JP2004193568A

JP2004193568A - 基板処理装置及び洗浄方法

Info

Publication number: JP2004193568A
Application number: JP2003367364A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Yamazaki; 剛山崎
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2002-11-28
Filing date: 2003-10-28
Publication date: 2004-07-08

Abstract

【課題】
カップ等の容器やその容器を開閉するための蓋を確実に洗浄することができ、当該洗浄処理のための作業の手間を省くことができる基板処理装置及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】
回転カップ５０が所定の回転速度で回転することで貯溜槽５２に貯溜された洗浄液２１が遠心力で外側に流れ、その流れる力によりそのまま孔５２ａから洗浄液が上方に吐出され飛散する。孔５２ａが斜めに形成されていることから、洗浄液の吐出方向はその斜め方向になる。これにより、蓋体３７において基板Ｇの外側付近の領域（符号Ａで示す破線より右側の領域）まで洗浄液を及ばせることができる。
【選択図】図６

Description

本発明は、液晶製造工程において液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）等に使用されるガラス基板に例えばレジストを塗布し現像する基板処理装置及びこの基板処理装置において用いられる洗浄方法に関する。

ＬＣＤの製造工程において、ＬＣＤ用のガラス基板上にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の薄膜や電極パターンを形成するために、半導体デバイスの製造に用いられるものと同様のフォトリソグラフィ技術が利用される。フォトリソグラフィ技術では、フォトレジストをガラス基板に塗布し、これを露光し、さらに現像する。

フォトレジストの塗布処理では、例えば回転するカップ内にガラス基板を収容し、基板上にレジストを供給し、カップに蓋を被せ、カップと基板とを一体的に回転させることによりレジストを基板の表面全面に拡散させてレジスト膜を形成している。

ところで、このような塗布処理において用いられるカップ内部には、その回転によって遠心力で飛散するレジストやミスト状のレジストが付着する。かかる付着物は乾燥した後にパーティクルの発生の原因となる。この問題を解決するために、現状ではカップ内に洗浄液を吐出するノズルを設け、上記付着物に洗浄液を吐出して付着物を取り除いている（例えば、特許文献１参照。）。

特に、専用の容器内に洗浄液を貯溜して、その容器をカップ内で回転させることにより、当該容器に形成された孔から洗浄液を飛散させてカップを洗浄させる洗浄治具を設ける装置も提案されている（例えば、特許文献２参照（この特許文献２ではガラス基板ではなく半導体ウェハを処理する装置である））。
特開平８−２５５７８９号公報（図６）特開平５−８２４３５号公報（図２、４、６）

しかしながら、特許文献１に示す装置では、例えばその図６において、蓋を洗浄するための蓋体洗浄ノズル体が設けられているが、スピンチャック（基板を真空作用により保持して基板を回転させる部材）が、蓋体洗浄ノズル体から吐出された洗浄液を遮っている。したがってこの例では、ほとんど蓋体を洗浄できない。このような蓋体の内側は特にミスト状となったレジストにより汚染されるのであり、このような蓋体の汚染をも除去する必要がある。

特許文献１に示す装置においては、スピンチャックを小さく設計すれば蓋体を洗浄できる。しかし、近年のガラス基板の大型化の観点から、スピンチャックを小さくすることは安全性等の問題がある。現在のスピンチャックは、基板の大きさとほぼ同じ大きさのものが主流となりつつあることを考慮すると、ますます蓋の洗浄が困難となってきている。

一方、特許文献２に示す塗布装置では、カップの上部の開口部を閉めるための蓋が設けられていないが、カップの洗浄の都度、スピンチャックに洗浄治具を着脱しなければならならず、作業数が増え面倒である。またこのような洗浄治具を特許文献１に示す装置に適用しても、容器の蓋を洗浄することはできない。

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、カップ等の容器やその容器を開閉するための蓋を確実に洗浄することができ、当該洗浄処理のための作業の手間を省くことができる基板処理装置及び洗浄方法を提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明に係る基板処理装置は、基板を回転可能に保持する保持部材と、基板を出し入れするための開口部を有し、前記保持部材により保持された基板を収容するとともに前記保持部材と同期して回転することが可能な容器と、前記開口部に着脱可能に設けられ前記容器を開閉するための蓋体と、前記容器に装着されるとともに前記保持部材の周囲のうち少なくとも一部に設けられ、少なくとも前記蓋体を洗浄するための洗浄液を内部に貯溜する貯溜槽と、前記容器を回転させ、その回転の遠心力により前記貯溜槽に貯溜された洗浄液を前記蓋体に向けて飛散させるための回転駆動部とを具備する。

本発明では、例えば基板上に塗布液を塗布した後、蓋体を容器に被せた状態で容器を回転させて、その遠心力により貯溜槽から洗浄液を蓋体に向けて飛散させるようにしている。この貯溜槽は保持部材の周囲に設けられているので、従来のように保持部材が飛散する洗浄液を遮ることがなく、例えば蓋体の中央部よりにも洗浄液を飛散させることができ、蓋体を洗浄することができる。また、蓋体に付着した洗浄液は、遠心力により回転の外側へ流れ、その流れた洗浄液は容器まで達するので容器をも洗浄することができる。さらに、本発明では、従来のように容器の洗浄の都度洗浄治具を着脱する必要がなくなり、洗浄処理のための作業の手間を省くことができる。

本発明において、洗浄液としては、例えばシンナ等、より具体的にはメチル−３−メトキシプロピオネート（ＭＭＰ，沸点：１４５℃，粘度：１．１ｃｐｓ）の他、乳酸エチル（ＥＬ，沸点：１５４℃，粘度：２．６ｃｐｓ）、エチル−３−エトキシプロピオネート（ＥＥＰ，沸点：１７０℃，粘度：１．３ｃｐｓ），ピルビン酸エチル（ＥＰ，沸点：１４４℃，粘度：１．２ｃｐｓ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ，沸点：１４６℃，粘度：１．３ｃｐｓ）、２−ヘプタノン（沸点：１５２℃，粘度：１．１ｃｐｓ）、シクロヘキサノン（ＡＲＣの溶剤）等この分野で知られているものを使用することができる。

また、本発明において、「同期して」には、保持部材と容器とが例えば一体的に回転するという意味、あるいは例えば別個独立した駆動源によりそれぞれ保持部材と容器とを同期させて回転させるという意味が含まれる。

本発明の一の形態は、当該貯溜槽における前記蓋体と対向する側に、前記貯溜槽に貯溜された洗浄液を吐出する孔が形成されている。これにより、確実に洗浄液を蓋体に向けて飛散させることができる。また、孔に代えて線状のスリットとしてもよい。

本発明の一の形態では、前記孔は、前記洗浄液の吐出の方向が前記容器の回転の回転軸方向より回転中心側に向くように形成されている。これにより、蓋体の中央部に向けて確実に洗浄液を吐出することができる。また、この場合も孔に代えて線状のスリットとしてもよい。

本発明の一の形態では、前記貯溜槽の内部に洗浄液を供給する洗浄液供給機構をさらに具備する。また、前記洗浄液供給機構が、前記洗浄液を前記貯溜槽の内部に向けて吐出するノズルと、前記ノズルを前記容器の外の所定の位置と前記保持部材の直上位置との間で移動させる移動機構とを具備する。これにより、例えば所定の枚数の基板の塗布処理を終えるごとに洗浄液を自動で供給して洗浄することが可能となり、作業が容易となる。またあるいは、基板一枚の塗布処理を終えるごとに洗浄液を供給すれば、常に容器や蓋は汚染されていない状態とすることができ、パーティクルの発生を確実に防止することができる。

本発明の一の形態では、前記貯溜槽の内部に複数配列され、該貯溜槽の内部を、前記保持部材に保持される基板の周囲方向で複数の室に区画する仕切部材をさらに具備する。これにより、容器の回転により生じる、洗浄液と貯溜槽との相対的な移動を極力抑えることができ、洗浄液の吐出の勢い、吐出量を増大させることができる。

本発明の一の形態では、前記複数の仕切部材はそれぞれ前記貯溜槽に対面する側面を有し、前記側面の一部は前記貯溜槽と隙間を空けて配置され、他部は前記貯溜槽に当接している。あるいは、前記複数の仕切部材のうち少なくとも１つには、前記複数の室同士を連通させる連通口が形成されている。これにより、洗浄液が各室に滞留させることなく、洗浄液を隙間または連通口を通して全体に行きわたらせることができる。

