JP6231182B2 - 荷電粒子線装置、及びその制御方法 - Google Patents
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Description
[I(t)−I(t+tc)]/I(t)があらかじめ定めた値β以上になった時にフラッシングを行う。高輝度安定領域での電流の時間変化を考慮すると、tcが60分以下、βが0.01以上であれば電流変化が把握しやすい。特に0.05≧β≧0.01であれば、図10のように電流を一定に維持することが出来る。
[I(t)−I(t+ts)]/I(t)があらかじめ定めた値ε以下になる場合に行う。典型的にはtsは5分以下であれば評価しやすく、このときεは0.05以下であると良い。
(Imax−Imin)/[(Imax+Imin)/2]が所定の値ζよりも大きくなる場合に行う。観察像が悪化しない条件として、典型的にはtnは5分以下にし、ζは0.1以下を用いる。
Claims (13)
- 電界放射電子源と、前記電界放射電子源に電界を印加する電極とを備える荷電粒子線装置であって、
前記電界放射電子源のまわりの圧力を1×10−8Pa以下に維持する真空排気部と、前記電界放射電子源の加熱部と、前記加熱部を制御する制御部と、を有し、前記電界放射電子源から放射させた電子線のうち、中央の放射角が1×10−2sr以内の電子線を用い、
前記制御部は、前記電界放射電子源のフラッシング後から、当該電子線の電流の減少度合いが1時間当たり10%以下を維持する時に前記加熱部に対して加熱を行うよう制御する、
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1記載の荷電粒子線装置であって、
前記真空排気部に非蒸発ゲッターポンプを含む、
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1記載の荷電粒子線装置であって、
前記電子線の電流の検出部を更に備え、
前記加熱部により前記電界放射電子源を繰り返し加熱し、前記検出部の出力を用いて前記電界放射電子源から放射される前記電子線の電流を所定の値以上に維持する、
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項3記載の荷電粒子線装置であって、
前記制御部は、前記電界放射電子源から放射される前記電子線の電流I(t)の初期値I(0)に対して、前記電子線の電流がαI(0)になった時に前記電界放射電子源の加熱を行うよう制御し、かつα≧0.8である、
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項3記載の荷電粒子線装置であって、
前記制御部は、前記電界放射電子源から放射される前記電子線の電流I(t)に対して、
時間間隔tc当りの電流の減少割合[I(t)−I(t+tc)]/I(t)があらかじめ定めた値β以上になった時に前記電界放射電子源の加熱を行うよう制御し、かつtc≦60分であり、β≧0.01である、
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項3記載の荷電粒子線装置であって、
前記電界放射電子源の加熱温度が1500℃以下である、
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項3記載の荷電粒子線装置であって、
前記電界放射電子源の加熱時に、前記電界放射電子源から前記電子線の放射を定常的に行う、
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項3記載の荷電粒子線装置であって、
前記制御部が前記電界放射電子源の加熱を自動的に行うか否かを選択する操作器と、前記操作器で選択された結果を表示する表示器とを備える、
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1記載の荷電粒子線装置であって、
前記電界放射電子源の加熱部を備え、前記電界放射電子源を定常的に1500℃以下に加熱し続けながら、前記電界放射電子源から電子線を放射させる、
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1記載の荷電粒子線装置であって、
前記真空排気部は前記電界放射電子源のまわりの圧力を1×10−9Pa以下に維持する、
ことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 電界放射電子源と前記電界放射電子源に電界を印加する電極と前記電界放射電子源の加熱部と前記加熱部を制御する制御部とを備える荷電粒子線装置の制御方法であって、
真空排気部により前記電界放射電子源のまわりの圧力を1×10−8Pa以下に維持し、
前記電界放射電子源から放射させた電子線のうち、中央の放射角が1×10−2sr以内の電子線を用い、前記電界放射電子源のフラッシング後から、前記電子線の電流の減少度合いが1時間当たり10%以下を維持する時に前記加熱部に対して加熱を行うよう制御する、
ことを特徴とする荷電粒子線装置の制御方法。 - 請求項11記載の荷電粒子線装置の制御方法であって、
加熱部により前記電界放射電子源を繰り返し加熱し、前記電界放射電子源から放射される前記電子線の電流を所定の値以上に維持する、
ことを特徴とする荷電粒子線装置の制御方法。 - 請求項11記載の荷電粒子線装置の制御方法であって、
前記真空排気部は前記電界放射電子源のまわりの圧力を1×10−9Pa以下に維持する、
ことを特徴とする荷電粒子線装置の制御方法。
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