JP2011064674A5 - レーザ干渉測長器、それを用いた加工装置および部品の製造方法 - Google Patents
レーザ干渉測長器、それを用いた加工装置および部品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011064674A5 JP2011064674A5 JP2010173730A JP2010173730A JP2011064674A5 JP 2011064674 A5 JP2011064674 A5 JP 2011064674A5 JP 2010173730 A JP2010173730 A JP 2010173730A JP 2010173730 A JP2010173730 A JP 2010173730A JP 2011064674 A5 JP2011064674 A5 JP 2011064674A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical path
- correction
- measurement
- laser beam
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
本発明は、高精度で移動体の変位を測定するレーザ干渉測長器、それを用いた加工装置および部品の製造方法に関するものである。
そこで、本発明は、空気の屈折率分布の影響による補正誤差を低減し、測定精度を向上させることができるレーザ干渉測長器、それを用いた加工装置および部品の製造方法を提供することを目的とするものである。
本発明のレーザ干渉測長器は、レーザ光の干渉を利用して、基体に対する移動体の変位量を測定するレーザ干渉測長器であって、測定用レーザ光を出射する測定用レーザ光源と、前記測定用レーザ光を第一の測定用レーザ光成分と第二の測定用レーザ光成分とに分割させる測定用レーザ光分割手段と、前記第一の測定用レーザ光成分を、空気中を経由するとともに前記基体に対する前記移動体の変位に応じて光路長が変化する第一の光路を通過するように反射する第一の反射手段と、前記第二の測定用レーザ光成分を、空気中を経由するとともに前記基体に対する前記移動体の変位に応じて光路長が変化する第二の光路を通過するように反射する第二の反射手段と、前記第一の光路を通過した前記第一の測定用レーザ光成分と前記第二の光路を通過した前記第二の測定用レーザ光成分とを干渉させて測定用干渉光を生成する測定用干渉光生成手段と、補正用レーザ光を出射する補正用レーザ光源と、前記補正用レーザ光を第一の補正用レーザ光成分と第二の補正用レーザ光成分とに分割させる補正用レーザ光分割手段と、前記第一の補正用レーザ光成分が前記第一の光路及び前記第二の光路における空気中を通過する部分と重なる光路部分を含む第三の光路を通過するように配置された第三の反射手段と、前記第二の補正用レーザ光成分が参照光として空気中を経由しない第四の光路を通過するように配置された第四の反射手段と、前記第三の光路を通過した前記第一の補正用レーザ光成分と前記第四の光路を通過した前記第二の補正用レーザ光成分とを干渉させて補正用干渉光を生成する補正用干渉光生成手段と、を備えたことを特徴とする。
また、本発明の部品の製造方法は、工具によって被加工物を加工し部品を製造する部品の製造方法であって、前記工具及び前記被加工物のいずれか一方が支持された移動体の基体に対する変位に応じて光路長が変化する第一の光路を通過する第一の測定用レーザ光成分と第二の光路を通過する第二の測定用レーザ光成分とを干渉させて得られる測定用干渉光に基づき、前記第一の光路と前記第二の光路との光路長差のリセット時点からの変化を示す測定値を求める工程と、前記第一の光路及び前記第二の光路における空気中を通過する部分と重なる光路部分を含む第三の光路を通過する第一の補正用レーザ光成分と、空気中を経由しない第四の光路を通過する参照光としての第二の補正用レーザ光成分とを干渉させて得られる補正用干渉光に基づき、前記第三の光路における前記光路部分の空気屈折率のリセット時点からの変化を示す補正値を求める工程と、前記測定値を前記補正値で補正して、前記移動体のリセット時点からの変位量とし、前記変位量に基づいて前記移動体を移動させる工程と、を有することを特徴とする。
Claims (9)
- レーザ光の干渉を利用して、基体に対する移動体の変位量を測定するレーザ干渉測長器であって、
測定用レーザ光を出射する測定用レーザ光源と、
前記測定用レーザ光を第一の測定用レーザ光成分と第二の測定用レーザ光成分とに分割させる測定用レーザ光分割手段と、
前記第一の測定用レーザ光成分を、空気中を経由するとともに前記基体に対する前記移動体の変位に応じて光路長が変化する第一の光路を通過するように反射する第一の反射手段と、
前記第二の測定用レーザ光成分を、空気中を経由するとともに前記基体に対する前記移動体の変位に応じて光路長が変化する第二の光路を通過するように反射する第二の反射手段と、
前記第一の光路を通過した前記第一の測定用レーザ光成分と前記第二の光路を通過した前記第二の測定用レーザ光成分とを干渉させて測定用干渉光を生成する測定用干渉光生成手段と、
補正用レーザ光を出射する補正用レーザ光源と、
前記補正用レーザ光を第一の補正用レーザ光成分と第二の補正用レーザ光成分とに分割させる補正用レーザ光分割手段と、
前記第一の補正用レーザ光成分が前記第一の光路及び前記第二の光路における空気中を通過する部分と重なる光路部分を含む第三の光路を通過するように配置された第三の反射手段と、
前記第二の補正用レーザ光成分が参照光として空気中を経由しない第四の光路を通過するように配置された第四の反射手段と、
前記第三の光路を通過した前記第一の補正用レーザ光成分と前記第四の光路を通過した前記第二の補正用レーザ光成分とを干渉させて補正用干渉光を生成する補正用干渉光生成手段と、を備えたことを特徴とするレーザ干渉測長器。 - 前記測定用干渉光から前記第一の光路と前記第二の光路との光路長差のリセット時点からの変化を示す測定値を求め、前記補正用干渉光から前記第三の光路における前記光路部分の空気屈折率のリセット時点からの変化を示す補正値を求め、前記測定値を前記補正値で補正して、前記移動体のリセット時点からの変位量を演算する演算処理手段をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載のレーザ干渉測長器。