本発明の一の形態では、前記隙間は、前記貯溜槽における前記容器の回転中心側寄りに設けられている。あるいは、前記連通口は、前記仕切部材における前記容器の回転中心側寄りに設けられている。これにより、例えば上記洗浄液供給機構により洗浄液を貯溜槽内部に貯溜させるときには、洗浄液が隙間または連通口を通して全体に行きわたり、かつ、洗浄処理時においては、容器の回転により貯溜槽の内部で洗浄液が遠心力で外周側に流れる。その結果、洗浄液は複数の室を流通することなく各室に滞留し、良好な洗浄液の吐出を行うことができる。

本発明の一の形態では、前記複数の仕切部材のうち少なくとも１つは、板状をなし、該複数の仕切部材が配列される配列方向に対して斜めに傾けて設けられている。これにより、貯溜槽内部の洗浄液を容器の回転の方向に合わせて流通させることができ、さらに良好な洗浄液の吐出が望める。

本発明に係る洗浄方法は、基板を出し入れするための開口部を有し、該開口部を介して基板を収容する容器内で洗浄液を用い、前記開口部に着脱可能に設けられ前記容器を開閉するための蓋体を少なくとも洗浄する洗浄方法であって、前記容器に装着されるとともに、前記容器内で基板を保持する保持部材の周囲のうち少なくとも一部に設けられ前記洗浄液を貯溜する貯溜槽に該洗浄液を供給する工程と、前記容器を回転させることで、その回転の遠心力により前記貯溜槽に貯溜された洗浄液を前記蓋体に向けて飛散させる工程とを具備する。

本発明では、例えば基板上に塗布液を塗布した後、貯溜槽に洗浄液を供給してから、蓋体を容器に被せた状態で容器を回転させて、その遠心力により貯溜槽から洗浄液を蓋体に向けて飛散させるようにしている。この貯溜槽は保持部材の周囲に設けられているので、従来のように保持部材が飛散する洗浄液を遮ることがなく、例えば蓋体の中央部よりにも洗浄液を飛散させることができ、蓋体を洗浄することができる。

本発明に係る他の基板処理装置は、基板を回転可能に保持する保持部材と、基板を出し入れするための開口部を有し、前記保持部材により保持された基板を収容するとともに前記保持部材と同期して回転することが可能な容器と、前記開口部に着脱可能に設けられ前記容器を開閉するための蓋体と、前記容器に装着されるとともに前記保持部材の周囲のうち少なくとも一部に設けられ、少なくとも前記蓋体を洗浄するための洗浄液を内部に貯溜する貯溜槽と、前記容器を回転させ、その回転の遠心力により前記貯溜槽に貯溜された洗浄液を前記蓋体に向けて飛散させることが可能な回転駆動部と、前記第１の容器を収容する第２の容器と、少なくとも前記第１の容器の外周部を洗浄するために前記第２の容器に設けられた洗浄ノズルを有する洗浄機構とを具備する。

本発明では、例えば基板上に塗布液を塗布した後、蓋体を容器に被せた状態で容器を回転させて、その遠心力により貯溜槽から洗浄液を蓋体に向けて飛散させるようにしている。この貯溜槽は保持部材の周囲に設けられているので、従来のように保持部材が飛散する洗浄液を遮ることがなく、例えば蓋体の中央部よりにも洗浄液を飛散させることができ、蓋体を洗浄することができる。また、第２の容器に、第１の容器の外周部を洗浄するための洗浄ノズルが設けられている。このため、例えば、回転駆動部により第１の容器を回転させるとともに洗浄ノズルから洗浄液を吐出することで、蓋体とともに少なくとも第１の容器の外周部を洗浄することができる。

本発明の一の形態では、前記洗浄機構は、前記洗浄ノズルとして、前記第１の容器の側壁の外周面を洗浄可能な第１のノズルと、前記第１の容器の外側底面を洗浄するための第２のノズルとを有する。これにより、例えば、回転駆動部により第１の容器を回転させるとともにそれぞれ第１のノズル、第２のノズルから洗浄液を吐出することで、第１の容器の側壁の外周面、第１の容器の外側底面を洗浄することができる。

本発明の一の形態では、前記洗浄機構は、前記洗浄ノズルとして、前記第２の容器の内部の底面を洗浄するための第３のノズルを有する。これにより、第３のノズルから洗浄液を吐出することで、第２の容器の内部の底面を洗浄することができる。

本発明の一の形態では、前記貯溜槽に形成された供給口を介して該貯溜槽の内部に前記洗浄液を吐出する吐出ノズルと、前記吐出ノズルを少なくとも前記第１の容器の外部と、前記供給口の直上との間で移動させる移動機構とをさらに具備する。これにより、例えば、移動機構により吐出ノズルを貯溜槽の供給口に位置合わせし、洗浄液を貯溜することができる。

本発明の一の形態では、前記第１の容器の内側底面を洗浄可能な第４のノズルと、前記第１の容器の側壁の内周面及び上面を洗浄するための第５のノズルと、前記吐出ノズルと前記第４のノズルと前記第５のノズルとを一体的に支持する支持体とをさらに具備する。これにより、第４のノズル及び第５のノズルを、例えばそれぞれ第１の容器の上方、第１の容器の側壁の上方に移動させるときにも、洗浄液を貯溜するために利用する移動機構を利用することができる。また、第４のノズル、第５のノズルをそれぞれ第１の容器の上方、第１の容器の側壁の上方に移動させた状態で第４のノズル及び第５のノズルから洗浄液を吐出することで、第１の容器の内側底面、及び、第１の容器の側壁の内周面及び上面を洗浄することができる。

本発明の一の形態では、前記供給口が少なくとも２つ形成されている。これにより、例えば、貯溜槽内に洗浄液を貯溜するときに、１つの供給口から注入を開始し、貯溜の途中で回転駆動部により第１の容器を回転させて、貯溜槽の別の供給口から注入することができる。従って、異なる供給口から洗浄液を貯溜槽内に行き渡らせることができるので、洗浄液の溜め込み時間を短縮することができる。

本発明に係る他の基板処理装置は、基板を回転可能に保持する保持部材と、基板を出し入れするための開口部を有し、前記保持部材により保持された基板を収容するとともに前記保持部材と同期して回転することが可能な第1の容器と、前記開口部に着脱可能に設けられ前記第１の容器を開閉するための蓋体と、前記第１の容器に装着されるとともに前記保持部材の周囲のうち少なくとも一部に設けられ、少なくとも前記蓋体を洗浄するための洗浄液を内部に貯溜する貯溜槽と、前記第１の容器を回転させ、その回転の遠心力により前記貯溜槽に貯溜された洗浄液を前記蓋体に向けて飛散させることが可能な回転駆動部と、前記第１の容器の外部と、前記貯溜槽に形成された供給口の直上との間で移動可能に設けられ、前記供給口を介して該貯溜槽の内部に前記洗浄液を吐出する吐出ノズルと、前記第１の容器の内側底面を洗浄可能な底面洗浄ノズルと、前記第１の容器の側壁の内周面及び上面を洗浄するための側壁洗浄ノズルと、前記吐出ノズルと前記底面洗浄ノズルと前記側壁洗浄ノズルとを一体的に支持する支持体とを具備する。

本発明では、移動機構により吐出ノズルを貯溜槽の供給口の直上に移動させて洗浄液を貯溜することができる。また、底面洗浄ノズル、側壁洗浄ノズルを例えばそれぞれ第１の容器の上方、第１の容器の側壁の上方に移動させるときにも同じ移動機構を利用することができる。また、底面洗浄ノズル、側壁洗浄ノズルをそれぞれ第１の容器の上方、第１の容器の側壁の上方に移動させた状態で底面洗浄ノズル及び側壁洗浄ノズルから洗浄液を吐出することで、第１の容器の内側底面、及び、第１の容器の側壁の内周面及び上面を洗浄することができる。

本発明に係る他の洗浄方法は、（ａ）基板を出し入れするための開口部を介して基板を収容する第１の容器に装着された貯溜槽に形成された第１の供給口に、洗浄液を吐出するための吐出ノズルを位置合わせする工程と、（ｂ）前記工程（ａ）の後に前記吐出ノズルから前記第１の供給口を介して前記貯溜槽内に洗浄液を吐出する工程と、（ｃ）前記工程（ｂ）の後に前記第１の容器を回転させることで、貯溜槽の前記第１の供給口とは別の部位に形成された第２の供給口に前記吐出ノズルを位置合わせする工程と、（ｄ）前記工程（ｃ）の後に前記吐出ノズルから前記第２の供給口を介して前記貯溜槽内に洗浄液を吐出する工程と、（ｅ）前記第１の容器の内側底面を洗浄可能な底面洗浄ノズルと、前記第１の容器の側壁の内周面及び上面を洗浄するための側壁洗浄ノズルとを一体的に移動させて、該第１の容器の側壁に対して位置合わせする工程と、（ｆ）前記第１の容器を第１の回転数で回転させながら、前記底面洗浄ノズル及び前記側壁洗浄ノズルから前記洗浄液を吐出する工程と、（ｇ）前記第１の容器を第１の回転数より速い第２の回転数で回転させることで、その回転の遠心力により、前記貯溜槽に貯溜された洗浄液を、前記開口部に着脱可能に設けられた前記第１の容器を開閉するための蓋体に向けて飛散させる工程とを具備する。

