２４からキャリアＣへの搬出を妨害することがない。

【００６１】なお、図１２〜図１４に示した形態は、パ
イプ部７５を処理位置側に向けて設けた場合を示してい
るが、図１５に示すように、パイプ部７５とドレイン管
４９およびそのパイプ部７６を退避位置側に向けて設け
ることも可能である。また、図１６に示すように、頂部
に排気口が形成されて排気を行うことが可能であり、底
部に排液口が形成されて排液を行うことができるカバー
９３をパイプ部７５に取り付けた形態とすることもでき
る。なお、カバー９３はドレイン管４９とパイプ部７６
の先端部をも囲繞しており、パイプ部７６の先端部から
液漏れが生じた場合にも、液漏れした処理液を回収する
ことができるようになっている。

【００６２】次に、上述した種々の形態のドレインへの
処理液の流入を容易とする処理チャンバの形態につい
て、内側チャンバ２７を例に説明する。前述したよう
に、内側チャンバ２７は略円錐台形の形状を有し、リン
グ部材２７ｃは胴部２７ａの長径側に取り付けられてお
り、また、胴部２７ａは底部に勾配が形成されるように
配置されていることから、内側チャンバ２７で使用され
た処理液は、容易に処理液排出口４６から排液誘導部材
４７へ流れ込む構造となっている。

【００６３】先に図８に示したように内側チャンバ２７
に円筒状の胴部８７ａを用い、胴部８７ａの底部に案内
溝８１を設けた場合には、案内溝８１の形成加工等に費
用を要する問題があり、また、ロータ２４を回転させた
ときに処理液が案内溝８１のエッジ部分に衝突して飛散
し、ウエハＷに再付着する等の問題があった。しかし、
略円錐台形の胴部２７ａを用いた内側チャンバ２７のよ
うに内部に凹凸がない構造とすることにより、このよう
な問題を回避することができる。

【００６４】なお、二重構造チャンバにおいて、下部に
勾配が形成されていない円筒型チャンバを内側チャンバ
として用いる場合には、胴部の底部が所定の勾配を有す
るようにその長軸方向（長さ方向）を水平方向と一定の
角度をなすように傾ける必要がある。この場合におい
て、チャンバのスライド方向を斜めとした場合には外側
チャンバの形状が不要に大きくならざるをえず、好まし
い形態とは言い難い。しかし、上述した内側チャンバ２
７ではスライド方向は水平方向であり、また、下部の勾
配は十分な排液能力を確保しつつも、大きくは傾斜して
いないことから、外側チャンバ２６を極端に大きくする
必要もないという利点もある。

【００６５】内側チャンバ２７の胴部２７ａの底部に設
けられる勾配は、使用する処理液の粘度を考慮して適切
な値に定めることができるが、純水等の種々の液体に用
いることができるように、好適には３°以上とされ、５
°以上とすることがより好ましい。但し、この勾配を大
きくしすぎるとチャンバ内での洗浄雰囲気や乾燥雰囲気
に不均一が生じ、また、装置が大型する等の問題を生ず
ることを考慮すると、胴部２７ａに設ける勾配は１０°
以下とすることが好ましい。

【００６６】なお、上述のように、チャンバの胴部の底
部に勾配を設けることは、外側チャンバ２６についても
同様に用いることができる。図３〜図５に示すように、
外側チャンバ２６の垂直壁２６ｂ側を長径側とし、モー
タ２３側を短径側とすると、処理空間５１からの排液を
行う排液口６１ａは垂直壁２６ｂの下方であって処理空
間５２に含まれない位置に設けることができる。なお、
処理空間５１についての排気口６５ａは、同様に垂直壁
２６ｂの上方であって処理空間５２に含まれない位置に
設けることができる。

【００６７】続いて、上述した種々の形態のチャンバを
用いて液処理や乾燥処理を行うにあたり、処理空間に配
設される処理液供給手段として本発明において好適に用
いられる吐出ノズルの好適な配設位置について、前掲し
た図３〜図５に示した処理空間５１・５２を例に説明す
る。

【００６８】図４・図５に示されるように、処理空間５
１の上端近傍部分には、多数の吐出口５３を有する吐出
ノズル５４が垂直壁２６ｂに取り付けられた状態で水平
方向に配置されている。一方、処理空間５２の上端近傍
には多数の吐出口５５を有する吐出ノズル５６が内側チ
ャンバ２７に取り付けられた状態で水平方向に沿って配
置されている。

【００６９】吐出ノズル５４からは図示しない供給源か
ら供給された純水、ＩＰＡ、Ｎ_２ガス、各種薬液が、吐
出ノズル５６からは図示しない供給源から供給された各
種薬液、純水、ＩＰＡが、それぞれ吐出可能となってい
る。

