JP2011171088A - 電界放出電子銃及びその制御方法 - Google Patents
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Abstract
【課題手段】本発明では、タングステンの<310>単結晶からなる電界放出電子源と、当該電子源が配置される真空室と、前記真空室を排気する排気系と、前記電子源と接続され、電流を流して前記電子源を加熱するフィラメントと、当該フィラメントに電流を流す電源と、当該電子源から放出される総電流量を測定する電流計と、を備える荷電粒子線装置であって、前記総電流量を定期的に測定し、当該総電流量が、最初の電子線放出直後の前記電子源からの総電流量、または前記フィラメントに電流を流した直後の前記電子線からの総電流量に対して所定の比率以下になったときに、前記電源が前記フィラメントに電流を流すように制御する制御部を備えることを特徴とする荷電粒子線装置を提供する。
【選択図】 図1
Description
2 真空室
3 引き出し電極
4 電子源制御部
5 操作部
6 フィラメント
7 フラッシング電源
8 電流計
9 引き出し電源
10 加速電源
11 排気系
12 電流計A1
13 電流計A2
14 電流計A3
15 極細引き出し電極
16 非蒸発ゲッターポンプ(NEG)
17 イオンポンプ
18 チタンサブレメーションポンプ
19 クライオポンプ
20 1段ターボ分子ポンプ
21 2段ターボ分子ポンプ
22 補助ポンプ
23 ファラデーカップ
Claims (14)
- タングステンの<310>単結晶からなる電界放出電子源と、
当該電子源が配置される真空室と、前記真空室を排気する排気系と、
前記電子源と接続され、電流を流して前記電子源を加熱するフィラメントと、当該フィラメントに電流を流す電源と、当該電子源から放出される総電流量を測定する電流計と、を備える荷電粒子線装置であって、
前記総電流量を定期的に測定し、当該総電流量が、最初の電子線放出直後の前記電子源からの総電流量、または前記フィラメントに電流を流した直後の前記電子線からの総電流量に対して所定の比率以下になったときに、前記電源が前記フィラメントに電流を流すように制御する制御部を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1の荷電粒子線装置において、
前記制御部は、当該総電流量が、電子線放出直後あるいは前記フィラメントに電流を流した直後の総電流量に対して半分になったときに、前記電源が前記フィラメントに電流を流すように制御することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1の荷電粒子線装置において、
制御部にフィラメントに電流を流す時期,電流を流す時間、及び電流量を決めるパラメータを入力する操作部を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1の荷電粒子線装置において、
前記排気系は、前記真空室の圧力を10-9Pa台以下に維持することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1の荷電粒子線装置において、
前記フィラメントに一定時間1回又は複数回電流を流し、通電加熱によって前記電子源の温度を1500K以上にあげることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1の荷電粒子線装置において、
前記制御部は、試料から放出された信号を検出している間は、前記電子源に電流を流す制御を中止することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1の荷電粒子線装置において、
前記制御部は、当該荷電粒子線装置が操作されている間は、前記電子源に電流を流す制御を中止することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1の荷電粒子線装置において、
当該荷電粒子線装置はモニターを備え、
前記制御部は、当該総電流量が、最初の電子線放出直後の前記電子源からの総電流量、または前記フィラメントに電流を流した直後の前記電子線からの総電流量に対して所定の比率以下になったときに、前記モニター上に、前記フィラメントに電流を流すことを促すメッセージを表示することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1記載の荷電粒子線装置において、
前記引き出し電極は金属の細線からなり、電子線が当たるグラウンド側にファラデーカップを設け、前記ファラデーカップとグラウンドの間に電流計を配置することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4記載の荷電粒子線装置において、
前記真空室内部品及び真空室は、300℃以上加熱可能な材料で作製され、10-3Pa台以下の圧力を維持する真空炉で1時間以上300℃以上の温度で脱ガスの処理が施されたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4記載の荷電粒子線装置において、
前記排気系として非蒸発ゲッターポンプと1l/s以上の排気速度を持つイオンポンプを併用することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4記載の荷電粒子線装置において、
前記排気系として、チタンサブレメーションポンプ
とイオンポンプを併用することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4記載の荷電粒子線装置において、
前記排気系として、クライオポンプ
を用いることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4記載の荷電粒子線装置において、
前記排気系として、100l/s以上の排気速度を持つ1段ターボ分子ポンプと、前記1段ターボ分子ポンプの排出口に配置された2段ターボ分子ポンプと、前記2段ターボ分子ポンプの排出口に配置された補助ポンプからなることを特徴とする荷電粒子線装置。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013152930A (ja) * | 2012-01-09 | 2013-08-08 | Fei Co | 電界放出源の放出パラメータの決定 |
JP2014175173A (ja) * | 2013-03-08 | 2014-09-22 | Nuflare Technology Inc | 電子銃装置、描画装置、電子銃電源回路のリーク電流測定方法、及び電子銃電源回路のリーク電流判定方法 |
WO2015053300A1 (ja) * | 2013-10-10 | 2015-04-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡 |
JP2020027779A (ja) * | 2018-08-16 | 2020-02-20 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡およびその制御方法 |
JP2021512470A (ja) * | 2018-10-12 | 2021-05-13 | サーティエイス リサーチ インスティチュート、チャイナ エレクトロニクス テクノロジー グループ コーポレイション | 電子源の製造方法 |