本発明では、工程（ａ）から工程（ｄ）において、第１の供給口及び第１の供給口とは異なる第２の供給口から洗浄液を貯溜槽内に行き渡らせることができるので、溜め込み時間を短縮することができる。また、工程（ｅ）において底面洗浄ノズル及び側壁洗浄ノズルを第１の容器に対して一体的に位置合わせする。このため、例えば異なる移動機構が不要であるので、低コスト化及び省スペース化を図ることができる。また、工程（ｆ）において第１の容器を第１の回転数で回転させながら洗浄液を吐出するので、第１の容器の全周に渡って洗浄することができる。さらに、工程（ｇ）において第１の容器を第１の回転数より速い第２の回転数で回転させることで、貯溜槽に貯溜された洗浄液を前記蓋体に向けて飛散させて蓋体を洗浄することができる。

本発明の一の形態では、（ｈ）前記工程（ｇ）の後に、第２の回転数より遅い第３の回転数で前記第１の容器を回転させることで、第１の容器を収容する第２の容器に設けられた洗浄ノズルから前記第１の容器の外周部に洗浄液を吐出する工程をさらに具備する。これにより、例えば、第１の容器の回転数を第３の回転数に抑えつつ第１の容器の外周部を洗浄することができる。

本発明の一の形態では、前記工程（ｈ）の後に、前記第３の回転数より速い第４の回転数で前記第１の容器を回転する工程をさらに具備する。これにより、例えば、第１のノズルから吐出された洗浄液を第１の容器の側壁の外周面において反射させて、第２の容器の内部の側面を洗浄することができる。

以上説明したように、本発明によれば、カップ等の容器やその容器を開閉するための蓋体を確実に洗浄することができ、当該洗浄処理のための作業の手間を省くことができる。これにより、蓋体からパーティクルが発生することを防止できる。

以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。

図１は本発明が適用されるＬＣＤ基板の塗布現像処理システムを示す平面図であり、図２はその正面図、また図３はその背面図である。

この塗布現像処理システム１は、複数のガラス基板Ｇを収容するカセットＣを載置するカセットステーション２と、基板Ｇにレジスト塗布及び現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部３と、露光装置３２との間で基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフェース部４とを備えており、処理部３の両端にそれぞれカセットステーション２及びインターフェース部４が配置されている。

カセットステーション２は、カセットＣと処理部３との間でＬＣＤ基板の搬送を行うための搬送機構１０を備えている。そして、カセットステーション２においてカセットＣの搬入出が行われる。また、搬送機構１０はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路１２上を移動可能な搬送アーム１１を備え、この搬送アーム１１によりカセットＣと処理部３との間で基板Ｇの搬送が行われる。

処理部３には、カセットステーション２におけるカセットＣの配列方向（Ｙ方向）に垂直方向（Ｘ方向）に延設された主搬送部３ａと、この主搬送部３ａに沿って、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）を含む各処理ユニットが並設された上流部３ｂ及び現像処理ユニット（ＤＥＶ）を含む各処理ユニットが並設された下流部３ｃとが設けられている。

主搬送部３ａには、Ｘ方向に延設された搬送路３１と、この搬送路３１に沿って移動可能に構成されガラス基板ＧをＸ方向に搬送する搬送シャトル２３とが設けられている。この搬送シャトル２３は、例えば支持ピンにより基板Ｇを保持して搬送するようになっている。また、主搬送部３ａのインターフェース部４側端部には、処理部３とインターフェース部４との間で基板Ｇの受け渡しを行う垂直搬送ユニット７が設けられている。

上流部３ｂにおいて、カセットステーション２側端部には、基板Ｇに洗浄処理を施すスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０が設けられ、このスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０の上段に基板Ｇ上の有機物を除去するためのエキシマＵＶ処理ユニット（ｅ−ＵＶ）１９が配設されている。

スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０の隣には、ガラス基板Ｇに対して熱的処理を行うユニットが多段に積み上げられた熱処理系ブロック２４及び２５が配置されている。これら熱処理系ブロック２４と２５との間には、垂直搬送ユニット５が配置され、搬送アーム５ａがＺ方向及び水平方向に移動可能とされ、かつθ方向に回動可能とされているので、両ブロック２４及び２５における各熱処理系ユニットにアクセスして基板Ｇの搬送が行われるようになっている。なお、上記処理部３における垂直搬送ユニット７についてもこの垂直搬送ユニット５と同一の構成を有している。

図２に示すように、熱処理系ブロック２４には、基板Ｇにレジスト塗布前の加熱処理を施すベーキングユニット（ＢＡＫＥ）が２段、ＨＭＤＳガスにより疎水化処理を施すアドヒージョンユニット（ＡＤ）が下から順に積層されている。一方、熱処理系ブロック２５には、基板Ｇに冷却処理を施すクーリングユニット（ＣＯＬ）が２段、アドヒージョンユニット（ＡＤ）が下から順に積層されている。

熱処理系ブロック２５に隣接してレジスト処理ブロック１５がＸ方向に延設されている。このレジスト処理ブロック１５は、基板Ｇにレジストを塗布するレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）と、減圧により前記塗布されたレジストを乾燥させる減圧乾燥ユニット（ＶＤ）と、本発明に係る基板Ｇの周縁部のレジストを除去するエッジリムーバ（ＥＲ）とが一体的に設けられて構成されている。このレジスト処理ブロック１５には、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）からエッジリムーバ（ＥＲ）にかけて移動する図示しないサブアームが設けられており、このサブアームによりレジスト処理ブロック１５内で基板Ｇが搬送されるようになっている。

レジスト処理ブロック１５に隣接して多段構成の熱処理系ブロック２６が配設されており、この熱処理系ブロック２６には、基板Ｇにレジスト塗布後の加熱処理を行うプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）が３段積層されている。

下流部３ｃにおいては、図３に示すように、インターフェース部４側端部には、熱処理系ブロック２９が設けられており、これには、クーリングユニット（ＣＯＬ）、露光後現像処理前の加熱処理を行うポストエクスポージャーベーキングユニット（ＰＥＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。

熱処理系ブロック２９に隣接して現像処理を行う現像処理ユニット（ＤＥＶ）がＸ方向に延設されている。この現像処理ユニット（ＤＥＶ）の隣には熱処理系ブロック２８及び２７が配置され、これら熱処理系ブロック２８と２７との間には、上記垂直搬送ユニット５と同一の構成を有し、両ブロック２８及び２７における各熱処理系ユニットにアクセス可能な垂直搬送ユニット６が設けられている。また、現像処理ユニット（ＤＥＶ）端部の上には、ｉ線処理ユニット（ｉ―ＵＶ）３３が設けられている。

熱処理系ブロック２８には、クーリングユニット（ＣＯＬ）、基板Ｇに現像後の加熱処理を行うポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。一方、熱処理系ブロック２７も同様に、クーリングユニット（ＣＯＬ）、ポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。

インターフェース部４には、正面側にタイトラー及び周辺露光ユニット（Ｔｉｔｌｅｒ／ＥＥ）２２が設けられ、垂直搬送ユニット７に隣接してエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５が、また背面側にはバッファカセット３４が配置されており、これらタイトラー及び周辺露光ユニット（Ｔｉｔｌｅｒ／ＥＥ）２２とエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５とバッファカセット３４と隣接した露光装置３２との間で基板Ｇの受け渡しを行う垂直搬送ユニット８が配置されている。この垂直搬送ユニット８も上記垂直搬送ユニット５と同一の構成を有している。

以上のように構成された塗布現像処理システム１の処理工程については、先ずカセットＣ内の基板Ｇが処理部３部における上流部３ｂに搬送される。上流部３ｂでは、エキシマＵＶ処理ユニット（ｅ−ＵＶ）１９において表面改質・有機物除去処理が行われ、次にスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０において、基板Ｇが略水平に搬送されながら洗浄処理及び乾燥処理が行われる。続いて熱処理系ブロック２４の最下段部で垂直搬送ユニットにおける搬送アーム５ａにより基板Ｇが取り出され、同熱処理系ブロック２４のベーキングユニット（ＢＡＫＥ）にて加熱処理、アドヒージョンユニット（ＡＤ）にて、ガラス基板Ｇとレジスト膜との密着性を高めるため、基板ＧにＨＭＤＳガスを噴霧する処理が行われる。この後、熱処理系ブロック２５のクーリングユニット（ＣＯＬ）による冷却処理が行われる。

