JP5561968B2 - 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法および振動成分抽出方法 - Google Patents
荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法および振動成分抽出方法 Download PDFInfo
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ステージの位置を測定する第1のステージ位置測定手段と、
ステージの位置を測定する第2のステージ位置測定手段と、
第1のステージ位置測定手段と第2のステージ位置測定手段で得られた位置信号を比較して第1のステージ位置測定手段に由来する振動成分を特定し、振動成分を補正した補正信号を生成する位置信号補正部と、
補正信号に基づいて、試料の所望の位置に荷電粒子ビームでパターンを描画する描画部とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置に関する。
第1のステージ位置測定手段はレーザ干渉計とすることができ、第2のステージ位置測定手段はリニアスケールとすることができる。
第1のステージ位置測定手段によりステージのX方向とY方向の位置を測定する測定工程と、
第2のステージ位置測定手段によりステージのX方向とY方向の位置を測定する測定工程と、
2つの測定工程で得られた位置信号を比較して第1のステージ位置測定手段に由来する振動成分を特定し、振動成分を補正した補正信号を生成する工程と、
補正信号を用いて、試料の所望の位置に荷電粒子ビームで前記パターンを描画する描画工程とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法に関する。
第1のステージ位置測定手段はレーザ干渉計とすることができ、第2のステージ位置測定手段はリニアスケールとすることができる。
第1のステージ位置測定手段はレーザ干渉計とすることができ、第2のステージ位置測定手段はリニアスケールとすることができる。
2 電子光学鏡筒
3 XYステージ
4 マーク台
5 Zステージ
6 保持機構
7 偏向制御部
8 サーボ制御部
9 ステージ制御部
10 全体制御部
111 第1メモリ
112 第2メモリ
12 レーザ干渉計
13 高さ測定手段
14 位置信号補正部
16 リニアスケール
17 搬送系制御部
18 X軸ドライバ
19 Y軸ドライバ
20 Z軸ドライバ
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203 第1のアパーチャ
204 投影レンズ
205、208 偏向器
206 第2のアパーチャ
207 対物レンズ
300a 第1のレーザ干渉計
402、3a、408 ミラー
403、409 ビームスプリッタ
404、406、410、412 インターフェロメータ
405、411 リファレンスミラー
300b 第2のレーザ干渉計
16a1、16b1 スケール
16a2、16b2 検出器
Claims (5)
- 試料を載置した状態でX方向およびY方向に移動するステージと、
前記ステージの位置を測定するレーザ干渉計と、
前記ステージの位置を測定する第2のステージ位置測定手段と、
前記レーザ干渉計と前記第2のステージ位置測定手段で得られた位置信号を比較して前記レーザ干渉計に由来する振動成分を特定し、前記振動成分を補正した補正信号を生成する位置信号補正部と、
前記補正信号に基づいて、前記試料の所望の位置に荷電粒子ビームでパターンを描画する描画部とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記位置信号補正部は、前記振動成分に対して逆位相となる信号を生成し、該信号を前記位置信号に足し合わせて前記補正信号を生成するように構成されていることを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 試料が載置されたステージをX方向とY方向に移動させながら前記試料に所定のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画方法において、
レーザ干渉計により前記ステージのX方向とY方向の位置を測定する測定工程と、
第2のステージ位置測定手段により前記ステージのX方向とY方向の位置を測定する測定工程と、
前記2つの測定工程で得られた位置信号を比較して前記レーザ干渉計に由来する振動成分を特定し、前記振動成分を補正した補正信号を生成する工程と、
前記補正信号を用いて、前記試料の所望の位置に荷電粒子ビームで前記パターンを描画する描画工程とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。 - 前記補正信号は、前記振動成分に対して逆位相となる信号を生成し、該信号を前記レーザ干渉計を用いた測定により得られた位置信号に足し合わせて生成することを特徴とする請求項3に記載の荷電粒子ビーム描画方法。
- ステージを静止または走行した状態で前記ステージの位置をレーザ干渉計および第2のステージ位置測定手段で測定し、得られた位置信号を周波数解析して比較することにより、前記レーザ干渉計に由来する振動成分を抽出する振動成分抽出方法。
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