JP2021512471A (ja) * | 2018-10-12 | 2021-05-13 | サーティエイス リサーチ インスティチュート、チャイナ エレクトロニクス テクノロジー グループ コーポレイション | 電子源の再生方法 |
JP2021512469A (ja) * | 2018-10-12 | 2021-05-13 | サーティエイス リサーチ インスティチュート、チャイナ エレクトロニクス テクノロジー グループ コーポレイション | 電子源動作方法 |
JP2021513191A (ja) * | 2018-10-12 | 2021-05-20 | サーティエイス リサーチ インスティチュート、チャイナ エレクトロニクス テクノロジー グループ コーポレイション | 電子源及び電子銃 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5853122B2 (ja) * | 2013-05-10 | 2016-02-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
US10692692B2 (en) | 2015-05-27 | 2020-06-23 | Kla-Tencor Corporation | System and method for providing a clean environment in an electron-optical system |
JP6579052B2 (ja) * | 2016-07-12 | 2019-09-25 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法 |
DE102016124673B3 (de) | 2016-12-16 | 2018-05-30 | Ketek Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung eines Quellenstroms von Ladungsträgern mittels Feldemission und Verfahren zur Stabilisierung eines mittels eines Feldemissionselements emittierten Quellenstroms von Ladungsträgern |
KR102475617B1 (ko) * | 2018-02-07 | 2022-12-08 | 주식회사 히타치하이테크 | 클리닝 장치 |
JP7022837B2 (ja) * | 2018-08-27 | 2022-02-18 | 株式会社日立ハイテク | 電子源とその製造方法およびそれを用いた電子線装置 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5246756A (en) * | 1975-10-11 | 1977-04-13 | Hitachi Ltd | Field-emission type electron gun |
JPH11111205A (ja) * | 1997-09-29 | 1999-04-23 | Hitachi Ltd | 電界放出型電子銃を備えた粒子線装置及びその加熱脱ガス方法 |
JP2007073521A (ja) * | 2005-09-05 | 2007-03-22 | Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh | 荷電粒子ビーム照射デバイス及び荷電粒子ビーム照射デバイスを動作させるための方法 |
JP2008140623A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Japan Science & Technology Agency | 電子線源装置 |
JP2009004112A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置およびその真空立上げ方法 |
JP2009187938A (ja) * | 1997-09-10 | 2009-08-20 | Applied Materials Inc | 真空シール装置 |
WO2009153939A1 (ja) * | 2008-06-20 | 2009-12-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、及びその制御方法 |
JP2011014244A (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子銃及び荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5825035A (en) * | 1993-03-10 | 1998-10-20 | Hitachi, Ltd. | Processing method and apparatus using focused ion beam generating means |
US7994474B2 (en) * | 2004-02-23 | 2011-08-09 | Andreas Hieke | Laser desorption ionization ion source with charge injection |
JP4317779B2 (ja) | 2004-03-26 | 2009-08-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電界放出型電子銃およびそれを用いた電子ビーム応用装置 |
JP2008047309A (ja) | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Hitachi High-Technologies Corp | 電界放出型電子銃、およびその運転方法 |
WO2008038684A1 (fr) * | 2006-09-27 | 2008-04-03 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Source d'électrons |
US7853364B2 (en) * | 2006-11-30 | 2010-12-14 | Veeco Instruments, Inc. | Adaptive controller for ion source |
US7888654B2 (en) | 2007-01-24 | 2011-02-15 | Fei Company | Cold field emitter |
US7573046B1 (en) * | 2007-03-26 | 2009-08-11 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Thermal field emission electron gun with reduced arcing |
US8436524B2 (en) | 2007-05-16 | 2013-05-07 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Electron source |
GB2451480B (en) * | 2007-07-31 | 2011-11-02 | Vistec Lithography Ltd | Pattern writing on a rotaing substrate |