【００７０】図１７は、内側チャンバ２７を例に、前掲
した図７の正面図について、リング部材２７ｂ・２７ｃ
を省略し、胴部２７ａに吐出ノズル５６（５６ａ〜５６
ｃ）を配置した状態を示す正面図である。ウエハＷに処
理液を供給するこれらの吐出ノズル５６は、ウエハＷの
上方外延範囲外、かつ、水平位置より上方の範囲におい
て、処理空間５２内に配設することが好ましい。このよ
うな配置は、処理空間５１おける吐出ノズル５４につい
ても同様である。

【００７１】ここで、処理空間５２における吐出ノズル
５６の配設位置についてさらに詳細に説明すると、「ウ
エハＷの上方外延範囲外に吐出ノズル５６が配置されて
いる」とは、ウエハＷを処理空間５２を超えて上昇させ
た場合でも、ウエハＷと吐出ノズル５６ａ〜５６ｃとが
接触することがないことを意味している。また、「水平
位置より上方にある」とは、処理空間５２内の所定位置
に保持されたウエハＷの中心を通る水平面（図１７中の
点線ＳＳ）より上方にあるということを意味する。処理
空間５１における吐出ノズル５４の配設位置についても
同様である。

【００７２】上記範囲は、図１７においては、胴部２７
ａ内の範囲Ａ１とＢ１の重なり部分および範囲Ａ２とＢ
２の重なり部分となるが、吐出口５５からの処理液の吐
出が均一に行えるように、吐出ノズル５６はウエハＷか
らは若干の距離を設けることが好ましい。そこで、吐出
ノズル５６の実際の配設位置は、おおよそ、図１７中に
示される領域Ｃ１・Ｃ２の部分に相当する範囲となる。

【００７３】各処理空間５１・５２において、このよう
な位置に吐出ノズル５４・５６を配置することにより、
各吐出口５３・５５から液漏れや液垂れがあっても、ウ
エハＷに付着することがない。つまり、各種の処理液の
吐出後に、ウエハＷに液滴が付着して部分的な液跡が発
生することが回避される。

【００７４】なお、ウエハＷは、処理空間５１・５２内
でモータ２３により回転処理されることから、処理空間
５１・５２内では、ウエハＷの回転方向に気流が生ずる
こととなる。特に、吐出ノズル５４・５６から処理液を
吐出しない状態で、乾燥を行う場合には、吐出ノズル５
４・５６や吐出口５３・５５に処理液が付着していた場
合には、生じた気流によって付着液が飛散し、ウエハＷ
に液跡が生ずることとなり、不良の発生を引き起こしか
ねない。

【００７５】このような問題を解決するため、例えば、
図１７に示すように矢印Ｒで示される反時計回りにウエ
ハＷが回転する場合には生ずる気流も反時計回りとなる
ことから、領域Ｃ１に配設されている吐出ノズル５６ａ
・５６ｂを、前述の通り、ウエハＷの上方外延範囲外か
つ水平位置より上方の範囲に配設すると、ウエハＷが回
転しているときには吐出ノズル５６ａ・５６ｂからの液
垂れした処理液は気流に乗って胴部２７ａに接近するた
めにウエハＷには付着し難く、こうしてウエハＷに液跡
が生ずることが回避される。なお、一例として図１７で
は、吐出ノズル５６ａは点線ＳＳとのなす角が約６０°
の位置に、吐出ノズル５６ｂは点線ＳＳとのなす角が約
３０°の位置に配置されている。このような角度は胴部
２７ａの内径と処理するウエハＷの外径、および吐出ノ
ズル５６ａ・５６ｂの形状によって変化する。

【００７６】一方、例えば、図１７において領域Ｃ２に
配設されることとなる吐出ノズル５６ｃについては、領
域Ｃ２の下半分程度の低い位置、例えば図１７に示され
るような点線ＳＳとのなす角が約３０°の位置に配設
し、たとえ吐出ノズル５６ｃに付着していた処理液が気
流に乗ってウエハＷに近づくように飛ばされても、ウエ
ハＷに付着することなく下方へ落ちるように設定するこ
とが好ましい。

【００７７】吐出ノズル５６は、上述したように領域Ｃ
１・Ｃ２内に好適に設けられるが、上方より流れてく
る、或いは降ってくる処理液を再度噴き上げない程度の
位置なら、図１７に示される範囲Ｄ１・Ｄ２のような水
平位置よりも若干下方の領域、例えば、点線ＳＳとのな
す角が１０°程度以内の範囲、に配設することもでき
る。このような場合にも、ウエハＷの回転による気流の
発生等を考慮して、範囲Ｄ２は範囲Ｄ１よりも狭く取る
ことが好ましい。

