JP2011018925A5 - - Google Patents

Claims (17)

1. 浸漬式リソグラフィ装置の露光パラメータを補正する方法であって、
   前記浸漬式リソグラフィ装置の投影系とテーブルとの間の液体を介して投影される測定ビームを使用して露光パラメータを測定する工程と、
   前記測定された露光パラメータを少なくとも部分的に補正するために、前記測定ビームを使用して成される測定に影響を及ぼす物理特性の変化に基づき、オフセットを求める工程と、を含み、
   前記露光パラメータが、前記投影系を使用して投影されるべきパターン形成されたビームの横方向位置、又は前記テーブル上に保持された基板のＸ−Ｙ位置、或いはその両方を含む、
   方法。
2. 浸漬式リソグラフィ装置の露光パラメータを補正する方法であって、
   前記浸漬式リソグラフィ装置の投影系とテーブルとの間の液体を介して投影される測定ビームを使用して露光パラメータを測定する工程と、
   前記測定された露光パラメータを少なくとも部分的に補正するために、前記測定ビームを使用して成される測定に影響を及ぼす物理特性の変化に基づき、オフセットを求める工程と、を含み、
   前記オフセットが、前記物理特性変化と前記物理特性に対する露光パラメータの変化率との乗算を含む、
   方法。
3. 前記物理特性が、前記液体の温度、圧力、組成、又はこれらのあらゆる組合せを含む、
   請求項１又は２に記載の方法。
4. 前記物理特性が、フラッシング・ガスの、或いは、前記投影系の光学素子の又は前記投影系の光学素子上の、或いはその両方の温度、圧力、組成、又はこれらのあらゆる組合せを含む、
   請求項１又は２に記載の方法。
5. 浸漬式リソグラフィ装置の露光パラメータを補正する方法であって、
   前記浸漬式リソグラフィ装置の投影系とテーブルとの間の液体を介して投影される測定ビームを使用して露光パラメータを測定する工程と、
   前記測定された露光パラメータを少なくとも部分的に補正するために、前記測定ビームを使用して成される測定に影響を及ぼす物理特性の変化に基づき、オフセットを求める工程と、を含み、
   前記物理特性の変化に基づきオフセットを求める工程が、前記測定ビームの波長の物理特性変化と、前記投影系を使用して投影されるべきパターン形成されたビームの波長の物理特性変化と、の差に基づいてオフセットを求める工程を含む、
   方法。
6. 前記投影系の光学素子を介して、前記測定ビームと、基板を露光するためのパターン形成されたビームとを投影する工程を含む、
   請求項１から５の何れか一項に記載の方法。
7. リソグラフィ装置であって、
   基板を保持するように構成されたテーブルと、
   パターン形成されたビームを投影するように構成された投影系と、
   前記投影系と前記テーブルとの間の空間に液体を供給するように構成された液体供給系と、
   前記液体を介して投影された測定ビームを使用して露光パラメータを測定するように構成されたセンサと、
   前記測定された露光パラメータを少なくとも部分的に補正するために、前記測定ビームを使用して成される測定に影響を及ぼす物理特性の変化に基づきオフセットを求めるように構成された補正系と、を含み、
   前記露光パラメータが、前記パターン形成されたビームの横方向位置、又は前記基板のＸ−Ｙ位置、或いはその両方を含む、
   リソグラフィ装置。
8. リソグラフィ装置であって、
   基板を保持するように構成されたテーブルと、
   パターン形成されたビームを投影するように構成された投影系と、
   前記投影系と前記テーブルとの間の空間に液体を供給するように構成された液体供給系と、
   前記液体を介して投影された測定ビームを使用して露光パラメータを測定するように構成されたセンサと、
   前記測定された露光パラメータを少なくとも部分的に補正するために、前記測定ビームを使用して成される測定に影響を及ぼす物理特性の変化に基づきオフセットを求めるように構成された補正系と、を含み、
