JP2011068624A - フルオレン骨格を有するアルコールの製造方法 - Google Patents
フルオレン骨格を有するアルコールの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011068624A JP2011068624A JP2009223257A JP2009223257A JP2011068624A JP 2011068624 A JP2011068624 A JP 2011068624A JP 2009223257 A JP2009223257 A JP 2009223257A JP 2009223257 A JP2009223257 A JP 2009223257A JP 2011068624 A JP2011068624 A JP 2011068624A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- weight
- fluorene
- bis
- represented
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- JMAHHKBAIGDUNH-UHFFFAOYSA-N Cc1cc(C2(c(cccc3)c3-c3ccccc23)c(cc2)cc(C)c2OCCOC(C=C)=O)ccc1OCCOC(C=C)=O Chemical compound Cc1cc(C2(c(cccc3)c3-c3ccccc23)c(cc2)cc(C)c2OCCOC(C=C)=O)ccc1OCCOC(C=C)=O JMAHHKBAIGDUNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQXNYVAALXGLQT-UHFFFAOYSA-N OCCOc1ccc(C2(c3ccccc3-c3c2cccc3)c(cc2)ccc2OCCO)cc1 Chemical compound OCCOc1ccc(C2(c3ccccc3-c3c2cccc3)c(cc2)ccc2OCCO)cc1 NQXNYVAALXGLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
Description
で表されるフルオレノン類と、下記式(2)
で表されるアルコールとを反応させ、下記式(3)
で表される化合物を製造する。
本発明では、酸触媒およびチオール類の存在下、下記式(1)
で表されるフルオレノン類と、下記式(2)
で表されるアルコールとを、特定の条件下で反応させ、下記式(3)
で表される化合物を製造する。
前記式(3)で表される化合物は、特定のフルオレン骨格を有しているため、種々の特性(光学特性、耐熱性、耐水性、耐湿性、耐薬品性、電気特性、機械特性、寸法安定性など)に優れており、種々の用途においてこれらの特性を向上又は改善するのに有用である。また、前記骨格により、高い屈折率も有している。このため、このような前記式(3)で表される化合物は、機能性材料[例えば、添加剤(レジスト用添加剤、樹脂用添加剤、硬化剤(樹脂用硬化剤)など)、試薬(医薬、農薬など)の原料又は中間体など](又はその原料又は中間体)、樹脂原料(モノマーなど)などとして好適に用いることができ、前記のような優れた特性を効率よく付与するための化合物として用いることができる。
前記式(3)で表される化合物は、樹脂原料として用いることができる。例えば、前記式(3)で表される化合物は、2以上のヒドロキシル基を有しているため、熱可塑性樹脂のモノマー成分や熱硬化性樹脂(又はその前駆体)として用いることができる。すなわち、このような樹脂は、前記化合物を重合成分とする樹脂である。
ポリエステルとしては、前記式(3)において、nが1である化合物(化合物(a1)ということがある)を少なくとも含むジオール成分(ジオール成分(a)ということがある)と、ジカルボン酸成分(ジカルボン酸成分(b))とを重合成分とするポリエステル(ポリエステル樹脂)などが挙げられる。
前記ポリエステルの重量平均分子量は、例えば、3000〜1000000程度の範囲から選択でき、例えば、5000〜800000、好ましくは8000〜600000、さらに好ましくは10000〜500000(例えば、30000〜500000)程度であってもよい。なお、上記重量平均分子量は、ポリスチレンを基準とするゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより評価した値であってもよい。本発明では、高分子量であっても、着色が抑制されたポリエステル樹脂を製造することも可能である。
ポリ(メタ)アクリレートとしては、例えば、下記式(5)で表される化合物が挙げられる。
代表的なポリ(メタ)アクリレート(又は前記式(5)で表される化合物)には、例えば、9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシアルコキシ−アルキルフェニル)フルオレン{例えば、9,9−ビス[4−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)−3−メチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)−3,5−ジメチルフェニル]フルオレンなどの9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシC2−4アルコキシ−モノ又はジC1−4アルキルフェニル)フルオレン}、9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシジアルコキシ−アルキルフェニル)フルオレン{例えば、9,9−ビス{4−[2−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エトキシ]−3−メチルフェニル}フルオレン、9,9−ビス{4−[2−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エトキシ]−3,5−ジメチルフェニル}フルオレンなどの9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシジC2−4アルコキシ−モノ又はジC1−4アルキルフェニル)フルオレン}、9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシアルコキシナフチル)フルオレン{例えば、9,9−ビス[6−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)−2−ナフチル]フルオレン、9,9−ビス[5−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)−1−ナフチル]フルオレン、9,9−ビス[6−(2−(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ)−2−ナフチル]フルオレンなどの9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシC2−4アルコキシナフチル)フルオレン}、9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシジアルコキシナフチル)フルオレン{例えば、9,9−ビス{6−[2−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エトキシ]−2−ナフチル}フルオレン、9,9−ビス{5−[2−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エトキシ]−1−ナフチル}フルオレン、9,9−ビス{6−[2−(2−(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ)プロポキシ]−2−ナフチル}フルオレンなどの9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシジC2−4アルコキシナフチル)フルオレン}などが含まれる。
エポキシ樹脂(エポキシ化合物)としては、例えば、下記式(6)で表される化合物(前記式(3)で表される化合物のポリグリシジルエーテル類)が挙げられる。