US8288950B2 (en) * | 2009-10-06 | 2012-10-16 | The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy | Apparatus and method for regulating the output of a plasma electron beam source |
-
2010
- 2010-02-18 JP JP2010033048A patent/JP5455700B2/ja active Active
-
2011
- 2011-01-19 US US13/577,998 patent/US8766542B2/en active Active
- 2011-01-19 DE DE112011100597.0T patent/DE112011100597B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2011-01-19 WO PCT/JP2011/000233 patent/WO2011102077A1/ja active Application Filing
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5246756A (en) * | 1975-10-11 | 1977-04-13 | Hitachi Ltd | Field-emission type electron gun |
JP2009187938A (ja) * | 1997-09-10 | 2009-08-20 | Applied Materials Inc | 真空シール装置 |
JPH11111205A (ja) * | 1997-09-29 | 1999-04-23 | Hitachi Ltd | 電界放出型電子銃を備えた粒子線装置及びその加熱脱ガス方法 |
JP2007073521A (ja) * | 2005-09-05 | 2007-03-22 | Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh | 荷電粒子ビーム照射デバイス及び荷電粒子ビーム照射デバイスを動作させるための方法 |
JP2008140623A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Japan Science & Technology Agency | 電子線源装置 |
JP2009004112A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置およびその真空立上げ方法 |
WO2009153939A1 (ja) * | 2008-06-20 | 2009-12-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、及びその制御方法 |
JP2011014244A (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子銃及び荷電粒子線装置 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013152930A (ja) * | 2012-01-09 | 2013-08-08 | Fei Co | 電界放出源の放出パラメータの決定 |
JP2014175173A (ja) * | 2013-03-08 | 2014-09-22 | Nuflare Technology Inc | 電子銃装置、描画装置、電子銃電源回路のリーク電流測定方法、及び電子銃電源回路のリーク電流判定方法 |
WO2015053300A1 (ja) * | 2013-10-10 | 2015-04-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡 |
JPWO2015053300A1 (ja) * | 2013-10-10 | 2017-03-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡 |
JP2020027779A (ja) * | 2018-08-16 | 2020-02-20 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡およびその制御方法 |
JP2021512470A (ja) * | 2018-10-12 | 2021-05-13 | サーティエイス リサーチ インスティチュート、チャイナ エレクトロニクス テクノロジー グループ コーポレイション | 電子源の製造方法 |
JP2021512471A (ja) * | 2018-10-12 | 2021-05-13 | サーティエイス リサーチ インスティチュート、チャイナ エレクトロニクス テクノロジー グループ コーポレイション | 電子源の再生方法 |
JP2021512469A (ja) * | 2018-10-12 | 2021-05-13 | サーティエイス リサーチ インスティチュート、チャイナ エレクトロニクス テクノロジー グループ コーポレイション | 電子源動作方法 |
JP2021513191A (ja) * | 2018-10-12 | 2021-05-20 | サーティエイス リサーチ インスティチュート、チャイナ エレクトロニクス テクノロジー グループ コーポレイション | 電子源及び電子銃 |
US11189453B2 (en) | 2018-10-12 | 2021-11-30 | 38Th Research Institute, China Electronics Technology Group Corporation | Electron source and electron gun |
US11315748B2 (en) | 2018-10-12 | 2022-04-26 | 38Th Research Institute, China Electronics Technology Group Corporation | Electron source regeneration method |
US11373836B2 (en) | 2018-10-12 | 2022-06-28 | 38Th Research Institute, China Electronics Technology Group Corporation | Method of manufacturing electron source |
US11430625B2 (en) | 2018-10-12 | 2022-08-30 | 38Th Research Institute, China Electronics Technology Group Corporation | Electron source operating method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE112011100597T5 (de) | 2013-01-31 |
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JP5455700B2 (ja) | 2014-03-26 |
US8766542B2 (en) | 2014-07-01 |
DE112011100597B4 (de) | 2015-08-13 |
US20130200788A1 (en) | 2013-08-08 |
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