次に、基板Ｇは搬送アーム５ａから搬送シャトル２３に渡される。そしてレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）に搬送され、レジストの塗布処理が行われた後、減圧乾燥処理ユニット（ＶＤ）にて減圧乾燥処理、エッジリムーバ（ＥＲ）にて基板周縁のレジスト除去処理が順次行われる。

次に、基板Ｇは搬送シャトル２３から垂直搬送ユニット７の搬送アームに渡され、熱処理系ブロック２６におけるプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）にて加熱処理が行われた後、熱処理系ブロック２９におけるクーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。続いて基板Ｇはエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５にて冷却処理されるとともに露光装置にて露光処理される。

次に、基板Ｇは垂直搬送ユニット８及び７の搬送アームを介して熱処理系ブロック２９のポストエクスポージャーベーキングユニット（ＰＥＢＡＫＥ）に搬送され、ここで加熱処理が行われた後、クーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。そして基板Ｇは垂直搬送ユニット７の搬送アームを介して、現像処理ユニット（ＤＥＶ）において基板Ｇは略水平に搬送されながら現像処理、リンス処理及び乾燥処理が行われる。

次に、基板Ｇは熱処理系ブロック２８における最下段から垂直搬送ユニット６の搬送アーム６ａにより渡され、熱処理系ブロック２８又は２７におけるポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）にて加熱処理が行われ、クーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。そして基板Ｇは搬送機構１０に渡されカセットＣに収容される。

図４は、本発明の一実施の形態に係るレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）を示す断面図であり、図５はその平面図である。

このレジスト塗布処理ユニットＣＴには、基板Ｇを収容する回転カップが設けられ、この回転カップ５０の上部には、上部に基板Ｇを出し入れするための開口部５０ｂが形成されている。この開口部５０ｂには蓋体３７が着脱自在となっており、蓋体３７に取り付けられた把持部３７ａをロボットアーム３６が把持して上下動させることにより、蓋体を着脱するようになっている。

回転カップ５０の近傍には、レジスト液供給機構４１と、洗浄液供給機構５７とが配置されている。

レジスト液供給機構４１は、図５に示すように、回転カップ５０内に収容された基板Ｇにレジスト液を吐出するレジストノズル５５を有し、このレジストノズル５５は保持体３８によってその先端で保持されている。保持体３８は、その他端においてモータ３９に接続されており、このモータ３９により水平面内でθ方向に回動するようになっている。レジストノズル５５には図示しないチューブが接続されており、図示しないレジスト収容タンクからそのチューブを介してレジストノズル５５にレジストが供給されるようになっている。

洗浄液供給機構５７は、回転カップ５０内に洗浄液を吐出する洗浄液ノズル４４を有し、この洗浄液ノズル４４は水平支持体４２によって支持されている。洗浄液としては例えばシンナを使用することができる。この水平支持体４２は、モータ４３に接続されており、このモータ４３により水平面内でθ方向に回動するようになっている。洗浄液ノズル４４には図示しない洗浄液の収容タンクから洗浄液が供給されるようになっている。

回転カップ５０内には、基板Ｇを例えば真空吸着して保持するためのスピンチャック５１が配置されている。このスピンチャック５１は、回転軸部材４８に取り付けられており、回転軸部材４８はモータ等を有する駆動部４０に接続されスピンチャック５１を回転させるようになっている。回転軸部材４８の下部には、例えば真空ポンプ５３に接続されたバキュームシール部５４が設けられ、回転軸部材４８の内部には図示しない排気路が形成されている。これによりスピンチャック５１の真空チャックが可能となっている。

また、回転軸部材４８は駆動部４０に含まれるエアシリンダ等により昇降可能となっており、蓋体３７が回転カップ５０から外された状態で、スピンチャック５１を回転カップ５０の開口部５０ｂから出没させるようになっている。これにより、後述するように図示しないサブアームとスピンチャック５１との間で基板Ｇの受け渡しが行われるようになっている。スピンチャック５１は図４に示す状態で最下の位置であり、この位置において回転カップ５０の底部５０ｃに取り付けられたＯリング６０に当接するようになっている。

また、回転軸部材４８にはロータベース４９が取り付けられており、このロータベース４９は回転カップ５０の中央に突起して設けられた筒体５０ａに固定されている。このような構成により、駆動部４０の回転駆動によって回転軸部材４８、ロータベース４９、回転カップ５０及び蓋体３７が一体となって回転されるようになっている。

図６を参照して、回転カップ５０の底部５０ｃにおいて上記最下の位置で配置されるスピンチャック５１の周囲には、前述した洗浄液供給機構５７によって供給される洗浄液を貯溜する貯溜槽５２が配置されている。この貯溜槽５２は、筐体に囲われた内部５２ｄに洗浄液を貯溜できる構造になっている。貯溜槽５２の上面には洗浄液を当該内部５２ｄに供給するための供給口５２ｂ（図５参照）と、後述するように貯溜した洗浄液を吐出する複数の孔５２ａとが形成されている。これらの孔５２ａは、例えば回転カップ５０の回転の回転軸方向より回転中心側に向かって斜めに形成されている。貯溜槽５２は、内側に設けられた凹部５２ｃに複数のネジ５６が螺入されて回転カップ５０の底部５０ｃに固定されている。

供給口５２ｂは、図５に示す平面方向から見て、洗浄液供給機構５７の洗浄液ノズル４４の先端部が移動する軌跡上に設けられている。これにより、水平支持体４２符号Ｍで示す位置において洗浄液ノズル４４から吐出された洗浄液が供給口５２ｂに注がれるようになっている。図７は、その供給口５２ｂ付近を拡大した平面図である。供給口５２ｂは、孔５２ａの配置位置より内側（回転カップ５０の回転中心側）に配置されている。このような配置関係とした理由は、後述するように回転カップ５０を回転させたときに、供給口５２ｂから洗浄液が吐出されてしまうことを防止するためである。すなわちこのような配置関係により、回転カップ５０を回転させたときに内部５２ｄに貯溜された洗浄液が遠心力によりその内部５２ｄにおいて外側に流れるので、供給口５２ｂより外側に配置された複数の孔５２ａのみから洗浄液を吐出することができる。

回転カップの下部の筒体５０ａには、例えば窒素ガスを噴出する窒素ガス供給ノズル４５が設けられている。この窒素ガスはガス管４６を介して窒素ガス供給部４７から供給されるようになっている。このような窒素ガスの噴出は、例えば回転カップ５０内の空気を図示しない排気装置で排気したときに、回転カップ５０内を負圧にならないようにするとき等に行われる。

次に、以上のように構成されたレジスト塗布処理ユニットＣＴの動作について説明する。

蓋体３７がロボットアーム３６により持ち上げられた状態で、基板が図示しないサブアームにより回転カップ５０の真上まで搬送される。そうするとスピンチャック５１が開口部５０ｂを介して回転カップ５０の上端より高い位置に上昇して、当該サブアームから基板を受け取る。基板を受け取ったスピンチャック５１が回転カップ５０の開口部５０ｂを介して最下の位置まで下降することで、基板Ｇが回転カップ５０内に収容される。このとき、レジストノズル５５及び洗浄液ノズル４４は回転カップ５０の外側で待機している。

次に、レジストノズル５５が図５において破線で示すように基板Ｇ上の中央まで移動し、レジストノズル５５から所定の量のレジスト液が基板Ｇ上に供給される。そして蓋体３７が回転カップ５０に被せられ、回転カップ５０とともにスピンチャック５１が所定の回転速度で回転することにより、その遠心力で基板表面の全面にレジストが塗布される。

次に、再度蓋体３７がロボットアーム３６により持ち上げられ、スピンチャック５１が上昇し、スピンチャック５１に保持された基板が図示しないサブアームにより取り上げられる。基板Ｇが取り上げられるとスピンチャック５１が最下の位置まで下降する。

次に、洗浄液ノズル４４が図５において符号Ｍで示す位置まで移動し、洗浄液が貯溜槽５２に注がれる。洗浄液が貯溜されると、洗浄液ノズル４４は回転カップ５０の外側に退避し、再び蓋体３７が回転カップ５０に被せられる。そして、回転カップ５０が所定の回転速度で回転することで、図６に示すように貯溜槽５２に貯溜された洗浄液２１が遠心力で外側に流れ、その流れる力によりそのまま孔５２ａから洗浄液が上方に吐出され飛散する。孔５２ａが斜めに形成されていることから、洗浄液の吐出方向はその斜め方向になる。これにより、蓋体３７において基板Ｇの外側付近の領域（符号Ａで示す領域、すなわち破線より右側の領域）まで洗浄液を及ばせることができる。