代表的なエポキシ樹脂(又は前記式(6)で表される化合物)には、例えば、9,9−ビス(グリシジルオキシアルコキシ−アルキルフェニル)フルオレン{例えば、9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシエトキシ)−3−メチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシエトキシ)−3,5−ジメチルフェニル]フルオレンなどの9,9−ビス(グリシジルオキシC2−4アルコキシ−モノ又はジC1−4アルキルフェニル)フルオレン}、9,9−ビス(グリシジルオキシジアルコキシ−アルキルフェニル)フルオレン{例えば、9,9−ビス{4−[2−(2−グリシジルオキシエトキシ)エトキシ]−3−メチルフェニル}フルオレン、9,9−ビス{4−[2−(2−グリシジルオキシエトキシ)エトキシ]−3,5−ジメチルフェニル}フルオレンなどの9,9−ビス(グリシジルオキシジC2−4アルコキシ−モノ又はジC1−4アルキルフェニル)フルオレン}、9,9−ビス(グリシジルオキシアルコキシナフチル)フルオレン{例えば、9,9−ビス[6−(2−グリシジルオキシエトキシ)−2−ナフチル]フルオレン、9,9−ビス[5−(2−グリシジルオキシエトキシ)−1−ナフチル]フルオレン、9,9−ビス[6−(2−グリシジルオキシプロポキシ)−2−ナフチル]フルオレンなどの9,9−ビス(グリシジルオキシC2−4アルコキシナフチル)フルオレン}、9,9−ビス(グリシジルオキシジアルコキシナフチル)フルオレン{例えば、9,9−ビス{6−[2−(2−グリシジルオキシエトキシ)エトキシ]−2−ナフチル}フルオレン、9,9−ビス{5−[2−(2−グリシジルオキシエトキシ)エトキシ]−1−ナフチル}フルオレン、9,9−ビス{6−[2−(2−グリシジルオキシプロポキシ)プロポキシ]−2−ナフチル}フルオレンなどの9,9−ビス(グリシジルオキシジC2−4アルコキシナフチル)フルオレン}などが含まれる。
装置としてL−2000(日立ハイテク製HPLC)、カラムとしてODS−80TM(東ソー製)を用いて40℃で測定した。
アセトンに10重量%の割合で溶解させて、日本電色工業(株)製「COH−400」を用いて色相(APHA)を測定した。
多波長アッベ屈折計「DR−M2/1550」((株)アタゴ製)を用い、光源波長589nm、測定温度20℃で測定した。
分光測色計「SPECTROPHOTOMETER CM−3500」(コニカミノルタ製)を用い、室温、反射条件、測定径30mmでb*値を測定した。
色差濁度測定器(日本電色工業(株)製、COH−300A)を用い、試験管(マルエム製、A−24(24×200)、直口)又は10×10mm石英セルに入れて測定した。
示差走査熱量計(セイコーインスツル(株)製、DSC 6220)を用い、アルミパンに試料を入れ、30℃から200℃の範囲でTgを測定した。
ゲル浸透クロマトグラフィ(東ソー(株)製、HLC−8120GPC)を用い、試料をクロロホルムに溶解させ、10分から20分の範囲で分子量(ポリスチレン換算)を測定した。
1Lのセパラブルフラスコに、9−フルオレノン45g(0.25モル、大阪ガスケミカル(株)製)、2−フェノキシエタノール138g(1モル)、3−メルカプトプロピオン酸1gを投入した後に、60℃まで加温して完全に溶解させた。その後、徐々に硫酸を54g投入して、60℃で維持して5時間攪拌させたところ、HPLCにて9−フルオレノンの転化率が99%以上であることを確認できた。得られた反応液に48%苛性ソーダ水を投入して中和した後に、キシレンを400g添加して蒸留水にて数回洗浄し、冷却することで結晶を析出させた。さらにろ過して乾燥させたところ、82g(収率75%)の結晶として、目的とする9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンを得た。得られた結晶のHPLC純度を測定したところ、純度が99.2%であった。また、アセトンに10重量%の割合で溶解させて、日本電色製「COH−400」を用いて色相(APHA)を測定したところ、0と極めて着色が少なかった。なお、得られたサンプルの1H−NMRおよびマススペクトルを測定した結果、目的とする9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン(下記式で表される化合物)であることを確認した。
硫酸の量を65gにした以外は実施例1と同様に合成した結果、純度99.1%の目的生成物が、81g(収率74%)得られた。色相は0であった。
3−メルカプトプロピオン酸の量を2gにした以外は実施例1と同様に合成した結果、純度99.1%の目的生成物を83g(収率76%)得られた。色相は0であった。
キシレンをトルエンに変えたこと以外は、実施例1と同様に合成した結果、純度99.3%の目的生成物が、85g(収率77%)得られた。色相は0であった。
実施例1において、2−フェノキシエタノールを0.75モル使用したこと以外は、実施例1と同様にして合成した結果、反応混合物において、HPLCにて測定した9−フルオレノンの転化率は85%であった。また、得られた結晶のHPLC純度を測定したところ、純度が78%であり、副生物が大量に生成してしまった。また、色相は、3であった。
実施例1において、3−メルカプトプロピオン酸を0.1g使用したこと以外は、実施例1と同様にして合成した結果、反応混合物において、HPLCにて測定した9−フルオレノンの転化率は70%であった。
実施例1において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノo−トリルエーテル(日本乳化剤製)1モルを使用したこと以外は、実施例1と同様に合成した結果、純度99.3%の目的生成物が、81g(収率70%)得られた。色相は8であった。なお、得られたサンプルの1H−NMRおよびマススペクトルを測定した結果、目的とする9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−メチルフェニル]フルオレン(下記式で表される化合物)であることを確認した。
実施例2において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノo−トリルエーテル(日本乳化剤製)1モルを使用したこと以外は、実施例2と同様に合成した結果、純度99.2%の目的生成物が、83g(収率72%)得られた。色相は8であった。
実施例3において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノo−トリルエーテル(日本乳化剤製)1モルを使用したこと以外は、実施例3と同様に合成した結果、純度99.0%の目的生成物が、81g(収率70%)得られた。色相は9であった。
実施例4において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノo−トリルエーテル(日本乳化剤製)1モルを使用したこと以外は、実施例4と同様に合成した結果、純度99.0%の目的生成物が、80g(収率69%)得られた。色相は10であった。
参考例1において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノo−トリルエーテル(日本乳化剤製)1モルを使用したこと以外は、参考例1と同様に合成した結果、反応混合物において、HPLCにて測定した9−フルオレノンの転化率は70%であった。また、得られた結晶のHPLC純度を測定したところ、純度が72%であり、副生物が大量に生成してしまった。また、色相は、30であった。
参考例1において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノo−トリルエーテル(日本乳化剤製)1モルを使用したこと以外は、参考例1と同様に合成した結果、反応混合物において、HPLCにて測定した9−フルオレノンの転化率は52%であった。
セパラブルフラスコに、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン(BCF、大阪ガスケミカル(株)製)37.8g(0.1モル)、エチレンカーボネート29.5g(0.25モル)および溶媒としてのジエチレングリコール212g(2モル)を入れ、触媒として1−メチルイミダゾール3gを添加した後に、100℃に加熱して5時間反応させた。反応終了後、溶媒IPA(イソプロピルアルコール)500mlを加えて10℃まで冷却することにより、生成物40gを得た。得られた生成物のうち、HPLCにて測定した9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−メチルフェニル]フルオレンの純度は、60%未満であった。
実施例1において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノ(2,6−キシリル)エーテル1モルを使用したこと以外は、実施例1と同様に合成した結果、純度99.4%の目的生成物が、80.2g(収率65%)得られた。色相は6であった。なお、得られたサンプルの1H−NMRおよびマススペクトルを測定した結果、目的とする9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジメチルフェニル]フルオレン(下記式で表される化合物)であることを確認した。
実施例2において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノ(2,6−キシリル)エーテル1モルを使用したこと以外は、実施例2と同様に合成した結果、純度99.0%の目的生成物が、82g(収率67%)得られた。色相は8であった。
実施例3において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノ(2,6−キシリル)エーテル1モルを使用したこと以外は、実施例3と同様に合成した結果、純度99.0%の目的生成物が、79g(収率64%)得られた。色相は10であった。
