JP2008145203A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008145203A5 JP2008145203A5 JP2006331141A JP2006331141A JP2008145203A5 JP 2008145203 A5 JP2008145203 A5 JP 2008145203A5 JP 2006331141 A JP2006331141 A JP 2006331141A JP 2006331141 A JP2006331141 A JP 2006331141A JP 2008145203 A5 JP2008145203 A5 JP 2008145203A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- path
- wavelength
- air vibration
- length
- laser interferometer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 10
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims 1
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 230000003584 silencer Effects 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
Claims (7)
- レーザ光の干渉を利用して測定対象の位置を計測するレーザ干渉計を含む計測手段と、
前記レーザ光の波長の変化を検出する波長検出器と、
空調装置の空気振動源から前記波長検出器までの空気振動が伝わる第1経路と、前記空気振動源から前記レーザ干渉計の光路までの前記空気振動が伝わる第2経路との長さの差に基づいて決定された、前記波長検出器と前記光路における前記空気振動の位相差に基づいて、前記波長検出器で検出される波長変化を補正する第1補正手段と、
前記第1補正手段で補正された波長変化に基づいて前記レーザ干渉計による計測値を補正する第2補正手段とを備え、
前記第2経路の長さよりも、前記第1経路の長さの方が短いことを特徴とする位置測定システム。 - 前記第1補正手段は、前記空気振動の前記位相差の分だけ前記波長検出器で検出された波長変化を遅延させて出力することを特徴とする請求項1に記載の位置測定システム。
- 前記第1経路は、前記光路に気体を送風するためのファンから前記波長検出器までの経路であり、前記第2経路は、前記ファンから前記光路までの経路であることを特徴とする請求項1または2に記載の位置測定システム。
- 前記第1及び第2経路に消音器が設けられたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の位置測定システム。
- 前記第1補正手段は、前記計測手段により計測された前記測定対象の位置に基づいて前記第2経路の長さを算出する算出手段を更に備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の位置測定システム。
- レーザ干渉計を利用して測定対象の位置を計測する計測工程と、
前記レーザ干渉計が用いるレーザ光の波長の変化を波長検出器により検出する検出工程と、
空調装置の空気振動源から前記波長検出器までの空気振動が伝わる第1経路と、前記空気振動源から前記レーザ干渉計の光路までの前記空気振動が伝わる第2経路との長さの差に基づいて決定された、前記波長検出器と前記光路における前記空気振動の位相差に基づいて、前記検出工程で検出される波長変化を補正する第1補正工程と、
前記第1補正工程で補正された波長変化に基づいて前記レーザ干渉計による計測値を補正する第2補正工程とを備え、
前記第2経路の長さよりも、前記第1経路の長さの方が短いことを特徴とする位置測定方法。 - 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の位置測定システムを用いて、基板を搭載したステージまたは原版を搭載したステージの位置を測定することを特徴とする露光装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006331141A JP4823039B2 (ja) | 2006-12-07 | 2006-12-07 | 位置測定方法、位置測定システム及び露光装置 |
TW096143060A TW200839183A (en) | 2006-12-07 | 2007-11-14 | Position measuring method, position measuring system, and exposure apparatus |
US11/951,615 US7751060B2 (en) | 2006-12-07 | 2007-12-06 | Position measuring method, position measuring system, and exposure apparatus |
KR1020070126612A KR20080052492A (ko) | 2006-12-07 | 2007-12-07 | 위치측정방법, 위치측정 시스템 및 노광 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006331141A JP4823039B2 (ja) | 2006-12-07 | 2006-12-07 | 位置測定方法、位置測定システム及び露光装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008145203A JP2008145203A (ja) | 2008-06-26 |
JP2008145203A5 true JP2008145203A5 (ja) | 2010-01-28 |
JP4823039B2 JP4823039B2 (ja) | 2011-11-24 |
Family
ID=39497597
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006331141A Expired - Fee Related JP4823039B2 (ja) | 2006-12-07 | 2006-12-07 | 位置測定方法、位置測定システム及び露光装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7751060B2 (ja) |
JP (1) | JP4823039B2 (ja) |
KR (1) | KR20080052492A (ja) |
TW (1) | TW200839183A (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007051391B3 (de) * | 2007-10-25 | 2008-12-18 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Einrichtung zum Bestimmen von Positionen von Strukturen auf einem Substrat |
JP5561968B2 (ja) * | 2009-08-12 | 2014-07-30 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法および振動成分抽出方法 |
CN102445149B (zh) * | 2010-10-14 | 2014-02-19 | 上海微电子装备有限公司 | 一种工件台位置测量装置与测量方法 |
DE102012201393A1 (de) | 2012-02-01 | 2013-08-01 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Positionsmesseinrichtung und Anordnung mit mehreren Positionsmesseinrichtungen |