【００７８】以上、本発明の実施の形態について説明し
てきたが、本発明が上記実施の形態に限定されるもので
ないことはいうまでもなく、種々の変形が可能である。
例えば、上記実施の形態では、外側チャンバ２６および
内側チャンバ２７の２つの処理チャンバによって処理を
行う場合について説明したが、チャンバは３つ以上であ
ってもよいし、１つであってもよい。また、外側チャン
バ２６および内側チャンバ２７は、いずれを洗浄に、い
ずれを乾燥に用いても構わず、洗浄と乾燥の両方を連続
して行う用途にも用いることができる。さらに、上記実
施の形態では本発明を洗浄処理に適用した場合について
示したが、これに限らず、所定の塗布液を塗布する塗布
処理等の他の液処理、または液処理以外の処理、例えば
ＣＶＤ処理やエッチング処理等に適用することも可能で
ある。さらにまた、半導体ウエハに適用した場合につい
て示したが、これに限らず、液晶表示装置（ＬＣＤ）用
基板等、他の基板の処理にも適用することができる。

【００７９】

【発明の効果】上述の通り、本発明の液処理装置におい
ては、用いられる処理チャンバにおいてドレインが接離
可能に構成されていることから、洗浄処理ユニットにお
ける省スペース化が図られ、また、被処理体の移動経路
の設計の自由度が大きくなるという顕著な効果を奏す
る。また、このような処理チャンバを、二重構造チャン
バにおける内側チャンバとして用いた場合には、外側チ
ャンバと内側チャンバの雰囲気の分離が容易であり、従
って、使用中の雰囲気調整に要する時間が短縮されるこ
とからランニングコストの低減にも寄与する。さらに、
連続したドレイン構造を用いる場合と比較して耐久性に
優れる利点もある。

【００８０】また、蛇腹管やパイプの嵌合とスライドを
利用したドレイン構造を有する処理チャンバは、二重構
造チャンバにおける内側チャンバとして用いた場合に、
外側チャンバと内側チャンバの雰囲気の分離が容易とな
る利点がある。従って雰囲気調整に要する時間の短縮に
よってランニングコストの低減が図られると共に、ドレ
インからの液漏れ、液垂れの問題も回避される利点があ
る。

【００８１】さらに、処理チャンバを略円錐台形状とし
て、底部に勾配を設けて配設することにより、処理液の
案内溝の加工形成を不要なものとして装置の製造コスト
の低減が図られる他、処理液を確実にドレインに流し込
むことが可能となる。また、処理チャンバ内壁に凹凸が
ないため、被処理体を処理チャンバ内で回転させた場合
に生ずる気流によっても、処理液が凹凸に衝突して飛散
し、被処理体に再付着することが防止されることから、
被処理体へのパーティクル等の付着もまた防止される。
加えて、処理液供給手段たる吐出ノズルの配設位置が、
吐出ノズルに付着した液滴等が飛散しても基板に再付着
することのない適切な位置とされていることからも、被
処理体に液跡等の不均一が生ずることが防止され、不良
品の発生が回避されるという効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る洗浄処理装置を示す
斜視図。

