JP2016164995A - 液処理装置および洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液処理装置10は、ドレイン部71〜74の近傍に設けられ、基板保持部52により保持された基板Wの周囲の雰囲気を排気するための排気部76と、排気部76につながる排気経路77を形成する排気経路形成部材66と、排気経路77側の排気経路形成部材66に洗浄液を供給する第1の洗浄部90と、を備えている。
【選択図】図2
Description
ドレイン部や排気部が設けられた液処理ユニットとしては、例えば特許文献1等に開示されるものが従来から知られている。
また、排気経路形成部材66には貫通孔66bが設けられており、排気経路形成部材66の上面側に供給された洗浄液は貫通孔66bを通って第4処理液回収用タンク74に送られるようになっている。また、図2に示すように、排気経路形成部材66の外周端には上方に延びるリング部材66cが設けられており、図3(c)に示すように第2案内カップ82が上方位置にあるときにこのリング部材66cと第3案内カップ83との間で排気路が形成されるようになっている。図3(c)に示すように第2案内カップ82が上方位置にあるときには、区画壁84の外側に第3の領域79が形成される。
この場合、洗浄液が洗浄液供給源56cからノズル55に供給され、回転しているウエハWの表面に吐出される。この間、ウエハWから飛散した洗浄液は、アルカリ性処理液と同様にして、第2処理液回収用タンク72に回収されるとともに、ウエハWの周囲の雰囲気は第1排気部75によって排出される。
この場合、有機性処理液が有機性処理液供給源56dからノズル55に供給され、回転しているウエハWの表面に吐出される。前述のように、第2案内カップ82および第3案内カップ83はそれぞれ図3(a)に示すような下方位置に位置しているため、ウエハWから飛散して外側案内回転カップ60や内側案内回転カップ62により案内された有機性処理液は、第1案内カップ81と第2案内カップ82との間の空間に沿って案内され、案内部材64の外周側を通って第1処理液回収用タンク71に送られて回収される(図3(a)の実線の矢印参照)。また、ウエハWの周囲の雰囲気は、アルカリ性処理液と同様にして案内され、第1排気部75により排出されて排気ダクト100に送られるようになる(図3(a)の二点鎖線の矢印参照)。
洗浄液供給源190dから第1の洗浄部190に洗浄液を供給することにより、第1吐出口190a及び第2の吐出口190bから洗浄液が吐出される。第2実施形態の第1の洗浄部190は、第1実施形態の第1の洗浄部90のように液滴(二流体)を噴霧するのではなく、液体を線状に噴射するように構成されている。
これにより排気経路形成部材166の上面も洗浄することができる。なお、洗浄時には基板保持台52が回転しているため、洗浄液は排気経路形成部材166の上面の円周方向全域に満遍なく落下する。このため、第2の洗浄部192が円周方向の一箇所だけに設けられていたとしても、排気経路形成部材166の上面を均一に洗浄することができる。勿論、複数の第2の洗浄部192を円周方向の異なる位置に設けることも可能である。
52 基板保持台
53 回転駆動軸
55 ノズル
60 外側案内回転カップ
62 内側案内回転カップ
66 排気経路形成部材
71 第1処理液回収用タンク
72 第2処理液回収用タンク
73 第3処理液回収用タンク
74 第4処理液回収用タンク
75 第1排気部
76 第2排気部
77 排気通路
90、190 第1の洗浄部
92、192 第2の洗浄部
また、排気経路形成部材66には貫通孔66bが設けられており、排気経路形成部材66の上面側に供給された洗浄液は貫通孔66bを通って第4処理液回収用タンク74に送られるようになっている。また、図2に示すように、排気経路形成部材66の外周端には上方に延びるリング部材66cが設けられており、図3(c)に示すように第2案内カップ82が上方位置にあるときにこのリング部材66cと第3案内カップ83との間で排気路が形成されるようになっている。図3(c)に示すように第2案内カップ82が上方位置にあるときには、区画壁84の外側に第3の領域79が形成される。
Claims (20)
- 基板を処理液で処理するための液処理装置であって、
基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板保持部を回転させる基板回転機構と、
前記基板保持部により保持された基板に処理液を供給するための処理液供給部と、
前記基板保持部を囲うよう設けられた案内カップと、
基板に供給した後の処理液を回収するためのドレイン部と、
前記ドレイン部の近傍に設けられ、前記基板保持部により保持された基板の周囲の雰囲気を排気するための排気部と、
前記基板保持部により保持された基板を処理液により処理する領域である第1の領域と前記ドレイン部および前記排気部が設けられた領域である第2の領域との間に設けられた排気経路形成部材であって、前記排気経路形成部材と前記案内カップとの間に隙間を設け、前記案内カップおよび前記排気経路形成部材により、前記排気部につながる排気経路を形成する排気経路形成部材と、
前記第2の領域側の前記排気経路形成部材に洗浄液を供給する第1の洗浄部と、
を備えた、液処理装置。 - 前記第1の洗浄部は、洗浄液を液滴状態で供給するノズルである、請求項1記載の液処理装置。