回転カップ５０内で飛散するレジストの多くはＡ側の領域である。レジストが遠心力により基板上を拡散して基板の外側から飛散するからである。Ａと逆側の領域であるＢの領域はレジストの飛散が少ない。したがって、蓋体３７においてＡ側の領域を洗浄できればよいことになる。

このように蓋体３７におけるＡ側の領域を洗浄するためには、貯溜槽５２の幅（図６で示す貯溜槽５２の左右方向の長さ）、孔５２ａの角度、あるいは回転カップ５０の回転速度等にもよるが、これらの各パラメータは適宜変更して設計することが可能である。

以上のようにして、孔５２ａから飛散して蓋体３７に付着した洗浄液は、遠心力により蓋体の回転外側に流れる。これにより、蓋体３７に付着したレジスト液を除去し洗浄することができる。また、蓋体３７に付着した洗浄液は、そのまま遠心力により回転カップ５０まで達するので、回転カップ５０をも洗浄することができる。

本実施の形態では、貯溜槽５２がスピンチャック５１の周囲に設けられているので、従来のようにスピンチャックが飛散する洗浄液を遮ることがなく、蓋体３７に付着したレジストを除去及び洗浄することができる。また、従来のようにカップの洗浄の都度、洗浄治具等の特別の装置を着脱する必要がなくなり、洗浄処理のための作業の手間を省くことができる。

次に、図８を参照して貯溜槽の他の実施の形態について説明する。この貯溜槽６２において、上記の実施の形態で示した貯溜槽５２と異なるところは、洗浄液を吐出するための手段が孔ではなく、スリット６２ａとしたことである。このスリット６２ａは、例えば図示するように基板Ｇの各辺に沿って形成されており、貯溜槽の内部（図６における符号５２ｄで示す。）と貫通している。このような構成によっても、蓋体３７の所定の領域を確実に洗浄することができるとともに、洗浄治具等の特別の装置を着脱する必要がなくなり、洗浄処理のための作業の手間を省くことができる。

図９は、他の実施の形態に係る回転カップ内部の拡大断面図である。

この図に示す例では、洗浄液を吐出する孔７２ａが貯溜槽７２の上面において垂直方向に形成されている。そして、この孔７２ａに洗浄液２１を吐出するためのノズル７２ｂが装着されている。このノズル７２ｂは、その先端が回転カップ５０の回転軸方向に対して回転中心側に向けられて装着されている。これにより、回転中心側に向けて洗浄液を吐出することができ蓋体３７の所定の領域を洗浄することができる。

次に、図１０、図１１及び図１２を参照して貯溜槽の他の実施の形態について説明する。図１０及び図１１に示すように、本実施の形態に係る貯溜槽８２の内部には複数の仕切部材８９が設けられている。これらの仕切部材８９は基板Ｇの周囲方向に配列され、これにより貯溜槽８２の内部が複数の室８３に区画されている。図１０及び図１２に示すように、各仕切部材８９は、板状をなし、仕切部材８９の配列方向（この例では基板Ｇの周囲方向）に対して斜めに傾けて（図１２において角度θで示す）設けられている。

図１２に示すように、この仕切部材８９は、その側面８９ａ及び８９ｂのうち上側面８９ａが貯溜槽８２の内部上面８２ｅ（図１１参照）に当接している。一方、横側面８９ｂと貯溜槽８２の内部側面８２ｇとは当接しておらず隙間８５（図１１参照）が設けられている。この隙間８５は貯溜槽８２の内部全体で洗浄液を流通させるために設けられたものであり、複数の室８３同士を連通させるものである。

なお、本実施の形態に係る貯溜槽８２における洗浄液を吐出させる孔８２ａは、上記各実施の形態における孔より個数が多く設けられている。

以上のように、仕切部材８９を設けることにより、例えば洗浄液供給機構５７（図５参照）により洗浄液を貯溜槽８２内部に貯溜させるときには、洗浄液を隙間８５を通して全体に行きわたらせる。そして洗浄処理時においては、回転カップ５０を回転させて洗浄液が遠心力で外周側に流れるので、洗浄液は複数の室８３を流通することなく仕切部材８９で仕切られた各室８３に滞留する。これにより、回転カップ５０の回転により生じる、洗浄液と貯溜槽８２との相対的な移動を極力抑えることができる。すなわち、貯溜槽８２の内部に貯溜されている洗浄液は慣性により、回転する貯溜槽８２に対して静止しようとする性質があるが、本実施の形態では、そのような問題を回避することができ、洗浄液の吐出の勢い、吐出量が増大し、良好な洗浄液の吐出が行われる。

また、仕切部材８９は、その配列方向に対して斜めに傾けて配置されているので、貯溜槽８２内部の洗浄液を回転カップ５０の回転の方向に合わせて流通させることができる。これにより、さらに良好な洗浄液の吐出が望める。

本発明は以上説明した実施の形態には限定されるものではなく、種々の変形が可能である。

例えば孔５２ａの数は必ずしも複数でなく１個であってもよい。また図８における４つのスリットのうち、１つのスリット６２ａを数個の長孔としてもよい。

また、レジスト塗布処理ユニットＣＴにおいてレジストの塗布の方法は、上記の実施の形態に限られず、ノズルを基板Ｇ上で移動させながらレジストを吐出する、いわゆるスキャン塗布であってもよい。

また、図１１における隙間８５を設けず、その代わりに仕切部材８９に洗浄液を流通させる連通口を穿設するようにしてもよい。

さらに、上記の実施の形態では基板として液晶表示デバイス用のガラス基板を例に挙げたが、回転カップに蓋体が設けられているものであれば、半導体ウェハ基板にも本発明を適用することができる。

図１３は、別の実施の形態に係るレジスト塗布処理ユニットの回転カップ１６２の一部を示す断面図である。なお、本実施の形態について上述した実施の形態と同一の構成部材には同一の符号を符し、その説明を省略し異なる箇所を中心に説明する。

固定カップ１６１は、回転カップ１６２を収容し、後述するように洗浄時に内部に流れる気流と洗浄液の流れとを分離するために設けられる。

固定カップ１６１は、上端部に開口を有し、外周部に気流制御部１８０を有した略筒状とされている。気流制御部１８０は、例えば、外側へ向けて下方に傾斜する内壁１８０ａと、内壁１８０ａの下端となる高さＡで折り返して内側へ向けて下方に傾斜する内壁１８０ｂと、更に折り返して内側へ向けて上方に傾斜する内壁１８０ｃとを有して構成されている。

気流制御部１８０の上部外面には、洗浄液を吐出するための第１のノズルとしての洗浄ノズル２０３が設けられたノズル挿入部１８５が固定されている。洗浄ノズル２０３は、洗浄液供給管を介して洗浄液を収容するための収容タンク２２０に接続されている。洗浄時には、洗浄ノズル２０３に洗浄液が供給され回転カップ１６２の外壁１６２ｂなどが清浄される。なお、洗浄用の洗浄ノズル２０３を設ける代わりに、ノズル挿入部１８５に清浄用のノズル挿入用の孔を形成し別のノズルを孔に挿入して洗浄液を吐出して洗浄してもよい。

ノズル挿入部１８５の上面には、例えばＶシール１０２が埋設されている。ノズル挿入部１８５の上には、内壁１８６ｂを有する円盤状の固定カップ蓋１８６がＶシール１０２を介して着脱自在に配置されている。固定カップ蓋１８６は、内壁１８６ｂが内壁１８０ａとほぼ同一面上となるように配置されている。

固定カップ蓋１８６の上壁１８６ａには、略中央に外部の気体を導入する導入口１８２が形成されている。なお、固定カップ蓋１８６に形成される導入口の数や形状については、例えば、導入口１８２の面積の半分の大きさの導入口を二つ形成するようにしてもよい。

円盤状の蓋体１３７は、固定カップ蓋１８６の上壁１８６ａから第１の間隔ｈ１をあけて配置されている（以下、第１の間隔ｈ１の隙間を「第１流路」と略称する）。回転カップ１６２の上部周縁は、内壁１８０ａに対し第１の間隔ｈ１より狭い第２の間隔ｈ２をあけて配置されている（以下、第２の間隔ｈ２の隙間を「第２流路」と略称する）。回転カップ１６２の外壁１６２ｂは、内壁１８０ａに対向するとともに下方に向けて内壁１８０ａとの間隔が広がるように設けられている。内壁１８０ｃの上部には、環状の突出部材としてのガード部材１９７が略水平外向きに突設されている。