- 前記測定用レーザ光分割手段は、偏光ビームスプリッタであり、前記第一の補正用レーザ光成分を透過させることを特徴とする請求項1または2に記載のレーザ干渉測長器。
- 前記測定用レーザ光分割手段は、偏光ビームスプリッタであり、
前記第一の反射手段及び前記第二の反射手段はそれぞれダイクロイックミラーを有し、 前記各ダイクロイックミラーは、前記第一の補正用レーザ光成分を透過させることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のレーザ干渉測長器。 - 前記測定用レーザ光と前記補正用レーザ光は互いに異なる周波数であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のレーザ干渉測長器。
- 前記基体及び前記移動体の間で前記第一の測定用レーザ光成分、前記第二の測定用レーザ光成分及び前記第一の補正用レーザ光成分を複数回往復させる光路増倍手段を備えたことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のレーザ干渉測長器。
- 工具によって被加工物を加工する加工装置であって、
基体と、
前記工具及び前記被加工物のいずれか一方を支持し、前記基体に対して移動する移動体と、
前記基体に対する前記移動体の変位量を測定する請求項1乃至6のいずれか1項に記載のレーザ干渉測長器と、を備えたことを特徴とする加工装置。 - 工具によって被加工物を加工し部品を製造する部品の製造方法であって、
前記工具及び前記被加工物のいずれか一方が支持された移動体の基体に対する変位に応じて光路長が変化する第一の光路を通過する第一の測定用レーザ光成分と第二の光路を通過する第二の測定用レーザ光成分とを干渉させて得られる測定用干渉光に基づき、前記第一の光路と前記第二の光路との光路長差のリセット時点からの変化を示す測定値を求める工程と、
前記第一の光路及び前記第二の光路における空気中を通過する部分と重なる光路部分を含む第三の光路を通過する第一の補正用レーザ光成分と、空気中を経由しない第四の光路を通過する参照光としての第二の補正用レーザ光成分とを干渉させて得られる補正用干渉光に基づき、前記第三の光路における前記光路部分の空気屈折率のリセット時点からの変化を示す補正値を求める工程と、
前記測定値を前記補正値で補正して、前記移動体のリセット時点からの変位量とし、前記変位量に基づいて前記移動体を移動させる工程と、を有することを特徴とする部品の製造方法。 - 前記部品は、金型またはレンズであることを特徴とする請求項8に記載の部品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010173730A JP5541713B2 (ja) | 2009-08-21 | 2010-08-02 | レーザ干渉測長器、それを用いた加工装置および部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009192259 | 2009-08-21 | ||
JP2009192259 | 2009-08-21 | ||
JP2010173730A JP5541713B2 (ja) | 2009-08-21 | 2010-08-02 | レーザ干渉測長器、それを用いた加工装置および部品の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011064674A JP2011064674A (ja) | 2011-03-31 |
JP2011064674A5 true JP2011064674A5 (ja) | 2013-09-12 |
JP5541713B2 JP5541713B2 (ja) | 2014-07-09 |
Family
ID=43605134
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010173730A Expired - Fee Related JP5541713B2 (ja) | 2009-08-21 | 2010-08-02 | レーザ干渉測長器、それを用いた加工装置および部品の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8456642B2 (ja) |
JP (1) | JP5541713B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5704897B2 (ja) * | 2010-11-11 | 2015-04-22 | キヤノン株式会社 | 干渉計測方法および干渉計測装置 |
CN102564317B (zh) * | 2011-12-23 | 2013-04-24 | 北京交通大学 | 一种基于光纤复合干涉的高精度远程绝对位移测量系统 |
CN102865821B (zh) * | 2012-09-19 | 2015-10-07 | 哈尔滨工业大学 | 光路平衡型高速高分辨率激光外差干涉测量方法与装置 |
CN103499298B (zh) * | 2013-10-18 | 2016-08-03 | 中水东北勘测设计研究有限责任公司 | 一种真空激光准直位移测量装置端点绝对位移改正方法 |
DE102017100991B3 (de) * | 2017-01-19 | 2017-11-30 | Carl Mahr Holding Gmbh | Messvorrichtung und Verfahren zur Erfassung wenigstens einer Längenmessgröße |
EP3531064A1 (de) * | 2018-02-27 | 2019-08-28 | Metrohm Ag | Strahlenführung im interferometer |
JP6987326B2 (ja) * | 2019-10-18 | 2021-12-22 | 三菱電機株式会社 | 光距離測定装置、及び加工装置 |