実施例4において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノ(2,6−キシリル)エーテル1モルを使用したこと以外は、実施例4と同様に合成した結果、純度99.1%の目的生成物が、75g(収率60%)得られた。色相は9であった。
参考例1において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノ(2,6−キシリル)エーテル1モルを使用したこと以外は、参考例1と同様に合成した結果、反応混合物において、HPLCにて測定した9−フルオレノンの転化率は82%であった。また、得られた結晶のHPLC純度を測定したところ、純度が63%であり、副生物が大量に生成してしまった。また、色相は、40であった。
参考例1において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノ(2,6−キシリル)エーテル1モルを使用したこと以外は、参考例1と同様に合成した結果、反応混合物において、HPLCにて測定した9−フルオレノンの転化率は43%であった。
セパラブルフラスコに、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン(BXF、大阪ガスケミカル(株)製)49.4g(0.1モル)、エチレンカーボネート29.5g(0.25モル)および溶媒としてのジエチレングリコール212g(2モル)を入れ、触媒として1−メチルイミダゾール3gを添加した後に、100℃に加熱して6時間反応させた。反応終了後、溶媒IPA(イソプロピルアルコール)500mlを加えて10℃まで冷却することにより、生成物45gを得た。得られた生成物のうち、HPLCにて測定した9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジメチルフェニル]フルオレンの純度は、60%未満であった。
実施例1において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノ(2−ナフチル)エーテル1モルを使用したこと以外は、実施例1と同様に合成した結果、純度98.3%の目的生成物が、87g(収率67%)得られた。色相は30であった。なお、得られたサンプルの1H−NMRおよびマススペクトルを測定した結果、目的とする9,9−ビス[6−(2−ヒドロキシエトキシ)−2−ナフチル]フルオレン(下記式で表される化合物)であることを確認した。
実施例2において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノ(2−ナフチル)エーテル1モルを使用したこと以外は、実施例2と同様に合成した結果、純度98.5%の目的生成物が、81g(収率61%)得られた。色相は35であった。
実施例3において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノ(2−ナフチル)エーテル1モルを使用したこと以外は、実施例3と同様に合成した結果、純度98.8%の目的生成物が、85g(収率63%)得られた。色相は28であった。
実施例4において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノ(2−ナフチル)エーテル1モルを使用したこと以外は、実施例4と同様に合成した結果、純度99.1%の目的生成物が、78g(収率59%)得られた。色相は41であった。
参考例1において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノ(2−ナフチル)エーテル1モルを使用したこと以外は、参考例1と同様に合成した結果、反応混合物において、HPLCにて測定した9−フルオレノンの転化率は91.3%であった。また、得られた結晶のHPLC純度を測定したところ、純度が68.3%であり、副生物が大量に生成してしまった。また、色相は、60であった。
参考例1において、2−フェノキシエタノール1モルに変えて、エチレングリコールモノ(2−ナフチル)エーテルを使用したこと以外は、参考例1と同様に合成した結果、反応混合物において、HPLCにて測定した9−フルオレノンの転化率は82.1%であった。
セパラブルフラスコに、9,9−ビス(6−ヒドロキシ−2−ナフチル)フルオレン(BNF、大阪ガスケミカル(株)製)45g(0.1モル)、エチレンカーボネート29.6g(0.25モル)および溶媒としてのジエチレングリコール212g(2モル)を入れ、触媒として1−メチルイミダゾール3gを添加した後に、90℃に加熱して5時間反応させた。反応終了後、溶媒IPA(イソプロピルアルコール)500mlを加えて10℃まで冷却することにより、生成物40gを得た。得られた生成物のうち、HPLCにて測定した9,9−ビス[6−(2−ヒドロキシエトキシ)−2−ナフチル]フルオレンの純度は、60%未満であった。
反応器に、実施例1で得られた9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン0.8モル、エチレングリコール2.2モル、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸1.0モルを加え撹拌しながら徐々に加熱溶融し、エステル交換反応を行った後、酸化ゲルマニウム20×10−4モルを加え、298℃、1トール以下に到達するまで徐々に昇温、減圧しながらエチレングリコールを除去した。この後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂のペレットを得た。
実施例17において、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸に変えて、テレフタル酸ジメチルを使用したこと以外は、実施例17と同様にして、ポリエステル樹脂のペレットを得た。
実施例17において、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン0.8モルに変えて、実施例5で得られた9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−メチルフェニル]フルオレン0.8モルを使用したこと以外は、実施例17と同様にして、ポリエステル樹脂のペレットを得た。
実施例19において、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸に変えて、テレフタル酸ジメチルを使用したこと以外は、実施例19と同様にして、ポリエステル樹脂のペレットを得た。
実施例17において、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン0.8モルに変えて、実施例9で得られた9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジメチルフェニル]フルオレン0.8モルを使用したこと以外は、実施例17と同様にして、ポリエステル樹脂のペレットを得た。
実施例21において、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸に変えて、テレフタル酸ジメチルを使用したこと以外は、実施例21と同様にして、ポリエステル樹脂のペレットを得た。
実施例17において、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン0.8モルに変えて、実施例13で得られた9,9−ビス[6−(2−ヒドロキシエトキシ)−2−ナフチル]フルオレン0.8モルを使用したこと以外は、実施例17と同様にして、ポリエステル樹脂のペレットを得た。
実施例23において、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸に変えて、テレフタル酸ジメチルを使用したこと以外は、実施例23と同様にして、ポリエステル樹脂のペレットを得た。
実施例1で得られた9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン43.8g(0.1モル)、アクリル酸18.7g(2.6モル)、p−トルエンスルホン酸2.2g、トルエン98g、及びメトキノン0.21gを仕込み、110℃〜115℃で還流しながら理論脱水量を得るまで脱水エステル化反応を行った。その後、反応液をアルカリ中和し、20%食塩水で洗浄を行った。洗浄後、トルエンを除去した。さらに、得られた化合物のNMR分析を行った結果、目的とするジアクリレート(下記式で表される化合物)を主成分とする化合物(HPLC純度85%以上)であることを確認した。
そして、得られた化合物の屈折率は1.626、色相(APHA)は20、色差b*は3であった。
実施例25において、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンに変えて、実施例5で得られた9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−メチルフェニル]フルオレンを用いた以外は、実施例25と同様にして、化合物を得た。得られた化合物のNMR分析を行った結果、目的とするジアクリレート(下記式で表される化合物)を主成分とする化合物(HPLC純度80%以上)であることを確認した。そして、得られた化合物の屈折率は1.617、色相(APHA)は60、色差b*は9であった。