DE102013213525B3 (de) * | 2013-07-10 | 2014-08-21 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Verfahren zum Kalibrieren eines Positionsmeßsystems und Positionsmeßsystem |
KR102293654B1 (ko) * | 2014-02-11 | 2021-08-26 | 엘지전자 주식회사 | 디스플레이 장치 및 그 제어방법 |
CN105881096A (zh) * | 2014-05-09 | 2016-08-24 | 科德数控股份有限公司 | 利用激光直接反馈的圆周误差补偿方法 |
CN105881103A (zh) * | 2014-05-09 | 2016-08-24 | 科德数控股份有限公司 | 利用激光直接反馈的直线误差补偿方法 |
JP6868571B2 (ja) * | 2015-05-06 | 2021-05-12 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置 |
CN105841638B (zh) * | 2016-05-13 | 2019-02-12 | 深圳市中图仪器股份有限公司 | 一种用于激光干涉仪测量导轨直线度的光学系统 |
JP6780441B2 (ja) * | 2016-10-26 | 2020-11-04 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
JP7494066B2 (ja) | 2020-09-14 | 2024-06-03 | キヤノン株式会社 | 露光装置、及び物品の製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0785112B2 (ja) * | 1987-02-16 | 1995-09-13 | キヤノン株式会社 | ステージ装置 |
US4765741A (en) * | 1987-03-20 | 1988-08-23 | Hewlett-Packard Company | Wavelength tracking compensator for an interferometer |
JPH03252507A (ja) * | 1990-03-02 | 1991-11-11 | Hitachi Ltd | レーザ干渉測長装置およびそれを用いた位置決め方法 |
US5801833A (en) * | 1991-03-08 | 1998-09-01 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method of producing master and working pattern plates for etching and photolithographic apparatus therefor |
US5469260A (en) * | 1992-04-01 | 1995-11-21 | Nikon Corporation | Stage-position measuring apparatus |
JPH0618442A (ja) * | 1992-06-30 | 1994-01-25 | Adomon Sci Kk | 検査装置 |
JP3448787B2 (ja) * | 1994-08-30 | 2003-09-22 | 株式会社ニコン | ステージ位置計測装置 |
JP2888215B2 (ja) * | 1996-12-02 | 1999-05-10 | 株式会社ニコン | 露光装置及び測定方法 |
JP2000020075A (ja) * | 1998-07-02 | 2000-01-21 | Nikon Corp | 空調システム、干渉計システム、及び露光装置システム |
JP2003065712A (ja) * | 2001-08-21 | 2003-03-05 | Canon Inc | レーザ干渉計測長器、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 |
JP4502366B2 (ja) * | 2004-01-21 | 2010-07-14 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
-
2006
- 2006-12-07 JP JP2006331141A patent/JP4823039B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-11-14 TW TW096143060A patent/TW200839183A/zh unknown
- 2007-12-06 US US11/951,615 patent/US7751060B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-12-07 KR KR1020070126612A patent/KR20080052492A/ko active IP Right Grant
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008145203A5 (ja) | ||
WO2008092121A3 (en) | Purge gas flow control for high-precision film measurements using ellipsometry and reflectometry | |
JP2011018925A5 (ja) | ||
ATE494529T1 (de) | Kalibrierung eines profilmesssystems | |
US7751060B2 (en) | Position measuring method, position measuring system, and exposure apparatus | |
JP2011040549A5 (ja) | ||
JP2013503477A5 (ja) | ||
JP6553295B2 (ja) | 近接センサ、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 | |
WO2010062860A3 (en) | Fiber-based interferometer system for monitoring an imaging interferometer | |
JP2012517035A5 (ja) | ||
US10459354B2 (en) | Lithographic apparatus and lithographic projection method | |
JP2008171960A5 (ja) | ||
WO2013132081A4 (en) | Lithography system and method for processing a target, such as a wafer | |
JP2009016761A5 (ja) | ||
JP2011040547A5 (ja) | ||
TW200644078A (en) | Measurement method, measurement system, inspection method, inspection system, exposure method, and exposure system | |
JP2011064674A5 (ja) | レーザ干渉測長器、それを用いた加工装置および部品の製造方法 | |
JP6765441B2 (ja) | フォーカスレベリング測定装置および方法 | |
JP2007132932A5 (ja) | ||
JPH0634318A (ja) | 干渉計測装置 | |
JP4603998B2 (ja) | リソグラフィ装置、位置量検出システム及び方法 | |
JP2008042036A5 (ja) | ||
JP2014096456A5 (ja) | ||
JP4906477B2 (ja) | ガス分析装置及びガス分析方法 | |
JP2015095523A (ja) | 計測装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 |