CN212623373U (zh) * | 2020-06-01 | 2021-02-26 | 三赢科技(深圳)有限公司 | 光学模组及点阵投影设备 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3706347A1 (de) * | 1987-02-27 | 1988-09-08 | Fraunhofer Ges Forschung | Laserinterferometer zur interferometrischen laengenmessung |
JPH0674963B2 (ja) | 1988-02-08 | 1994-09-21 | 株式会社日立製作所 | レーザ干渉測長器及びそれを用いた位置決め方法 |
JPH02115701A (ja) * | 1988-10-26 | 1990-04-27 | Konica Corp | レーザー干渉測長計 |
DE4314486C2 (de) * | 1993-05-03 | 1998-08-27 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Absolutinterferometrisches Meßverfahren sowie dafür geeignete Laserinterferometeranordnung |
JP3394972B2 (ja) * | 1994-03-14 | 2003-04-07 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 自動工作機械 |
JPH08320206A (ja) * | 1995-03-23 | 1996-12-03 | Nikon Corp | 光波干渉測定装置および光波干渉測定方法 |
JPH1183423A (ja) * | 1997-09-03 | 1999-03-26 | Nikon Corp | 光波干渉測定装置 |
JPH11230716A (ja) * | 1998-02-12 | 1999-08-27 | Nikon Corp | 光波変位量測定装置 |
JPH11248418A (ja) * | 1998-03-02 | 1999-09-17 | Nikon Corp | 光波干渉測定方法および装置、およびそれを備えた露光装置 |
JP2003065712A (ja) * | 2001-08-21 | 2003-03-05 | Canon Inc | レーザ干渉計測長器、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 |
-
2010
- 2010-08-02 JP JP2010173730A patent/JP5541713B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-08-05 US US12/851,192 patent/US8456642B2/en not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2011064674A5 (ja) | レーザ干渉測長器、それを用いた加工装置および部品の製造方法 | |
US8472014B2 (en) | Refractive index distribution measuring method and refractive index distribution measuring apparatus | |
US20120069350A1 (en) | Measuring method of refractive index and measuring apparatus of refractive index | |
JP6553967B2 (ja) | 瞬時位相シフト干渉計 | |
CN105339778A (zh) | 折射率测量方法、折射率测量装置及光学元件制造方法 | |
JP5868142B2 (ja) | 屈折率分布測定方法および屈折率分布測定装置 | |
JP2012078179A (ja) | 温度測定方法、記憶媒体、プログラム | |
JP5965167B2 (ja) | 白色光干渉測定装置 | |
CN202734770U (zh) | 基于等厚干涉原理检测全反射棱镜胶合面平行度的装置 | |
JP2011064674A (ja) | レーザ干渉測長器、それを用いた加工装置および被加工物の加工方法 | |
US9625350B2 (en) | Refractive index distribution measuring method, refractive index distribution measuring apparatus, and method for manufacturing optical element | |
CN103674220B (zh) | 测振系统 | |
TW201633640A (zh) | 可見光之即時波長修正系統 | |
JP2015175603A (ja) | 干渉計における参照ミラー表面形状の校正方法 | |
JP2014102192A (ja) | 白色干渉装置及び白色干渉装置の位置及び変位測定方法 | |
KR20160069476A (ko) | 굴절률 분포 계측방법, 굴절률 분포 계측장치, 및 광학소자의 제조방법 | |
JP2012103140A5 (ja) | ||
TWI522597B (zh) | Angle measurement system | |
JP2010521696A (ja) | 基準板を用いた3次元座標測定機 | |
CN205120038U (zh) | 一种激光波长修正式平面反射镜激光干涉仪 | |
Zhu et al. | A method for measuring the guideway straightness error based on polarized interference principle | |
WO2016084195A1 (ja) | 白色干渉装置及び白色干渉装置による位置及び変位測定方法 | |
JP2012159498A (ja) | 変位測定装置、変位測定方法、光学用部材成形用金型の製造方法及び光学用部材 | |
TWI401410B (zh) | Micro - shift optical measurement system | |
JP2010038695A (ja) | 形状測定装置および形状測定装置の校正方法 |