実施例25において、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンに変えて、実施例9で得られた9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジメチルフェニル]フルオレンを用いた以外は、実施例25と同様にして、化合物を得た。得られた化合物のNMR分析を行った結果、目的とするジアクリレート(下記式で表される化合物)を主成分とする化合物(HPLC純度80%以上)であることを確認した。そして、得られた化合物の屈折率は1.610、色相(APHA)は55、色差b*は8であった。
実施例25において、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンに変えて、実施例13で得られた9,9−ビス[6−(2−ヒドロキシエトキシ)−2−ナフチル]フルオレンを用いた以外は、実施例25と同様にして、化合物を得た。得られた化合物のNMR分析を行った結果、目的とするジアクリレート(下記式で表される化合物)を主成分とする化合物(HPLC純度80%以上)であることを確認した。そして、得られた化合物の屈折率は1.649、色相(APHA)は500、色差b*は40であった。
ディーンスタークおよび還流管を取り付けたセパラブルフラスコに、実施例1で得られた9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン43.8g(0.1モル)、クロロメチルオキシラン92g(1mol)、塩化テトラメチルアンモニウム(特級、関東化学(株)製)1gを添加し、65℃で1時間、加熱溶解させた。その後、フレーク状の水酸化ナトリウム12gを、温度が70℃以下を保つように少量ずつ120分以内に投入した。
実施例29において、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンに変えて、実施例5で得られた9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−メチルフェニル]フルオレンを用いた以外は、実施例29と同様にして、化合物を得た。得られた化合物のNMR分析を行った結果、目的とするジグリシジルエーテル(下記式で表される化合物)を主成分とする化合物(HPLC純度80%以上)であることを確認した。得られた化合物のへーズは0.9、色相(APHA)は93、色差b*は8.5であった。
実施例29において、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンに変えて、実施例9で得られた9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジメチルフェニル]フルオレンを用いた以外は、実施例29と同様にして、化合物を得た。得られた化合物のNMR分析を行った結果、目的とするジグリシジルエーテル(下記式で表される化合物)を主成分とする化合物(HPLC純度80%以上)であることを確認した。得られた化合物のへーズは1.2、色相(APHA)は77、色差b*は8であった。
実施例29において、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンに変えて、実施例13で得られた9,9−ビス[6−(2−ヒドロキシエトキシ)−2−ナフチル]フルオレンを用いた以外は、実施例29と同様にして、化合物を得た。得られた化合物のNMR分析を行った結果、目的とするジグリシジルエーテル(下記式で表される化合物)を主成分とする化合物(HPLC純度80%以上)であることを確認した。得られた化合物のへーズは0.8、色相(APHA)は210、色差b*は25であった。
Claims (17)
- 酸触媒およびチオール類の存在下、下記式(1)
で表されるフルオレノン類と、下記式(2)
で表されるアルコールとを反応させ、下記式(3)
で表される化合物を製造する方法であって、
前記式(2)で表されるアルコールの使用割合が、前記式(1)で表されるフルオレノン類1モルに対して3モル以上であり、かつ前記チオール類の使用割合が、前記式(1)で表されるフルオレノン類100重量部に対して3重量部以上である製造方法。 - 式(2)において、環Zがベンゼン環であり、R2がC2−4アルキレン基であり、mが1であり、pが0〜3であり、R3がアルキル基である請求項1記載の製造方法。
- 式(2)で表されるアルコールが、C2−4アルキレングリコールモノフェニルエーテル、およびC2−4アルキレングリコールモノ(モノ又はジC1−4アルキルフェニル)エーテルから選択されたアルコールである請求項1記載の製造方法。
- 式(2)において、環Zがナフタレン環であり、R2がC2−4アルキレン基であり、mが1である請求項1記載の製造方法。
- 式(2)で表されるアルコールが、C2−4アルキレングリコールモノナフチルエーテルである請求項1記載の製造方法。
- 酸触媒が硫酸であり、チオール類がメルカプトC2−6カルボン酸である請求項1記載の製造方法。
- チオール類の使用割合が、式(1)で表されるフルオレノン類100重量部に対して5〜30重量部である請求項1記載の製造方法。
- チオール類の使用割合が、酸触媒100重量部に対して4〜25重量部である請求項1記載の製造方法。
- (i)式(2)で表されるアルコールの使用割合が、式(1)で表されるフルオレノン類1モルに対して3〜15モルであり、(ii)チオール類の使用割合が、式(1)で表されるフルオレノン類100重量部に対して6〜25重量部であり、(iii)チオール類の使用割合が、酸触媒100重量部に対して5〜20重量部である請求項1記載の製造方法。
- 少なくとも芳香族炭化水素類で構成された溶媒の存在下で反応させる請求項1記載の製造方法。
- 溶媒の割合が、式(1)で表されるフルオレノン類および式(2)で表されるアルコールの総量1重量部に対して、0.3〜10重量部である請求項10記載の製造方法。
- (i)式(2)で表されるアルコールの使用割合が、式(1)で表されるフルオレノン類1モルに対して3.5〜10モルであり、(ii)チオール類の使用割合が、式(1)で表されるフルオレノン類100重量部に対して7〜20重量部であり、(iii)チオール類の使用割合が、酸触媒100重量部に対して6〜18重量部であり、(iv)芳香族炭化水素類がC6−10アレーンであり、(v)溶媒の割合が、式(1)で表されるフルオレノン類および式(2)で表されるアルコールの総量1重量部に対して、0.5〜5重量部である請求項10又は11記載の製造方法。
- 請求項1〜12の製造方法により得られる前記式(3)で表される化合物であって、環Zがベンゼン環およびpが1〜4であるか、又は環Zがナフタレン環である化合物。
- 色相が20以下の9,9−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシ−モノ又はジアルキルフェニル)フルオレンである請求項13記載の化合物。
- 色相が60以下の9,9−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシナフチル)フルオレンである請求項13記載の化合物。
- 請求項13〜15のいずれかに記載の化合物を重合成分とする樹脂であって、ポリエステル樹脂、ポリ(メタ)アクリレートおよびエポキシ樹脂から選択された樹脂。
- ポリエステル樹脂の色差b*が20以下であり、ポリ(メタ)アクリレートの色差b*が50以下であり、エポキシ樹脂の色差b*が40以下である請求項16記載の樹脂。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009223257A JP5513825B2 (ja) | 2009-09-28 | 2009-09-28 | フルオレン骨格を有するアルコールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009223257A JP5513825B2 (ja) | 2009-09-28 | 2009-09-28 | フルオレン骨格を有するアルコールの製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014002200A Division JP5883461B2 (ja) | 2014-01-09 | 2014-01-09 | フルオレン骨格を有するアルコール及び樹脂 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011068624A true JP2011068624A (ja) | 2011-04-07 |
JP5513825B2 JP5513825B2 (ja) | 2014-06-04 |
Family
ID=44014268
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009223257A Active JP5513825B2 (ja) | 2009-09-28 | 2009-09-28 | フルオレン骨格を有するアルコールの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5513825B2 (ja) |