高さＡは、回転カップ１６２の外側底面１６２ａの高さＢより下方となるように構成されている。なお、例えば、高さＡが回転カップ１６２の最低面の水平高さより低くなるように構成してもよい。

固定カップ１６１の底面には、導入口１８２から固定カップ１６１内に導入された気体を排出するための排気口１８３ａが形成された排気管１８３が、例えば４個下方に向けて突設されている。排気管１８３は図示しない排気ダクトに接続されている。

回転カップ１６２の側周壁下部には、回転カップ１６２の回転によって固定カップ１６１の内壁１８０ａ側へレジスト液を排出可能な排出孔１０４が形成されている。

気流制御部１８０の底部には、排出孔１０４から排出されたレジスト液を下方に廃液する廃液口１８１ｄを有する廃液管１８１が、例えば４個下方に向けて突設されている。廃液管１８１は図示しない廃液管に接続されている。

固定カップ１６１は、廃液口１８１ｄより内側であって排気口１８３ａより外側に、レジスト液を廃液する廃液口１９４ａが形成された廃液管１９４を有している。廃液口１９４ａの直径は、廃液口１８１ｄの直径より小さく設定されている。

固定カップ１６１の内底面１６１ｂ上には、円盤状の隔壁１９２が固定されている。隔壁１９２の外周部には、固定カップ１６１の内底面１６１ｂの形状に沿うようにステップが形成されており、隔壁１９２の外周縁部は、内壁１８０ｃの傾斜に沿って斜下方に折り曲げられている。固定カップ１６１の内底面１６１ｂと回転カップ１６２の外側底面１６２ａとの間の空間は、隔壁１９２により、上下にほぼ均等に隔てられている。排気口１８３ａと回転カップ１６２の底面との間に、例えば、１２個の貫通孔１９６が形成された整流板１９５が配置されている。整流板１９５の貫通孔１９６と排気口１８３ａとが上下方向に重ならないようにずらして整流板１９５が配置されている。

固定カップ１６１の底面には、廃液管１８１と廃液管１９４との間に、第２のノズルとしての洗浄ノズル２０５及び第３ノズルとしての洗浄ノズル２０６が円周上に複数貫着されている。洗浄ノズル２０５、洗浄ノズル２０６は、それぞれ洗浄液供給管を介して洗浄液を収容するための収容タンク２２０に接続されている。

洗浄ノズル２０５は、回転カップ１６２の外側底面１６２ａを洗浄するために用いられる。洗浄ノズル２０５の先端部は、隔壁１９２を貫通し回転カップ１６２の外側底面１６２ａに向けて突出している。このため、洗浄ノズル２０５から外側底面１６２ａに直接洗浄液を吐出し、外側底面１６２ａを洗浄することができる。

洗浄ノズル２０６は、気流制御部１８０の内壁１８０ｃを洗浄するために用いられる。洗浄ノズル２０６の先端部は、隔壁１９２より下方に位置しており、この先端部の側面には洗浄液を吐出するための図示しない吐出口が形成されている。このため、洗浄ノズル２０６から吐出される洗浄液は、内壁１８０ｃに吐出される。従って、洗浄ノズル２０６から洗浄液を吐出し内壁１８０ｃを洗浄することができる。

貯溜槽５２の内壁の材質には、例えば、アルミニウム等の金属を用いることができる。これにより、合成樹脂製などを用いる場合に比べ回転による変形を防止することができるので、洗浄液を安定して供給することができる。

洗浄ノズル２０３、洗浄ノズル２０５、洗浄ノズル２０６及び収容タンク２２０などにより洗浄機構が構成されている。

図１４は、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）の平面図である。図１４に示すように、供給口５２ｂとで回転カップ１６２の中心を挟むように貯溜槽５２に供給口１５２ｂが形成されている。

洗浄液供給機構１５７は、支持体としての水平支持体１４２に支持された吐出ノズルとしての洗浄液ノズル４４を有している。水平支持体１４２に第５のノズルとしての側壁洗浄ノズル２０１ａが支持されている。洗浄液ノズル４４は、モータ４３の駆動によりモータ４３の軸の回りに、少なくとも回転カップ１６２の外部と供給口５２ｂの直上（ポジションＰ１）との間で回動可能に構成されている。従って、洗浄液ノズル４４がポジションＰ１、すなわち、供給口５２ｂの直上に位置しているときに、洗浄液ノズル４４から供給口５２ｂ内に洗浄液を吐出することができる。

この同じモータ４３の駆動により洗浄液ノズル４４を側壁洗浄ノズル２０１ａと後述する底面洗浄ノズルと一体的にポジションＰ２にさらに移動させることができる。洗浄液ノズル４４がポジションＰ２に位置しているときは、側壁洗浄ノズル２０１ａの開口端２０１ｂが、回転カップ１６２の側壁の内面側の上方に位置する。

図１５は、本実施形態に係る洗浄液供給機構１５７の平面図である。図１５に示すように、水平支持体１４２により、洗浄液ノズル４４及び第４のノズルとしての底面洗浄ノズル２０１が支持されている。底面洗浄ノズル２０１の先端部には、洗浄液を下方に吐出するためのスリット２０１ｃが形成されている。底面洗浄ノズル２０１における長手方向の略中央には、側壁洗浄ノズル２０１ａが接続されている。側壁洗浄ノズル２０１ａは、回転カップ１６２を洗浄するために用いられる。側壁洗浄ノズル２０１ａは、先端の開口端２０１ｂが例えばモータ４３側に向くように湾曲している。底面洗浄ノズル２０１及び洗浄液ノズル４４は、洗浄液の供給を切り替えるための切り替え弁２２１を介して洗浄液を収容するための収容タンク２２２に接続されている。

従って、底面洗浄ノズル２０１内に供給される洗浄液は、側壁洗浄ノズル２０１ａと底面洗浄ノズル２０１との分流点Ｖにおいて、それぞれ側壁洗浄ノズル２０１ａ側とスリット２０１ｃ側とに分流され、開口端２０１ｂ、スリット２０１ｃから吐出される。また、モータ４３により洗浄液ノズル４４、底面洗浄ノズル２０１及び側壁洗浄ノズル２０１ａが一体的に移動可能とされている。このため、異なる移動機構が不要なので、簡単な構造となり、低コスト化及び省スペース化を図ることができる。

なお、本実施形態では、水平支持体１４２の長手方向略中央に側壁洗浄ノズル２０１ａが固定されている例を示した。しかし、例えば、側壁洗浄ノズル２０１ａをモータ４３側に偏倚して接続するようにし、スリット２０１ｃの長さを長くしてもよい。このようにすることで、より広い領域に洗浄液を供給して洗浄を効率的に行うことができる。

次に、基板にレジストを塗布するときの回転カップ１６２の作用などについて図１３を参照しながら説明する。

回転カップ１６２の回転時には、固定カップ１６１内に流入する気体は導入口１８２から第１流路に流入する。第１流路に流入した気体は、固定カップ蓋１８６の内壁１８６ｂ（傾斜面）に沿って第２流路に流入する。第２流路の間隔ｈ２は第１流路の間隔ｈ１より小さく設定されているため、第２流路での流速は第１流路での流速より速くなる。

第２流路で加速された気体は、内壁１８０ａ、内壁１８０ｂ、内壁１８０ｃの傾斜面に沿って流れる。すなわち、気流制御部１８０内で気体は矢印Ｃ方向の渦流となる。

気流制御部１８０内で生じたレジストミストは、ガード部材１９７により排気口１８３ａ側への流入が抑制され、廃液管１８１により下方に流出される。

矢印Ｃ方向に流れる渦流のうち隔壁１９２の底面側に流入した気体は、例えば、整流板１９５の貫通孔１９６により流速が均一化され、排気口１８３ａから排気される。

次に、本実施形態の回転カップ１６２及び固定カップ１６１の洗浄手順について図１６に示すフローチャートを参照しながら説明する。

図１７に示すようにスピンチャック１５１を上昇させて待機させる。図１４に示すモータ４３を駆動し洗浄液ノズル４４をポジションＰ１に位置合わせする。位置合わせ後、洗浄液ノズル４４から供給口５２ｂ内に洗浄液を吐出し、洗浄液を貯溜槽５２内に貯溜する（ステップ１（Ｓ１））。

次いで、図１４に示す回転カップ１６２を１８０度回転させる（Ｓ２）。これにより、供給口１５２ｂが、洗浄液ノズル４４の直下に位置合わせされる。

続いて、ステップ１（Ｓ１）と同様に洗浄液ノズル４４から供給口１５２ｂ内に洗浄液を吐出し貯溜槽５２内に洗浄液を貯溜する（Ｓ３）。これにより、供給口５２ｂ、１５２ｂから貯溜槽５２内に洗浄液を行き渡らせることができるので、溜め込み時間を短縮することができる。