- 前記第1の洗浄部は、前記排気経路形成部材における少なくとも前記ドレイン部よりも径方向内側の箇所に洗浄液を供給することを特徴とする、請求項1または2記載の液処理装置。
- 前記排気経路形成部材には、当該排気経路形成部材から下方に延びる案内板が設けられており、前記第1の洗浄部は、少なくとも前記排気経路の排気方向における前記案内板よりも下流側の箇所に洗浄液を供給することを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 前記第1の洗浄部は前記ドレイン部よりも径方向内側の箇所に配置されている、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 前記第1の洗浄部は、前記ドレイン部よりも径方向内側において前記第2の領域内に設けられ、互いに間隔を空けて円周方向に並んだ複数の第1の吐出口を有するノズルを含み、前記各第1の吐出口は、径方向外向きかつ斜め上方に、前記排気経路形成部材の下面に向けて洗浄液を形成する、請求項1記載の液処理装置。
- 前記排気経路形成部材の下面の外周部に前記ドレイン部に向けて突出する案内突起が設けられ、この案内突起が前記第1の領域から流下してきた気液混相流に含まれる液体を前記ドレイン部に向けて案内するとともに気液混相流に含まれる気体を前記排気経路の案内突起よりも径方向内側に案内するようになっており、
前記排気経路形成部材の下面のうちの、前記各第1の吐出口から吐出された洗浄液が衝突する位置である洗浄液衝突位置から前記案内突起に至るまでの区間は、径方向外側にゆくにしたがって低くなるように傾斜した傾斜面となっている、請求項6記載の液処理装置。 - 前記第1の洗浄部は、前記ドレイン部よりも径方向内側の前記第2の領域内に設けられ、互いに間隔を空けて円周方向に並んだ複数の第2吐出口を有するノズルを含み、前記各第2吐出口は、前記ドレン部を区画する壁体に向けて洗浄液を供給する、請求項6または7記載の液処理装置。
- 前記第1の領域側の前記排気経路形成部材に洗浄液を供給する第2の洗浄部を更に備えた、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 前記第1の領域側の前記排気経路形成部材には凹部が形成されており、前記第2の洗浄部により前記排気経路形成部材の上面側に洗浄液が供給されることを特徴とする、請求項9記載の液処理装置。
- 前記排気経路形成部材には貫通孔が設けられており、前記排気経路形成部材の上面側に供給された洗浄液は前記貫通孔を通って前記ドレイン部に送られることを特徴とする、請求項10記載の液処理装置。
- 前記第2の洗浄部により、前記基板保持部における前記排気経路形成部材に対向する箇所にも洗浄液が供給されることを特徴とする、請求項9乃至11のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 前記第2の洗浄部は、前記排気経路形成部材の径方向の異なる位置に設けられた複数の吐出口を有する、請求項12記載の液処理装置。
- 前記第2の洗浄部は前記ドレイン部よりも径方向内側の箇所に配置されている、請求項9乃至11のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 基板を水平に保持する基板保持部と、前記基板保持部を回転させる基板回転機構と、前記基板保持部により保持された基板に処理液を供給するための処理液供給部と、前記基板保持部を囲うよう設けられた案内カップと、基板に供給した後の処理液を回収するためのドレイン部と、前記ドレイン部の近傍に設けられ、前記基板保持部により保持された基板の周囲の雰囲気を排気するための排気部と、前記基板保持部により保持された基板を処理液により処理する領域である第1の領域と前記ドレイン部および前記排気部が設けられた領域である第2の領域との間に設けられた排気経路形成部材であって、前記排気経路形成部材と前記案内カップとの間に隙間を設け、前記案内カップおよび前記排気経路形成部材により、前記排気部につながる排気経路を形成する排気経路形成部材と、を備えた、液処理装置における洗浄方法であって、
前記第2の領域側の前記排気経路形成部材に洗浄液を供給する第1の洗浄工程を備えた、洗浄方法。 - 前記第1の洗浄工程において、前記排気経路形成部材における少なくとも前記ドレイン部よりも径方向内側の箇所に洗浄液を供給する、請求項15記載の洗浄方法。
- 前記排気経路形成部材には、当該排気経路形成部材から下方に延びる案内板が設けられており、
前記第1の洗浄工程において、少なくとも前記排気経路の排気方向における前記案内板よりも下流側の箇所に洗浄液を供給する、請求項15または16記載の洗浄方法。 - 前記第1の領域側の前記排気経路形成部材に洗浄液を供給する第2の洗浄工程を更に備えた、請求項15乃至17のいずれか一項に記載の洗浄方法。
- 前記第1の領域側の前記排気経路形成部材には凹部が形成されており、
前記第2の洗浄工程において、前記排気経路形成部材の上面側に洗浄液が供給されるようになっている、請求項18記載の洗浄方法。 - 前記第2の洗浄工程において、前記基板保持部における前記排気経路形成部材に対向する箇所にも洗浄液が供給されるようになっている、請求項18または19記載の洗浄方法。
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