Cited By (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013164501A (ja) * | 2012-02-10 | 2013-08-22 | Teijin Ltd | 光学フィルム |
JP2015098458A (ja) * | 2013-11-20 | 2015-05-28 | 田岡化学工業株式会社 | フルオレン誘導体の非晶質形態およびその製造方法 |
CN104684946A (zh) * | 2012-09-26 | 2015-06-03 | 富士胶片株式会社 | 半固化物、固化物及其制造方法、光学部件、固化树脂组合物以及化合物 |
US9316913B2 (en) | 2011-08-12 | 2016-04-19 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Underlayer film-forming material for lithography, underlayer film for lithography, and pattern formation method |
JP2016121077A (ja) * | 2014-12-24 | 2016-07-07 | Dic株式会社 | (メタ)アクリレート化合物、(メタ)アクリレート化合物の製造方法、ラジカル硬化性樹脂、ラジカル硬化性樹脂組成物、その硬化物、レジスト材料 |
EP3051350A2 (en) | 2011-08-12 | 2016-08-03 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Alcoholic compound and method for producing alcoholic compound |
WO2016140245A1 (ja) * | 2015-03-02 | 2016-09-09 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化物、光学部材、レンズ及び化合物 |
CN106103497A (zh) * | 2014-03-19 | 2016-11-09 | 富士胶片株式会社 | 固化性组合物、光学部件及化合物 |
CN106349189A (zh) * | 2016-08-26 | 2017-01-25 | 天津久日新材料股份有限公司 | 9,9‑双[4‑(2,3‑环氧丙氧基乙氧基)苯基]芴的制备方法 |
US9809601B2 (en) | 2013-02-08 | 2017-11-07 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, material for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and pattern forming method |
US9828355B2 (en) | 2013-02-08 | 2017-11-28 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, material for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and pattern forming method |
KR20170131667A (ko) | 2015-03-31 | 2017-11-29 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 레지스트 조성물, 레지스트패턴 형성방법, 및 이것에 이용하는 폴리페놀 화합물 |
US20170349564A1 (en) | 2014-12-25 | 2017-12-07 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, material for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography, pattern forming method, and purification method |
JP2018158924A (ja) * | 2013-03-29 | 2018-10-11 | 東京応化工業株式会社 | ビニル基含有化合物を含有する組成物 |
JP2018168124A (ja) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | 大阪ガスケミカル株式会社 | フルオレン誘導体の製造方法 |
WO2018230394A1 (ja) * | 2017-06-15 | 2018-12-20 | 田岡化学工業株式会社 | フルオレン骨格を有するアルコール類の製造方法 |
JPWO2017170096A1 (ja) * | 2016-03-28 | 2019-02-07 | 本州化学工業株式会社 | 新規なジヒドロキシ化合物の製造方法 |
CN109476835A (zh) * | 2016-07-21 | 2019-03-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚碳酸酯树脂、其制造方法和光学透镜 |
US10377734B2 (en) | 2013-02-08 | 2019-08-13 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenol derivative for use in the composition |
JP2019172667A (ja) * | 2018-03-28 | 2019-10-10 | 大阪ガスケミカル株式会社 | 9,9−ビス[6−(2−ヒドロキシエトキシ)−2−ナフチル]フルオレンの結晶多形及びその製造方法 |
JP2020040929A (ja) * | 2018-09-14 | 2020-03-19 | 新日本理化株式会社 | 新規な環式ジオール化合物 |
US10604623B2 (en) | 2016-02-24 | 2020-03-31 | Fujifilm Corporation | Polycarbonate resin, molded article, optical member, and lens |
JP2020075904A (ja) * | 2018-09-27 | 2020-05-21 | 大阪ガスケミカル株式会社 | フルオレン誘導体の製造方法 |
US11067889B2 (en) | 2015-09-03 | 2021-07-20 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, composition, and method for producing same, underlayer film forming material for lithography, composition for underlayer film formation for lithography, and purification method |
US11137686B2 (en) | 2015-08-31 | 2021-10-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Material for forming underlayer film for lithography, composition for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and production method thereof, and resist pattern forming method |
US11143962B2 (en) | 2015-08-31 | 2021-10-12 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Material for forming underlayer film for lithography, composition for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and production method thereof, pattern forming method, resin, and purification method |
US11243467B2 (en) | 2015-09-10 | 2022-02-08 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, resist composition or radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, method for producing amorphous film, underlayer film forming material for lithography, composition for underlayer film formation for lithography, method for forming circuit pattern, and purification method |