   前記オフセットが、前記物理特性変化と前記物理特性に対する露光パラメータの変化率との乗算を含む、
   リソグラフィ装置。
9. 前記物理特性が、前記液体の温度、圧力、組成、又はこれらのあらゆる組合せを含む、
   請求項７又は８に記載のリソグラフィ装置。
10. 前記液体の温度を測定するように構成された温度センサ、又は前記液体の圧力を測定するように構成された圧力センサ、或いはその両方をさらに含む、
    請求項９に記載のリソグラフィ装置。
11. 前記物理特性が、フラッシング・ガスの、或いは、前記投影系の光学素子の又は前記投影系の光学素子上の、或いはその両方の温度、圧力、組成、又はこれらのあらゆる組合せを含む、
    請求項７又は８に記載のリソグラフィ装置。
12. リソグラフィ装置であって、
    基板を保持するように構成されたテーブルと、
    パターン形成されたビームを投影するように構成された投影系と、
    前記投影系と前記テーブルとの間の空間に液体を供給するように構成された液体供給系と、
    前記液体を介して投影された測定ビームを使用して露光パラメータを測定するように構成されたセンサと、
    前記測定された露光パラメータを少なくとも部分的に補正するために、前記測定ビームを使用して成される測定に影響を及ぼす物理特性の変化に基づきオフセットを求めるように構成された補正系と、を含み、
    前記補正系が、前記測定ビームの波長の物理特性変化と前記パターン形成されたビームの波長の物理特性変化との差に基づいて前記オフセットを求めるように構成されている、
    リソグラフィ装置。
13. 前記パターン形成されたビームがそれを介して投影されるべき前記投影系の光学素子を介して、前記測定ビームを投影するように、前記センサが構成されている、
    請求項７から１２の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。
14. リソグラフィ装置であって、
    基板を保持するように構成されたテーブルと、
    パターン形成されたビームを投影するように構成された投影系と、
    前記投影系と前記テーブルとの間の空間に液体を供給するように構成された液体供給系と、
    前記液体を介して投影された測定ビームを使用して成される測定に影響を及ぼす１つ又は複数の物理特性を測定するように構成されたセンサと、
    前記投影系又は位置合わせ系に関連する１つ又は複数の定数と、
    前記測定された物理特性値を使用して前記定数を補正する補正系と、を含む、
    リソグラフィ装置。
15. 前記物理特性値が、前記液体の圧力及び／又は温度を含む、
    請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
16. 浸漬式リソグラフィ装置の露光パラメータを補正する方法であって、
    前記浸漬式リソグラフィ装置の投影系と基板テーブルとの間の液体を介して投影される測定ビームを使用して露光パラメータを測定する工程と、
    前記測定ビームを使用して成される測定に影響を及ぼす複数の物理特性を測定する工程と、
    前記測定された露光パラメータを少なくとも部分的に補正するために、前記測定された複数の物理特性のそれぞれの変化に起因するそれぞれのオフセットの合計である累積オフセットを求める工程と、を含み、
    前記累積オフセットの各オフセットは、前記測定された物理特性値（Ｘ＿ｊ）に対する前記測定された露光パラメータ（Ｐ）の変化率（ｄＰ／ｄＸ＿ｊ）に、前記測定された物理特性値（Ｘ＿ｊ）を乗じて得た値（Ｘ＿ｊ×（ｄＰ／ｄＸ＿ｊ））である、
    方法。
17. 前記複数の物理特性には、以下の（ａ）〜（ｃ）の物理特性
    （ａ）前記液体の温度、圧力あるいは組成又はこれらのあらゆる組合せ、
    （ｂ）フラッシング・ガスの温度あるいは圧力又はこれらの組合せ、
    （ｃ）前記投影系の光学素子の温度あるいは圧力又はこれらの組合せ、
    のうちの二つ以上が含まれる、
    請求項１６に記載の方法。