図１４に示すように、モータ４３を駆動し洗浄液ノズル４４をポジションＰ２に位置合わせ（スキャンイン）する。続いて、開口端２０１ｂ、スリット２０１ｃ、洗浄ノズル２０３、洗浄ノズル２０５から洗浄液を吐出させる。このとき、回転カップ１６２を例えば第１の回転数として５ｒｐｍで回転させる（Ｓ４）。つまり、回転カップ１６２を回転させながら、各ノズルから洗浄液を吐出させることにより各部位が洗浄される。具体的には、図１７に示すように、開口端２０１ｂから回転カップ１６２の側壁の内周面１６２ｎ及び上端面１６２ｔに洗浄液が吐出される。また、スリット２０１ｃから回転カップ１６２の内側底面１６２ｃに洗浄液が吐出される。また、洗浄ノズル２０３から外壁１６２ｂに洗浄液が吐出される。さらに洗浄ノズル２０５から回転カップ１６２の外側底面１６２ａに洗浄液が吐出される。このようにして各面が洗浄される。

次いで、洗浄液ノズル４４を固定カップ１６１の外部に待機させて、蓋体１３７を閉じる（Ｓ５）。

続いて、上述した実施形態と同様に回転カップ１６２内に例えば窒素ガスを噴出する（Ｓ６）。

次に、例えば第２の回転数としての７００ｒｐｍで回転カップ１６２を回転させる（Ｓ７）。これにより、例えば、回転カップ１６２を回転させながら、貯溜槽５２から洗浄液を噴出させて蓋体１３７の下面の周縁部１３７ａを洗浄することができる。窒素ガスを噴出することにより洗浄液を排出孔１０４から回転カップ１６２外へ排出することができる。以下、洗浄が終了するまで窒素ガスの噴出を継続する。

続いて、例えば第３の回転数としての１００ｒｐｍで回転カップ１６２を回転させるとともに、洗浄ノズル２０５、洗浄ノズル２０６及び洗浄ノズル２０３から洗浄液を吐出させる（Ｓ８）。これにより、回転カップ１６２の回転数を抑えつつ回転カップ１６２の外側底面１６２ａ、固定カップ１６１の内壁１８０ｃ及び回転カップ１６２の外壁１６２ｂに残る汚れを洗浄することができる。

このように、まず、ステップ４において回転カップ１６２に付着したレジスト等の汚れを除去する。そして、ステップ７において蓋体１３７を洗浄した際に回転カップ１６２や固定カップ１６１に付着した汚れを、ステップ８においてさらに除去して綿密に洗浄処理することによって、より確実にパーティクルの発生等を防止することができる。

次いで、回転カップ１６２の回転数を例えば第４の回転数としての３００ｒｐｍに上げるとともに、洗浄ノズル２０３から洗浄液を外壁１６２ｂに吐出する（Ｓ９）。これにより、洗浄ノズル２０３から吐出した洗浄液を回転カップ１６２の回転により外壁１６２ｂで反射させ反射した洗浄液で内壁１８０ａを洗浄することができる。

なお、本実施形態では、ステップ６（Ｓ６）の後にステップ７（Ｓ７）を行う例を示した。しかし、この２つのステップの順序はこれに限定されず、例えば、ステップ６における窒素ガスの噴出開始と略同時又は後にステップ７における回転カップ１６２の回転を開始するようにしてもよい。

図１８に示すように、例えば、貯溜槽５２の角部が回転カップ１６２の側壁から回転カップ１６２の中心側に離れるように貯溜槽５２の形状を変形し、かつ、これらの角部により多くの孔５２ａを形成するようにしてもよい。このようにすることで、洗浄時に孔５２ａから噴出する洗浄液が遠心力により外周側に飛散しても図１３に示す蓋体１３７の底面周縁部１３７ａを確実に洗浄することができる。また、孔５２ａの数を多くすることで、より多くの洗浄液を底面周縁部１３７ａに飛散させて効率的に洗浄することができる。なお、貯溜槽５２を変形する代わりに、貯溜槽５２における孔５２ａの位置を回転カップ１６２の中心側にすることで、同様な効果を得ることができる。

さらに、上記実施形態では、貯溜槽５２の供給口５２ｂ、１５２ｂが貯溜槽５２の辺の略中央に形成されている例を示した。しかし、供給口５２ｂ、１５２ｂの位置についてはこれに限定されず、例えば、貯溜槽５２において最も遠心力の大きい各角部付近に形成するようにしてもよい。このようにすれば、例えば、洗浄液を貯溜槽５２に貯溜した後回転カップ１６２を回転させることで、遠心力を効果的に利用して洗浄液を貯溜槽５２内に分散させることができる。

また、上記実施形態では、貯溜槽５２の内壁の材質に、例えば、アルミニウムが用いられている例を示した。しかし、貯溜槽５２の内壁はこれに限定されず、例えば、内壁にフッ素コーティングを施すようにしてもよい。このようにすることで、洗浄液の滑りをよくし更に洗浄液の貯溜時間を短縮することができる。また、洗浄液を容易に飛散させることができる。

さらに、上記実施形態では、洗浄液ノズル４４を供給口５２ｂに位置合わせし洗浄液を吐出する例を示した。しかし、例えば、図１９に示すように、貯溜槽５２に供給口５２ｂより大きい径の係合溝５２ｆを形成し、洗浄液ノズル４４の先端部に係合溝５２ｆに係合する例えばゴム製の係合部４４ｆを設けるようにしてもよい。そして、図１６に示すステップ１又はステップ３において洗浄液を貯溜槽５２に吐出するときに、例えば、水平支持体１４２を下降させ、係合溝５２ｆに係合部４４ｆを係合させる。このようにすることで、例えば、洗浄液貯溜時に、洗浄液が貯溜槽５２外に漏出することを防止できるとともに、吐出速度を速めることにより、より短時間に洗浄液を貯溜することができる。

本発明の一実施の形態に係る塗布現像処理システムの全体構成を示す平面図である。図１に示す塗布現像処理システムの正面図である。図１に示す塗布現像処理システムの背面図である。一実施の形態に係るレジスト塗布処理ユニットの断面図である。図４に示すレジスト塗布処理ユニットの平面図である。一実施の形態に係る貯溜槽を説明するための回転カップ内部を示す拡大断面図である。貯溜槽における洗浄液の供給口付近の拡大平面図である。他の実施の形態に係る貯溜槽を説明するための回転カップ及びその内部の平面図である。他の実施の形態に係る貯溜槽を説明するための回転カップ内部を示す拡大断面図である。他の実施の形態に係る貯溜槽を説明するための回転カップ内部の一部を示す平面図である。図１０に示す貯溜槽の断面図である。図１０に示す仕切部材の斜視図である。別の実施の形態に係る回転カップの一部を示す断面図である。別の実施の形態に係るレジスト塗布処理ユニットの平面図である。別の実施の形態に係る洗浄液供給機構の平面図である。別の実施の形態に係る洗浄液供給方法を示すフローチャートである。図１６に示す回転カップ洗浄時の回転カップ及び固定カップの断面図である。別の実施形態に係る貯溜槽の変形例を示す平面図である。別の実施形態に係る洗浄液供給機構の係合部を示す側面図である。

符号の説明

Ｇ…ガラス基板
ＣＴ…レジスト塗布処理ユニット
３７…蓋体
４０…駆動部
４１…レジスト液供給機構
４３…モータ
４４…洗浄液ノズル
５０…回転カップ
５０ｂ…開口部
５１、１５１…スピンチャック
５２、６２、７２…貯溜槽
５２ａ、７２ａ…孔
５２ｂ、１５２ｂ…供給口
５７…洗浄液供給機構
６２…貯溜槽
６２ａ…スリット
１５７…洗浄液供給機構
１６１…固定カップ
１６２…回転カップ
２０１…底面洗浄ノズル
２０１ａ…側壁洗浄ノズル
２０３、２０５、２０６…洗浄ノズル