US11256170B2 (en) | 2015-03-31 | 2022-02-22 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resist composition, and method for forming resist pattern using it |
CN115135631A (zh) * | 2020-03-19 | 2022-09-30 | 帝人株式会社 | 多环芳烃化合物、其晶体及其制造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07165657A (ja) * | 1993-12-10 | 1995-06-27 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン誘導品の製造方法及びその精製方法 |
JPH1045655A (ja) * | 1996-07-30 | 1998-02-17 | Taoka Chem Co Ltd | フルオレン誘導体の製造方法 |
JPH1045656A (ja) * | 1996-07-30 | 1998-02-17 | Taoka Chem Co Ltd | フルオレン誘導体の製造法 |
JPH11263831A (ja) * | 1998-03-18 | 1999-09-28 | Nippon Ester Co Ltd | 共重合ポリエステルの製造方法及びフィルム |
JP2000191577A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-11 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン誘導体の製造法 |
JP2005104898A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン誘導体の製造方法 |
JP2009046416A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-05 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン骨格を有するアルコール類の製造方法 |
-
2009
- 2009-09-28 JP JP2009223257A patent/JP5513825B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07165657A (ja) * | 1993-12-10 | 1995-06-27 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン誘導品の製造方法及びその精製方法 |
JPH1045655A (ja) * | 1996-07-30 | 1998-02-17 | Taoka Chem Co Ltd | フルオレン誘導体の製造方法 |
JPH1045656A (ja) * | 1996-07-30 | 1998-02-17 | Taoka Chem Co Ltd | フルオレン誘導体の製造法 |
JPH11263831A (ja) * | 1998-03-18 | 1999-09-28 | Nippon Ester Co Ltd | 共重合ポリエステルの製造方法及びフィルム |
JP2000191577A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-11 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン誘導体の製造法 |
JP2005104898A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン誘導体の製造方法 |
JP2009046416A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-05 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン骨格を有するアルコール類の製造方法 |
Cited By (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9598392B2 (en) | 2011-08-12 | 2017-03-21 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenolic compound for use in the composition, and alcoholic compound that can be derived therefrom |
KR20190032618A (ko) | 2011-08-12 | 2019-03-27 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성방법, 이에 이용되는 폴리페놀 화합물 및 이로부터 유도될 수 있는 알코올 화합물 |
US9316913B2 (en) | 2011-08-12 | 2016-04-19 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Underlayer film-forming material for lithography, underlayer film for lithography, and pattern formation method |
KR20190032616A (ko) | 2011-08-12 | 2019-03-27 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성방법, 이에 이용되는 폴리페놀 화합물 및 이로부터 유도될 수 있는 알코올 화합물 |
EP3051350A2 (en) | 2011-08-12 | 2016-08-03 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Alcoholic compound and method for producing alcoholic compound |
EP3062151A1 (en) | 2011-08-12 | 2016-08-31 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenolic compound for use in the composition, and alcoholic compound that can be derived therefrom |
US9908831B2 (en) | 2011-08-12 | 2018-03-06 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenolic compound for use in the composition, and alcoholic compound that can be derived therefrom |
US9540339B2 (en) | 2011-08-12 | 2017-01-10 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenolic compound for use in the composition, and alcoholic compound that can be derived therefrom |
JP2013164501A (ja) * | 2012-02-10 | 2013-08-22 | Teijin Ltd | 光学フィルム |
CN104684946A (zh) * | 2012-09-26 | 2015-06-03 | 富士胶片株式会社 | 半固化物、固化物及其制造方法、光学部件、固化树脂组合物以及化合物 |
US20150197592A1 (en) * | 2012-09-26 | 2015-07-16 | Fujifilm Corporation | Semi-cured product, cured product and method for producing these, optical component, curable resin composition, and compound |
US9334352B2 (en) | 2012-09-26 | 2016-05-10 | Fujifilm Corporation | Semi-cured product, cured product and method for producing these, optical component, curable resin composition, and compound |