【図２】本発明の一実施形態に係る洗浄処理装置を示す
平面図。

【図３】本発明の一実施形態に係る洗浄処理ユニットを
示す断面図。

【図４】図３に示した洗浄処理ユニットにおいて、接離
可能なドレイン構造を有する内側チャンバを外側チャン
バの外部に出した状態を示す断面図。

【図５】図３に示した洗浄処理ユニットにおいて接離可
能なドレイン構造を有する内側チャンバを外側チャンバ
の内部に配置した状態を示す断面図。

【図６】接離可能なドレイン構造を有する内側チャンバ
の一実施形態を示す斜視図。

【図７】図６に示した内側チャンバの正面図および断面
図。

【図８】筒形チャンバの胴部に排液用の案内溝を設けた
形態を示す断面図。

【図９】接離可能なドレインを形成するパイプ部とキャ
ップ部との嵌合の一形態を示す断面図。

【図１０】排液誘導部材の下方に樋を設けた形態を示す
断面図。

【図１１】排液誘導部材とドレイン管との間を蛇腹管に
より連通させたドレイン構造を有する洗浄処理ユニット
の断面図。

【図１２】パイプ部材を嵌合させたドレイン構造を有す
る洗浄処理ユニットの断面図。

【図１３】図１２に記載の洗浄処理ユニットを上方から
みた平面図。

【図１４】図１２に記載の洗浄処理ユニットにおけるパ
イプ部の嵌合形態を示す断面図。

【図１５】パイプ部材を嵌合させたドレイン構造を有す
る別の洗浄処理ユニットの断面図。

【図１６】パイプ部材を嵌合させたドレイン構造を有す
るさらに別の洗浄処理ユニットの断面図。

【図１７】図７に示した内側チャンバの胴部への吐出ノ
ズルの配設位置を示した説明図。

【図１８】図５に示した洗浄処理ユニットにおいて内側
チャンバの底部の傾斜方向を逆とした形態の断面図。

【図１９】従来の洗浄処理ユニットを示す説明図。

【符号の説明】

１；洗浄処理装置 ２；イン・アウトポート ３；洗浄処理ユニット ２０；洗浄処理部 ２６；外側チャンバ ２７；内側チャンバ ４６；処理液排出口 ４７；排液誘導部材 ４８；先端部 ４９；ドレイン管 ５０；係合部 ５１・５２；処理空間 ５４・５６；吐出ノズル ７５・７６；パイプ部材 ８４；シール部材 Ｗ……半導体ウエハ（基板）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｂ０５Ｃ 11/10 21/306 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５７２Ｂ // Ｂ０５Ｃ 11/10 21/306 Ｊ

