DE112009001537B8 - Vorrichtung mit geladenem Teilchenstrahl und Verfahren zum Steuern der Vorrichtung - Google Patents

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Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1783811A3 (de) * 2005-11-02 2008-02-27 FEI Company Korrektor zur Korrektion von chromatischen Aberrationen in einem korpuskularoptiachen Apparat
JP5406293B2 (ja) 2009-06-16 2014-02-05 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置
JP5455700B2 (ja) 2010-02-18 2014-03-26 株式会社日立ハイテクノロジーズ 電界放出電子銃及びその制御方法
JP5363413B2 (ja) * 2010-05-10 2013-12-11 電気化学工業株式会社 電子源
JP5290238B2 (ja) * 2010-05-21 2013-09-18 株式会社日立ハイテクノロジーズ 電子顕微鏡
US8779376B2 (en) * 2012-01-09 2014-07-15 Fei Company Determination of emission parameters from field emission sources
WO2014007121A1 (ja) * 2012-07-03 2014-01-09 独立行政法人物質・材料研究機構 六ホウ化金属冷電界エミッター、その製造方法及び電子銃
JP5857154B2 (ja) * 2013-04-17 2016-02-10 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置
JP5853122B2 (ja) * 2013-05-10 2016-02-09 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置
JP6283423B2 (ja) 2014-10-20 2018-02-21 株式会社日立ハイテクノロジーズ 走査電子顕微鏡
DE112014007204B4 (de) 2014-12-26 2018-05-17 Hitachi High-Technologies Corporation Kombinierte Ladungsteilchenstrahlvorrichtung und Steuerverfahren dafür
JP5855294B1 (ja) * 2015-02-06 2016-02-09 株式会社日立製作所 イオンポンプおよびそれを用いた荷電粒子線装置
DE112015006419B4 (de) * 2015-05-01 2021-10-07 Hitachi High-Tech Corporation Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung, die mit einer Ionenpumpe versehen ist
CN106680612B (zh) * 2015-11-11 2019-08-06 北京卫星环境工程研究所 卫星场致发射电推力器发射体的性能测试装置
JP6613219B2 (ja) * 2016-09-02 2019-11-27 株式会社日立製作所 走査型顕微鏡
CN109643626B (zh) * 2016-09-07 2021-08-13 于利希研究中心有限责任公司 可调式带电粒子涡旋束发生器及方法
CN111133551B (zh) * 2017-09-22 2023-03-07 住友重机械工业株式会社 离子源装置
JP6548179B1 (ja) * 2018-03-19 2019-07-24 株式会社Param 電子銃
JP7068117B2 (ja) * 2018-09-18 2022-05-16 株式会社日立ハイテク 荷電粒子線装置
US11894211B2 (en) * 2019-07-02 2024-02-06 Hitachi High-Tech Corporation Electron beam apparatus and method for controlling electron beam apparatus
GB2592653B (en) * 2020-03-05 2022-12-28 Edwards Vacuum Llc Vacuum module and vacuum apparatus and method for regeneration of a volume getter vacuum pump

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3945698A (en) * 1973-10-05 1976-03-23 Hitachi, Ltd. Method of stabilizing emitted electron beam in field emission electron gun
JP2006294481A (ja) * 2005-04-13 2006-10-26 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線装置
JP2007172862A (ja) * 2005-12-19 2007-07-05 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線源用清浄化装置及びそれを用いた荷電粒子線装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5323663B1 (de) 1971-04-12 1978-07-15
JPS4737060U (de) * 1971-05-11 1972-12-23
JPS594826B2 (ja) 1976-05-21 1984-02-01 株式会社日立製作所 電界放射形電子銃
US4379250A (en) * 1979-10-19 1983-04-05 Hitachi, Ltd. Field emission cathode and method of fabricating the same
US4833362A (en) 1988-04-19 1989-05-23 Orchid One Encapsulated high brightness electron beam source and system
DE3930200A1 (de) * 1989-09-09 1991-03-14 Ptr Praezisionstech Gmbh Elektronenstrahlerzeuger, insbesondere fuer eine elektronenstrahlkanone
EP0462554B1 (de) * 1990-06-20 2000-10-11 Hitachi, Ltd. Ladungsträgerstrahlgerät
JP3505386B2 (ja) 1998-05-11 2004-03-08 三洋電機株式会社 電子機器のシールド構造
JP2002208368A (ja) * 2001-01-09 2002-07-26 Jeol Ltd 電子放射型電子銃
JP3720711B2 (ja) * 2001-01-22 2005-11-30 株式会社日立製作所 電子線光軸補正方法
EP1993119B1 (de) 2005-09-05 2017-11-08 ICT, Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Vorrichtung zur Emission geladener Teilchen und Verfahren zum Betrieb einer Vorrichtung zur Emission geladener Teilchen
JP2008140623A (ja) 2006-11-30 2008-06-19 Japan Science & Technology Agency 電子線源装置
US7888654B2 (en) * 2007-01-24 2011-02-15 Fei Company Cold field emitter
JP5016988B2 (ja) 2007-06-19 2012-09-05 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置およびその真空立上げ方法
JP5514472B2 (ja) 2008-05-28 2014-06-04 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3945698A (en) * 1973-10-05 1976-03-23 Hitachi, Ltd. Method of stabilizing emitted electron beam in field emission electron gun
JP2006294481A (ja) * 2005-04-13 2006-10-26 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線装置
JP2007172862A (ja) * 2005-12-19 2007-07-05 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線源用清浄化装置及びそれを用いた荷電粒子線装置

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
A.V. Crewe et al, Electron Gun Using a Field Emission Source, Rev. Sci. Instr. 39 (1968), 576-583 *
B. Cho, Appl Phys. Lett. 91 (2007), P012105 *

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013084629A (ja) 2013-05-09
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JP6054929B2 (ja) 2016-12-27
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