US9809601B2 (en) | 2013-02-08 | 2017-11-07 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, material for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and pattern forming method |
US9828355B2 (en) | 2013-02-08 | 2017-11-28 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, material for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and pattern forming method |
US10377734B2 (en) | 2013-02-08 | 2019-08-13 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenol derivative for use in the composition |
JP2018158924A (ja) * | 2013-03-29 | 2018-10-11 | 東京応化工業株式会社 | ビニル基含有化合物を含有する組成物 |
JP2015098458A (ja) * | 2013-11-20 | 2015-05-28 | 田岡化学工業株式会社 | フルオレン誘導体の非晶質形態およびその製造方法 |
CN106103497A (zh) * | 2014-03-19 | 2016-11-09 | 富士胶片株式会社 | 固化性组合物、光学部件及化合物 |
US9902794B2 (en) | 2014-03-19 | 2018-02-27 | Fujifilm Corporation | Curable composition, optical component and compound |
JP2016121077A (ja) * | 2014-12-24 | 2016-07-07 | Dic株式会社 | (メタ)アクリレート化合物、(メタ)アクリレート化合物の製造方法、ラジカル硬化性樹脂、ラジカル硬化性樹脂組成物、その硬化物、レジスト材料 |
US10745372B2 (en) | 2014-12-25 | 2020-08-18 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, material for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography, pattern forming method, and purification method |
US20170349564A1 (en) | 2014-12-25 | 2017-12-07 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, material for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography, pattern forming method, and purification method |
JP2019131571A (ja) * | 2015-03-02 | 2019-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化物、光学部材、レンズ及び化合物 |
US9994661B2 (en) | 2015-03-02 | 2018-06-12 | Fujifilm Corporation | Curable composition, cured product, optical component, lens, and compound |
WO2016140245A1 (ja) * | 2015-03-02 | 2016-09-09 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化物、光学部材、レンズ及び化合物 |
US11480877B2 (en) | 2015-03-31 | 2022-10-25 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist composition, method for forming resist pattern, and polyphenol compound used therein |
US11256170B2 (en) | 2015-03-31 | 2022-02-22 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resist composition, and method for forming resist pattern using it |
KR20170131667A (ko) | 2015-03-31 | 2017-11-29 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 레지스트 조성물, 레지스트패턴 형성방법, 및 이것에 이용하는 폴리페놀 화합물 |
US11137686B2 (en) | 2015-08-31 | 2021-10-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Material for forming underlayer film for lithography, composition for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and production method thereof, and resist pattern forming method |
US11143962B2 (en) | 2015-08-31 | 2021-10-12 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Material for forming underlayer film for lithography, composition for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and production method thereof, pattern forming method, resin, and purification method |
US11067889B2 (en) | 2015-09-03 | 2021-07-20 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, composition, and method for producing same, underlayer film forming material for lithography, composition for underlayer film formation for lithography, and purification method |
US11243467B2 (en) | 2015-09-10 | 2022-02-08 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, resist composition or radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, method for producing amorphous film, underlayer film forming material for lithography, composition for underlayer film formation for lithography, method for forming circuit pattern, and purification method |
US11572430B2 (en) | 2015-09-10 | 2023-02-07 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, resist composition or radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, method for producing amorphous film, underlayer film forming material for lithography, composition for underlayer film formation for lithography, method for forming circuit pattern, and purification method |
US10604623B2 (en) | 2016-02-24 | 2020-03-31 | Fujifilm Corporation | Polycarbonate resin, molded article, optical member, and lens |