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体に所定の処理液を供給して液処
   理を行う液処理装置であって、 被処理体を収納可能な処理チャンバと、 前記処理チャンバに収納された被処理体に所定の処理液
   を供給する処理液供給手段と、 前記処理チャンバを処理位置と退避位置との間で移動さ
   せるチャンバ移動機構と、 前記処理チャンバの退避位置側下端部に設けられた処理
   液排出口と、 前記処理液排出口から排出される処理液をドレインに誘
   導するための排液誘導部材を有する処理液排出機構と、 を具備することを特徴とする液処理装置。
2. 【請求項２】 被処理体に所定の処理液を供給して液処
   理を行う液処理装置であって、 被処理体を収納可能な筒状に形成された処理チャンバ
   と、 前記処理チャンバを略水平方向に位置する処理位置と退
   避位置との間でスライドさせるチャンバ移動機構と、 前記処理チャンバ内の被処理体に所定の処理液を供給す
   る処理液供給手段と、 前記処理チャンバの退避位置側下端部に設けられた処理
   液排出口と、 前記処理液排出口と連通し、前記処理液排出口から排出
   される処理液を所定の方向に誘導する排液誘導部材と、 前記処理チャンバの処理位置側において前記処理チャン
   バとは別体で設けられたドレイン管と、 を具備し、 前記排液誘導部材と前記ドレイン管とは、前記処理チャ
   ンバが処理位置にあるときには嵌合されて排液流路が形
   成され、前記処理チャンバが待避位置にあるときには離
   隔して前記排液流路が断絶された状態となることを特徴
   とする液処理装置。
3. 【請求項３】 被処理体に所定の処理液を供給して液処
   理を行う液処理装置であって、 被処理体を収納可能な筒状の内側チャンバ、および、被
   処理体と前記内側チャンバを収納可能な筒状の外側チャ
   ンバとからなる二重構造を有する処理チャンバと、 前記内側チャンバまたは前記外側チャンバに収納された
   被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給手段と、 略水平方向に位置する被処理体の液処理を行う処理位置
   と前記処理位置から離隔した退避位置との間で前記内側
   チャンバまたは前記外側チャンバをスライド移動させる
   チャンバ移動機構と、 前記内側チャンバの退避位置側下端部に設けられた処理
   液排出口と、 前記処理液排出口と連通し、前記処理液排出口から排出
   される処理液を所定の方向に誘導する排液誘導部材と、 前記処理位置側に前記処理チャンバとは別体で設けられ
   たドレイン管と、を具備し、 前記排液誘導部材と前記ドレイン管とは、前記内側チャ
   ンバが処理位置にあるときには嵌合されて排液流路が形
   成され、前記内側チャンバが待避位置にあるときには離
   隔して前記排液流路が断絶された状態となることを特徴
   とする液処理装置。
4. 【請求項４】 前記排液誘導部材の先端に開閉弁が配設
   され、前記処理液排出口から排出される処理液の流出が
   制御されることを特徴とする請求項１から請求項３のい
   ずれか１項に記載の液処理装置。
5. 【請求項５】 前記排液誘導部材の先端の下方に前記排
   液誘導部材から液垂れした処理液を受ける樋が設けられ
   ていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれ
   か１項に記載の液処理装置。
6. 【請求項６】 前記ドレイン管の先端に排気口が設けら
   れ、排気経路と排液経路が分離されることを特徴とする
   請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の液処理装
   置。
7. 【請求項７】 被処理体に所定の処理液を供給して液処
   理を行う液処理装置であって、 被処理体を収納可能な筒状に形成された処理チャンバ
   と、 前記処理チャンバを略水平方向に位置する処理位置と退
   避位置との間でスライドさせるチャンバ移動機構と、 前記処理チャンバ内の被処理体に所定の処理液を供給す
   る処理液供給手段と、前記処理チャンバの下端部に設け
   られた処理液排出口と、 前記処理液排出口と連通し、前記処理液排出口から排出
   される処理液を所定の方向に誘導する排液誘導部材と、 前記処理チャンバの処理位置側において前記処理チャン
   バとは別体で設けられたドレイン管と、 を具備し、 前記排液誘導部材と前記ドレイン管とは前記処理チャン
   バのスライドに合わせて伸縮する伸縮自在な蛇腹管によ
   り連通していることを特徴とする液処理装置。
8. 【請求項８】 被処理体に所定の処理液を供給して液処
   理を行う液処理装置であって、 被処理体を収納可能な筒状に形成された処理チャンバ
   と、 前記処理チャンバを略水平方向に位置する処理位置と退
   避位置との間でスライドさせるチャンバ移動機構と、 前記処理チャンバ内の被処理体に所定の処理液を供給す
   る処理液供給手段と、 前記処理チャンバの下端部に設けられた処理液排出口
   と、 前記処理液排出口と連通し、前記処理液排出口から排出
   される処理液を所定の方向に誘導する排液誘導部材と、 前記処理チャンバの処理位置側において前記処理チャン
   バとは別体で設けられたドレイン管と、 を具備し、 前記排液誘導部材と前記ドレイン管は、一方が他方の内
   部をスライドする互いにパイプで構成された嵌合部を有
   し、 前記嵌合部は前記処理チャンバのスライドに合わせて長
   さが変化しつつ、常に連通した状態にあることを特徴と
   する液処理装置。
9. 【請求項９】 前記嵌合部の下方に前記嵌合部から液垂
   れする処理液を受ける液受けが配設されていることを特
   徴とする請求項８に記載の液処理装置。
10. 【請求項１０】 前記嵌合部から離れた位置において前
    記ドレイン管の上部に排気口が設けられていることを特
    徴とする請求項８または請求項９に記載の液処理装置。
11. 【請求項１１】 前記嵌合部を囲繞するように前記排液
    誘導部材にカバーが配設され、 前記カバーは上部に形成された排気口と下部に形成され
    た排液口とを有することを特徴とする請求項８から請求
    項１０のいずれか１項に記載の液処理装置。
12. 【請求項１２】 前記処理チャンバの底部に処理液が前
    記処理液排出口へ流れ込むように３°以上の勾配が設け
    られていることを特徴とする請求項１から請求項１１の
    いずれか１項に記載の液処理装置。
13. 【請求項１３】 前記勾配が５°以上であることを特徴
    とする請求項１２に記載の液処理装置。
14. 【請求項１４】 前記処理液供給手段が被処理体の上方
    外延範囲外かつ水平位置より上方の範囲において、前記
    処理チャンバ内に配設されていることを特徴とする請求
    項１から請求項１３のいずれか１項に記載の液処理装
    置。
15. 【請求項１５】 被処理体に所定の処理液を供給して液
    処理を行う液処理装置であって、 被処理体を収納可能な筒状の胴部を有する処理チャンバ
    と、 前記処理チャンバ内の被処理体に所定の処理液を供給す
    る処理液供給手段と、 を具備し、 前記処理チャンバは前記胴部の長さ方向を略水平方向と
    して配置され、 前記胴部の底部には３°以上の勾配が設けられているこ
    とを特徴とする液処理装置。
16. 【請求項１６】 前記勾配が５°以上であることを特徴
    とする請求項１５に記載の液処理装置。
17. 【請求項１７】 被処理体に所定の処理液を供給して液
    処理を行う液処理装置であって、 被処理体を収納可能な筒状の胴部を有する処理チャンバ
    と、 前記被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給手段
    と、 を具備し、 前記処理液供給手段は、前記処理チャンバに収納された
    被処理体の上方外延範囲外かつ水平位置より上方の範囲
    において前記処理チャンバ内に配設されていることを特
    徴とする液処理装置。
18. 【請求項１８】 前記処理液供給手段は複数の吐出口が
    形成された吐出ノズルであることを特徴とする請求項１
    から請求項１７のいずれか１項に記載の液処理装置。