Claims

基板を回転可能に保持する保持部材と、
基板を出し入れするための開口部を有し、前記保持部材により保持された基板を収容するとともに前記保持部材と同期して回転することが可能な容器と、
前記開口部に着脱可能に設けられ前記容器を開閉するための蓋体と、
前記容器に装着されるとともに前記保持部材の周囲のうち少なくとも一部に設けられ、少なくとも前記蓋体を洗浄するための洗浄液を内部に貯溜する貯溜槽と、
前記容器を回転させ、その回転の遠心力により前記貯溜槽に貯溜された洗浄液を前記蓋体に向けて飛散させるための回転駆動部と
を具備することを特徴とする基板処理装置。
請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記貯溜槽における前記蓋体と対向する側に、前記貯溜槽に貯溜された洗浄液を吐出する孔が形成されていることを特徴とする基板処理装置。
請求項２に記載の基板処理装置であって、
前記孔は、前記洗浄液の吐出の方向が前記容器の回転の回転軸方向より回転中心側に向くように形成されていることを特徴とする基板処理装置。
請求項１に記載の基板処理装置であって、
当該貯溜槽における前記蓋体と対向する側に、前記貯溜槽に貯溜された洗浄液を吐出するスリットが形成されていることを特徴とする基板処理装置。
請求項４に記載の基板処理装置であって、
前記スリットは、前記洗浄液の吐出の方向が前記容器の回転の回転軸方向より回転中心側に向くように形成されていることを特徴とする基板処理装置。
請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記貯溜槽の内部に前記洗浄液を供給する洗浄液供給機構をさらに具備することを特徴とする基板処理装置。
請求項６に記載の基板処理装置であって、
前記洗浄液供給機構は、
前記洗浄液を前記貯溜槽の内部に向けて吐出するノズルと、
前記ノズルを前記容器の外の所定の位置と前記保持部材の直上位置との間で移動させる移動機構と
を具備することを特徴とする基板処理装置。
請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記貯溜槽の内部に複数配列され、該貯溜槽の内部を、前記保持部材に保持される基板の周囲方向で複数の室に区画する仕切部材をさらに具備することを特徴とする基板処理装置。
請求項８に記載の基板処理装置であって、
前記複数の仕切部材はそれぞれ前記貯溜槽に対面する側面を有し、
前記側面の一部は前記貯溜槽と隙間を空けて配置され、他部は前記貯溜槽に当接していることを特徴とする基板処理装置。
請求項９に記載の基板処理装置であって、
前記隙間は、前記貯溜槽における前記容器の回転中心側寄りに設けられていることを特徴とする基板処理装置。
請求項８に記載の基板処理装置であって、
前記複数の仕切部材のうち少なくとも１つには、前記複数の室同士を連通させる連通口が形成されていることを特徴とする基板処理装置。
請求項１１に記載の基板処理装置であって、
前記連通口は、前記仕切部材における前記容器の回転中心側寄りに設けられていることを特徴とする基板処理装置。
請求項８に記載の基板処理装置であって、
前記複数の仕切部材のうち少なくとも１つは、板状をなし、該複数の仕切部材が配列される配列方向に対して斜めに傾けて設けられていることを特徴とする基板処理装置。
基板を出し入れするための開口部を有し、該開口部を介して基板を収容する容器内で洗浄液を用い、前記開口部に着脱可能に設けられ前記容器を開閉するための蓋体を少なくとも洗浄する洗浄方法であって、
前記容器に装着されるとともに、前記容器内で基板を保持する保持部材の周囲のうち少なくとも一部に設けられ前記洗浄液を貯溜する貯溜槽に該洗浄液を供給する工程と、
前記容器を回転させることで、その回転の遠心力により前記貯溜槽に貯溜された洗浄液を前記蓋体に向けて飛散させる工程と
を具備することを特徴とする洗浄方法。
基板を回転可能に保持する保持部材と、
基板を出し入れするための開口部を有し、前記保持部材により保持された基板を収容するとともに前記保持部材と同期して回転することが可能な第1の容器と、
前記開口部に着脱可能に設けられ前記第１の容器を開閉するための蓋体と、
前記第１の容器に装着されるとともに前記保持部材の周囲のうち少なくとも一部に設けられ、少なくとも前記蓋体を洗浄するための洗浄液を内部に貯溜する貯溜槽と、
前記第１の容器を回転させ、その回転の遠心力により前記貯溜槽に貯溜された洗浄液を前記蓋体に向けて飛散させることが可能な回転駆動部と、
前記第１の容器を収容する第２の容器と、
少なくとも前記第１の容器の外周部を洗浄するために前記第２の容器に設けられた洗浄ノズルを有する洗浄機構と
を具備することを特徴とする基板処理装置。
請求項１５に記載の基板処理装置であって、
前記洗浄機構は、前記洗浄ノズルとして、前記第１の容器の側壁の外周面を洗浄可能な第１のノズルと、前記第１の容器の外側底面を洗浄するための第２のノズルとを有することを特徴とする基板処理装置。
請求項１５に記載の基板処理装置であって、
前記洗浄機構は、前記洗浄ノズルとして、前記第２の容器の内部の底面を洗浄するための第３のノズルを有することを特徴とする基板処理装置。
請求項１５に記載の基板処理装置であって、
前記貯溜槽に形成された供給口を介して該貯溜槽の内部に前記洗浄液を吐出する吐出ノズルと、
前記吐出ノズルを少なくとも前記第１の容器の外部と、前記供給口の直上との間で移動させる移動機構と
をさらに具備することを特徴とする基板処理装置。
請求項１８に記載の基板処理装置であって、
前記第１の容器の内側底面を洗浄可能な第４のノズルと、
前記第１の容器の側壁の内周面及び上面を洗浄するための第５のノズルと、
前記吐出ノズルと前記第４のノズルと前記第５のノズルとを一体的に支持する支持体と
をさらに具備することを特徴とする基板処理装置。
請求項１８に記載の基板処理装置であって、
前記供給口が少なくとも２つ形成されていることを特徴とする基板処理装置。
基板を回転可能に保持する保持部材と、
基板を出し入れするための開口部を有し、前記保持部材により保持された基板を収容するとともに前記保持部材と同期して回転することが可能な第1の容器と、
前記開口部に着脱可能に設けられ前記第１の容器を開閉するための蓋体と、
前記第１の容器に装着されるとともに前記保持部材の周囲のうち少なくとも一部に設けられ、少なくとも前記蓋体を洗浄するための洗浄液を内部に貯溜する貯溜槽と、
前記第１の容器を回転させ、その回転の遠心力により前記貯溜槽に貯溜された洗浄液を前記蓋体に向けて飛散させることが可能な回転駆動部と、
前記第１の容器の外部と、前記貯溜槽に形成された供給口の直上との間で移動可能に設けられ、前記供給口を介して該貯溜槽の内部に前記洗浄液を吐出する吐出ノズルと、
前記第１の容器の内側底面を洗浄可能な底面洗浄ノズルと、
前記第１の容器の側壁の内周面及び上面を洗浄するための側壁洗浄ノズルと、
前記吐出ノズルと前記底面洗浄ノズルと前記側壁洗浄ノズルとを一体的に支持する支持体と
を具備することを特徴とする基板処理装置。
（ａ）基板を出し入れするための開口部を介して基板を収容する第１の容器に装着された貯溜槽に形成された第１の供給口に、洗浄液を吐出するための吐出ノズルを位置合わせする工程と、
（ｂ）前記工程（ａ）の後に前記吐出ノズルから前記第１の供給口を介して前記貯溜槽内に洗浄液を吐出する工程と、
（ｃ）前記工程（ｂ）の後に前記第１の容器を回転させることで、貯溜槽の前記第１の供給口とは別の部位に形成された第２の供給口に前記吐出ノズルを位置合わせする工程と、
（ｄ）前記工程（ｃ）の後に前記吐出ノズルから前記第２の供給口を介して前記貯溜槽内に洗浄液を吐出する工程と、
（ｅ）前記第１の容器の内側底面を洗浄可能な底面洗浄ノズルと、前記第１の容器の側壁の内周面及び上面を洗浄するための側壁洗浄ノズルとを一体的に移動させて、該第１の容器の側壁に対して位置合わせする工程と、
（ｆ）前記第１の容器を第１の回転数で回転させながら、前記底面洗浄ノズル及び前記側壁洗浄ノズルから前記洗浄液を吐出する工程と、
（ｇ）前記第１の容器を第１の回転数より速い第２の回転数で回転させることで、その回転の遠心力により、前記貯溜槽に貯溜された洗浄液を、前記開口部に着脱可能に設けられた前記第１の容器を開閉するための蓋体に向けて飛散させる工程と
を具備することを特徴とする洗浄方法。
請求項２２に記載の洗浄方法であって、
（ｈ）前記工程（ｇ）の後に、第２の回転数より遅い第３の回転数で前記第１の容器を回転させることで、第１の容器を収容する第２の容器に設けられた洗浄ノズルから前記第１の容器の外周部に洗浄液を吐出する工程をさらに具備することを特徴とする洗浄方法。
請求項２３に記載の洗浄方法であって、
前記工程（ｈ）の後に、前記第３の回転数より速い第４の回転数で前記第１の容器を回転する工程をさらに具備することを特徴とする洗浄方法。