JPWO2017170096A1 (ja) * | 2016-03-28 | 2019-02-07 | 本州化学工業株式会社 | 新規なジヒドロキシ化合物の製造方法 |
US10767007B2 (en) | 2016-07-21 | 2020-09-08 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polycarbonate resin, method for producing same, and optical lens |
EP3489279A4 (en) * | 2016-07-21 | 2020-03-18 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | POLYCARBONATE RESIN, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME AND OPTICAL LENS |
CN113667109B (zh) * | 2016-07-21 | 2023-04-25 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚碳酸酯树脂、其制造方法和光学透镜 |
CN109476835A (zh) * | 2016-07-21 | 2019-03-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚碳酸酯树脂、其制造方法和光学透镜 |
CN109476835B (zh) * | 2016-07-21 | 2021-09-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚碳酸酯树脂、其制造方法和光学透镜 |
CN113667109A (zh) * | 2016-07-21 | 2021-11-19 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚碳酸酯树脂、其制造方法和光学透镜 |
US11286342B2 (en) | 2016-07-21 | 2022-03-29 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polycarbonate resin, method for producing same, and optical lens |
EP4198072A1 (en) * | 2016-07-21 | 2023-06-21 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polycarbonate resin, method for producing same, and optical lens |
CN106349189A (zh) * | 2016-08-26 | 2017-01-25 | 天津久日新材料股份有限公司 | 9,9‑双[4‑(2,3‑环氧丙氧基乙氧基)苯基]芴的制备方法 |
JP2018168124A (ja) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | 大阪ガスケミカル株式会社 | フルオレン誘導体の製造方法 |
WO2018230394A1 (ja) * | 2017-06-15 | 2018-12-20 | 田岡化学工業株式会社 | フルオレン骨格を有するアルコール類の製造方法 |
KR20200018392A (ko) | 2017-06-15 | 2020-02-19 | 타오카 케미컬 컴퍼니 리미티드 | 플루오렌 골격을 갖는 알코올류의 제조 방법 |
JP7242375B2 (ja) | 2018-03-28 | 2023-03-20 | 大阪ガスケミカル株式会社 | 9,9-ビス[6-(2-ヒドロキシエトキシ)-2-ナフチル]フルオレンの結晶多形及びその製造方法 |
JP2019172667A (ja) * | 2018-03-28 | 2019-10-10 | 大阪ガスケミカル株式会社 | 9,9−ビス[6−(2−ヒドロキシエトキシ)−2−ナフチル]フルオレンの結晶多形及びその製造方法 |
JP7137060B2 (ja) | 2018-09-14 | 2022-09-14 | 新日本理化株式会社 | 新規な環式ジオール化合物 |
JP2020040929A (ja) * | 2018-09-14 | 2020-03-19 | 新日本理化株式会社 | 新規な環式ジオール化合物 |
JP2020075904A (ja) * | 2018-09-27 | 2020-05-21 | 大阪ガスケミカル株式会社 | フルオレン誘導体の製造方法 |
JP7317642B2 (ja) | 2018-09-27 | 2023-07-31 | 大阪ガスケミカル株式会社 | フルオレン誘導体の製造方法 |
CN115135631A (zh) * | 2020-03-19 | 2022-09-30 | 帝人株式会社 | 多环芳烃化合物、其晶体及其制造方法 |
CN115135631B (zh) * | 2020-03-19 | 2024-06-04 | 帝人株式会社 | 多环芳烃化合物、其晶体及其制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5513825B2 (ja) | 2014-06-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5513825B2 (ja) | フルオレン骨格を有するアルコールの製造方法 | |
JP5325627B2 (ja) | フルオレン骨格を有するアルコールの製造方法 | |
JP5883461B2 (ja) | フルオレン骨格を有するアルコール及び樹脂 | |
JP5285561B2 (ja) | フルオレン骨格を有するポリエステル樹脂 | |
JP5192641B2 (ja) | フルオレン骨格を有する化合物およびその製造方法 | |
JP5330683B2 (ja) | フルオレン骨格を有するアルコール | |
JP5564091B2 (ja) | フルオレン骨格を有する化合物およびその製造方法 | |
JP5543817B2 (ja) | フルオレン誘導体およびその製造方法 | |
JP5372492B2 (ja) | フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレート | |
JP6820646B2 (ja) | フルオレン骨格を有するビスフェノール類及びその製造方法、並びに該ビスフェノール類から誘導されるポリアリレート樹脂、(メタ)アクリレート化合物及びエポキシ樹脂 | |
JP2014028806A (ja) | フルオレン骨格を有するアルコール | |
JP5437106B2 (ja) | フルオレン骨格を有するポリエステル樹脂 | |
JP5501790B2 (ja) | フルオレン骨格を有するポリエステル樹脂 | |
JP4966484B2 (ja) | フルオレン化合物およびその製造方法 | |
JP5179808B2 (ja) | 新規ジベンゾフルオレン化合物 | |
JP5395352B2 (ja) | フルオレン骨格を有するアルコール | |
JP5054299B2 (ja) | フルオレン誘導体の製造方法 | |
JP6077903B2 (ja) | フルオレン骨格を有するポリヒドロキシ化合物 | |
JP5502969B2 (ja) | 新規ジベンゾフルオレン化合物 | |
JP2009155251A (ja) | フルオレン骨格を有するアルコール | |
JP7063644B2 (ja) | ビスナフチルフルオレン類並びにその製造方法及び用途 | |
JP5193353B2 (ja) | フルオレン骨格を有する化合物およびその製造方法 | |
TWI583717B (zh) | And a method for producing the same | |
JP2018168124A (ja) | フルオレン誘導体の製造方法 | |
JP6899184B2 (ja) | フルオレン骨格を有するビスフェノール類及び該ビスフェノール類から誘導されるポリアリレート樹脂 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120830 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131107 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131112 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140109 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140325 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140328 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5513825 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |