JP2010219548A - 連続直接書込み光リソグラフィ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】空間光変調器は、個々にスイッチング可能な素子の少なくとも1つのアレイを備える。空間光変調器は、連続的に照射され、空間光変調器の像が連続的に基板上に投影される。この結果、像は基板の表面にわたって常に移動する。像が基板を横切って移動している間、基板の表面上のピクセルが空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続的に受け取って、これにより基板表面上に潜像が形成されるように、空間光変調器の素子がスイッチングされる。この結像光学系は基板上に空間光変調器の不鮮明像を投影するように構成されており、サブピクセルの解像度のフィーチャ・エッジの配置が可能となる。
【選択図】図10
Description
本願は2002年8月24日に出願された米国特許仮出願第60/406,030号の利益を主張するものであり、その全体を参照により本願に組み入れる。
によって静止状態の基板の光度Iに関連付けられる。
Iw(x,t)=I(x+vt,t)(3)
t=0とt=T/2との間では、SLM内の素子は「1」状態であり、t=T/2において1行だけ移動する。すなわち、次式のようになる。
I(x,t)=I0(x) 0<t<T/2
I(x,t)=I0(x−pM) T/2<t<T (4)
上式中I0(x)は 静止時の基板に対する単一のSLM素子の光度分布であり、pはSLMアレイ素子の行ピッチであり、Mは投影レンズ・システムの倍率である。式(1)、(3)、及び(4)を用いれば、式(2)は以下のように表すことができる。
ピクセルR1C4、R1C5、R2C2、R2C3、R2C4、R2C5、R3C2、R3C3、R3C4、R3C5は31の線量値を有する。
ピクセルR1C1、R1C2、R1C3、R1C6、R2C1、R2C6、R3C1、R3C6、R4C1、R4C6は0の線量値を有する。
ピクセルR4C2、R4C3、R4C4、R4C5は意図するエッジの位置1901に基づいて、0〜31の中間の線量値を有する。
便宜上、24の値を上記に割り当てる。次に、ルックアップ・テーブルを用いて線量値を修正してシステムの歪み、収差、照射の不均一性が説明される。好適なSLMであるTexas Instruments社のDMDデバイスは102マイクロ秒毎にミラー状態をスイッチングすることができ、かつ1024行、768列を有するので、このことは高速ディスク・ドライブ2806が102マイクロ秒毎に1024ピクセルのうちの1行を送る必要があることを意味している。32のグレーレベルを用いると、これは約6.3メガバイト/秒のデータ転送速度である。このデータ転送速度はディスク・ドライブ・アレイの現行の能力の範囲に容易に入る。
0000 0001 0011 0111 1111
であろう。0001ではなく1000などの、同じ線量を提供する他の可能性のある順序が存在する。この自由度を用いて光源110からの照射の不均一性を補正できる。その露光順序に対応する線量レベルは、0、1、2、3、4になると定義される。時間(T4+T3)/2におけるミラーのスイッチングに先立ち、SLMアレイ1000の行4(R4)内のピクセルのすべてに対する線量レベルは高速ディスク・ドライブ2806からデコンプレッション電子機器2807に送られる。可能性のある各線量レベルに相当する順序がデコンプレッション電子機器のルックアップ・テーブルに格納される。一例として再びピクセルR4C2を用いると、その線量レベルは順序0111に相当する3になるであろう。T3において示した状態で始まって、SLMメモリ2808は基板アレイ1000の第4の行と第2の列R4C2のミラーに対してロードされた0状態を有するであろう。ミラーがT4において示した状態にスイッチングされた後、デコンプレッション電子機器はSLMメモリに、基板アレイ1000の第3の行と第2の列R3C2の露光順序(1)の第2の桁を与える。ミラーは(T5+T4)/2において状態をスイッチングする。ミラーがT5において示した状態にスイッチングした後、デコンプレッション電子機器はSLMメモリに、基板アレイ1000の第2の行と第2の列R2C2の露光順序(1)の第3の桁を与える。ミラーは(T6+T5)/2において状態をスイッチングする。ミラーがT6において示した状態にスイッチングした後、デコンプレッション電子機器はSLMメモリに、基板アレイ1000の第1の行と第2の列R1C2の露光順序(1)の第4の桁を与える。ミラーは(T7+T6)/2において状態をスイッチングする。この動作原理は一層大きいTexas Instruments社のDMDアレイに対しても同じである。デコンプレッション電子機器はSLMのミラーとルックアップ・テーブルの各々に対する線量レベル・コードを保持するの十分大きいメモリを含んでいなければならない。デコンプレッション電子機器はそのブックキーピング処理を扱うための論理コンポーネントも含む。102マイクロ秒のミラー・クロック周期の間にすべてのミラーの値を決定し、かつSLMメモリにロードする必要があるため、多数のミラー値を同時に算出する必要がある。例えば、1つのミラーに対する次の状態を算出するには100ナノ秒を要する場合、約800枚のミラーに対する計算が同時に実行されねばならないことは明らかである。
v=npM/T (7)
上式中nは定数を表す。基板の露光間の時間は2Tであり、この時間の間にSLM120上のパターンは2n行だけシフトしているであろう。原理上、nは1より大きい任意の値を有する。しかし、nの実際の選択は典型的には2〜9の整数となろう。
Claims (60)
- 基板をパターニングするリソグラフィ・ツールであって、
個々にスイッチング可能なエリア・アレイを備えた空間光変調器と、
前記空間光変調器を照射するように構成された光源と、
前記基板上に前記空間光変調器の不鮮明像を投影するように構成された結像光学系と、
前記基板の表面を横切って前記像を移動させる像移動機構とを備えることを特徴とするリソグラフィ・ツール。 - 基板をパターニングするリソグラフィ・ツールであって、
各空間光変調器のそれぞれが個々にスイッチング可能なエリア・アレイを備えた複数の空間光変調器と、
前記空間光変調器を照射するように構成された光源と、
前記基板上に前記複数の空間光変調器の夫々の不鮮明像を投影するように構成された複数の投影レンズ・システムと、
前記基板の表面を横切って前記像を移動させる像移動機構とを備え、前記空間光変調器の数は前記投影レンズ・システムの数よりも大きいことを特徴とするリソグラフィ・ツール。 - 基板をパターニングするリソグラフィ・ツールであって、
個々にスイッチング可能なエリア・アレイを備えた空間光変調器と、
前記空間光変調器を照射するように構成された光源と、
前記基板上に前記空間光変調器の不鮮明像を投影するように構成された結像光学系と、
前記光源から前記光変調器に至り、前記基板で終わっている光路上に位置決めされ、その光路に沿う光の通過を制御するように構成されている光スイッチング機構と、
前記基板の表面を横切って前記像を移動させる像移動機構と
を備えることを特徴とするリソグラフィ・ツール。 - 基板をパターニングするリソグラフィ・ツールであって、
個々にスイッチング可能なエリア・アレイを備えた第1の空間光変調器と、
前記空間光変調器を照射するように構成された光源と、
前記基板上に前記第1の空間光変調器の像を投影するように構成された結像光学系と、
前記光源から前記第1の空間光変調器にわたり、前記基板で終わっている光路上に位置決めされ、その光路に沿う光の通過を制御するように構成されている第2の空間光変調器と、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させる像移動機構と
を備えることを特徴とするリソグラフィ・ツール。 - 基板をパターニングするリソグラフィ・ツールであって、
個々にスイッチング可能なエリア・アレイを備えた複数の空間光変調器と、
前記複数の空間光変調器を照射するように構成された光源と、
前記基板上に前記複数の空間光変調器の不鮮明な像を投影するように構成された結像光学系であり、前記空間光変調器の前記像の少なくとも2つは重なっている結像光学系と、
前記基板の前記表面を横切って前記像を移動させる像移動機構と
を備えることを特徴とするリソグラフィ・ツール。 - それぞれが個々にスイッチで切り替え可能な素子のアレイを有する複数の空間光変調器と、
前記複数の空間光変調器を照射するように構成される光源と、
前記基板上の前記複数の空間光変調器のぼやける像に投影するように構成される画像光学系と、
前記像を前記基板の表面を横切るように移動させる像移動機構とから構成されることを特徴とする基板をパターン化するためのリソグラフィ・ツール。 - 矩形格子上で行及び列に配置された個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えている空間光変調器を連続的に照射するステップと、
感光性コーティングを有する基板を前記空間光変調器に対して移動させるステップであり、前記基板の移動の方向が前記空間光変調器の前記素子の前記列と平行でも直角でもないステップと、
前記基板が移動している間に、前記空間光変調器の像をピクセルのエリア・アレイを含む前記感光性コーティング上に投影するステップであり、前記ピクセルのサイズと構成が前記空間光変調器内の個々にスイッチング可能な素子の投影される間隔と構成に対応しているステップと、
前記基板が移動している間に、第1の状態が前記基板に光を到達させ、第2の状態が前記基板に光が到達するのを止める少なくとも2つの状態の間で前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップであり、前記感光性コーティング内にフィーチャを決定するように制御され、これにより前記感光性コーティングに対して前記空間光変調器の前記像が前記感光性コーティングを横切って移動し、前記感光性コーティング内のピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るステップとから構成され、
前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップが、前記感光性コーティング内の任意のピクセルによって受け取られるエネルギーの総線量に連続して寄与する前記空間光変調器の素子の数を変えるように制御され、これにより前記感光性コーティング内のあるピクセルは非ゼロの異なったエネルギーの総線量を受け取ることを特徴とするリソグラフィ方法。 - 前記基板の前記移動の方向は、前記空間光変調器の前記素子の前記列に対して45°であることを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ方法。
- 前記移動ステップは、前記感光性コーティング内のフィーチャ・エッジが前記感光性コーティング内の前記エリア・アレイによって決定されたピクセル・エッジからサブピクセルの距離だけシフトされるように制御されることを特徴とする請求項8に記載のリソグラフィ方法。
- 前記照射ステップはアーク灯を備えたランプ・システムによって実施されることを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ方法。
- 照射の不均一性を改善するステップをさらに有することを特徴とする請求項10に記載のリソグラフィ方法。
- 前記改善するステップは、前記アーク灯と前記空間光変調器との間に位置決めされたライト・パイプによって実施されることを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ方法。
- 前記改善するステップは、前記アーク灯と前記空間光変調器との間に位置決めされた蝿の目レンズ・アレイによって実施されることを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ方法。
- 前記照射ステップは準連続レーザによって実施されることを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ方法。
- 前記ステージが移動している間に、前記感光性コーティングと前記投影光学系との間の距離を一定に保つステップをさらに有し、これにより前記像の焦点が前記感光性コーティングに合うことを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ方法。
- 前記空間光変調器の前記素子の前記スイッチングは、前記空間光変調器の不均一な照射を補正するように制御されることを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ方法。
- 前記投影ステップは投影光学系によって実施され、前記空間光変調器の前記素子の前記スイッチングは前記投影光学系内の歪みと収差を補正するように制御されることを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ方法。
- 前記空間光変調器の前記素子の前記スイッチングは、前記基板の不整列と歪みを補正するように制御されることを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ方法。
- 前記ピクセルと前記空間光変調器内の前記個々にスイッチング可能な素子との前記対応は1対1であることを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ方法。
- 前記投影ステップの前に、
前記基板の歪みを測定するステップと、
前記基板の歪みを説明するために、前記感光性コーティング内に決定される前記フィーチャの位置を決める設計データ・ファイルを修正するステップと
をさらに有することを特徴とする請求項7に記載の方法。 - 前記投影ステップの前に、前記基板を投影光学系に対して位置合わせするステップをさらに有し、前記像の前記投影は前記投影光学系によって実施されることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記位置合わせステップは、前記基板上の任意のフィーチャをメモリ・デバイス内に予め格納されている像と比較するステップを有することを特徴とする請求項21に記載の方法。
- 前記位置合わせステップは、前記基板上の任意のフィーチャをメモリ・デバイス内に予め格納されている理想的な像と比較するステップを有することを特徴とする請求項21に記載の方法。
- 前記理想的な像は十字及び円からなる群から選択されることを特徴とする請求項23に記載の方法。
- 個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えている空間光変調器を連続的に照射するステップと、
感光性コーティングを有する基板を前記空間光変調器に対して移動させるステップと、
前記基板が移動している間に、前記空間光変調器の像をピクセルのエリア・アレイを含む前記感光性コーティング上に投影するステップであり、前記ピクセルのサイズと構成が前記空間光変調器内の個々にスイッチング可能な素子の投影される間隔と構成に対応しているステップと、
前記基板が移動している間に、第1の状態が前記基板に光を到達させ、第2の状態が前記基板に光が到達するのを止める少なくとも2つの状態の間で前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップであり、前記感光性コーティング内にフィーチャを決定するように制御され、これにより前記感光性コーティングに対して前記空間光変調器の前記像が前記感光性コーティングを横切って移動し、前記感光性コーティング内のピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るステップと、
前記像を不鮮明にするステップとから構成され、
前記空間光変調器の前記素子をスイッチングするステップは、前記感光性コーティング内の任意のピクセルによって受け取られるエネルギーの総線量に連続して寄与する前記空間光変調器の素子の数を変えるように制御され、これにより前記感光性コーティング内のあるピクセルは非ゼロの異なったエネルギーの総線量を受け取ることを特徴とするリソグラフィ方法。 - 前記投影ステップは投影光学系によって実施され、前記不鮮明にするステップは、前記感光性コーティングを前記投影光学系の光学軸に沿って所望の焦点ずれの箇所まで移動させることによって実施されることを特徴とする請求項25に記載のリソグラフィ方法。
- 前記ステージが移動している間に、前記感光性コーティングと前記投影光学系との間の距離を一定に保つステップをさらに有し、これにより前記所望の焦点ずれが維持されることを特徴とする請求項26に記載のリソグラフィ方法。
- 前記不鮮明にするステップは、前記空間光変調器と前記感光性コーティングとの間に位置決めされた拡散体によって実施されることを特徴とする請求項25に記載のリソグラフィ方法。
- 前記感光性コーティング内の前記フィーチャの瞬間的なエッジの線量プロファイルの幅は、それに対応する結果として得られたエッジの線量プロファイルの幅にほぼ等しいことを特徴とする請求項25に記載のリソグラフィ方法。
- 前記瞬間的なエッジの線量プロファイルの幅と前記結果として得られたエッジの線量プロファイルの幅は、75%の光強度の箇所から25%の光強度の箇所まで測定されることを特徴とする請求項29に記載のリソグラフィ方法。
- 前記感光性コーティング内の前記フィーチャの瞬間的なエッジの線量プロファイルは、
ほぼガウス曲線形であることを特徴とする請求項25に記載のリソグラフィ方法。 - 前記感光性コーティング内の前記フィーチャの前記結果として得られたエッジの線量プロファイルは、ほぼガウス曲線形であることを特徴とする請求項31に記載のリソグラフィ方法。
- 前記感光性コーティング内の前記フィーチャの前記結果として得られたエッジの線量プロファイルの幅は、それに対応する瞬間的なエッジの線量プロファイルの幅にほぼ等しいことを特徴とする請求項32に記載のリソグラフィ方法。
- 前記瞬間的なエッジの線量プロファイルの幅と前記結果として得られたエッジの線量プロファイルの幅は、75%の光強度の箇所から25%の光強度の箇所まで測定されることを特徴とする請求項33に記載のリソグラフィ方法。
- 前記不鮮明にするステップは、前記感光性コーティング内のフィーチャ・エッジが、前記基板上の前記エリア・アレイによって決定されたピクセル・エッジからサブピクセルの距離だけシフトできるように制御されることを特徴とする請求項25に記載のリソグラフィ方法。
- 前記ピクセルと前記空間光変調器内の前記個々にスイッチング可能な素子との前記対応は1対1であることを特徴とする請求項25に記載のリソグラフィ方法。
- 矩形格子上で行及び列に配置された個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えた空間光変調器と、
前記空間光変調器を連続的に照射するように構成された光源と、
ピクセルのエリア・アレイを含む感光性材料上に前記空間光変調器の像を連続的に投影するように構成された結像光学系であり、前記ピクセルのサイズと構成が前記空間光変調器内の個々にスイッチング可能な素子の投影される間隔と構成に対応し、前記感光性材料が基板の表面を被覆する、結像光学系と、
第1の状態が前記感光性材料に光を到達させ、第2の状態が前記感光性材料に光が到達するのを止める少なくとも2つの状態の間で、前記感光性材料内にフィーチャを決定するために前記空間光変調器の前記個々にスイッチング可能な素子のスイッチングを制御するように構成された制御システムと、
前記投影像に対して前記基板を移動させ、これにより前記感光性材料内のピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るように構成されたステージとを備え、
前記基板の移動の方向が前記空間光変調器の前記素子の前記列と平行でも直角でもなく、前記制御システムがさらに、前記空間光変調器の前記素子のスイッチングを制御して、
前記感光性材料内の任意のピクセルによって受け取られるエネルギーの総線量に連続して寄与する前記空間光変調器の素子の数を変え、これにより前記感光性材料内のあるピクセルが非ゼロの異なったエネルギーの総線量を受け取るように構成されていることを特徴とするリソグラフィ・ツール。 - 前記基板の前記移動の方向は前記空間光変調器の前記素子の前記列に対して45°であることを特徴とする請求項37に記載のリソグラフィ・ツール。
- 前記感光性材料内のフィーチャ・エッジは、前記感光性材料内の前記エリア・アレイによって決定されたピクセル・エッジからサブピクセルの距離だけシフトされることを特徴とする請求項37に記載のリソグラフィ・ツール。
- 前記光源はアーク灯を備えたランプ・システムであることを特徴とする請求項37に記載のリソグラフィ・ツール。
- 前記ランプ・システムはさらに、前記アーク灯と前記空間光変調器との間に位置決めされたライト・パイプを備えることを特徴とする請求項40に記載のリソグラフィ・ツール。
- 前記ランプ・システムはさらに、前記アーク灯と前記空間光変調器との間に位置決めされた蝿の目レンズ・アレイを備えることを特徴とする請求項40に記載のリソグラフィ・ツール。
- 前記光源は準連続レーザであることを特徴とする請求項37に記載のリソグラフィ・ツール。
- 前記空間光変調器はデジタル・マイクロミラー・デバイスであることを特徴とする請求項37に記載のリソグラフィ・ツール。
- 前記ピクセルと前記空間光変調器内の前記個々にスイッチング可能な素子との前記対応は1対1であることを特徴とする請求項37に記載のリソグラフィ・ツール。
- データ・プレコンピュータと、
デコンプレッション電子機器とをさらに備え、
前記データ・プレコンピュータが設計データ・ファイルを前記デコンプレッション電子機器に適した形式に修正するように構成され、前記デコンプレッション電子機器が前記修正された設計データを前記空間光変調器の前記素子それぞれの前記状態を表す値の行列へと変換するように構成されていることを特徴とする請求項37に記載のリソグラフィ・ツール。 - 前記基板を前記結像光学系に位置合わせするように構成された基板アライメント・システムをさらに備えることを特徴とする請求項37に記載のリソグラフィ・ツール。
- 前記基板アライメント・システムは、前記基板上の任意のフィーチャをメモリ・デバイス内に予め格納されている像と比較するように構成されたマシン・ビジョン・システムであることを特徴とする請求項47に記載のリソグラフィ・ツール。
- 前記基板アライメント・システムは、前記基板上の任意のフィーチャをメモリ・デバイス内に予め格納されている理想的な像と比較するように構成されたマシン・ビジョン・システムであることを特徴とする請求項47に記載のリソグラフィ・ツール。
- 前記理想的な像は十字及び円からなる群から選択されることを特徴とする請求項49に記載のリソグラフィ・ツール。
- 前記基板アライメント・システムは前記基板の歪みを測定するようにさらに構成されていることを特徴とする請求項47に記載のリソグラフィ・ツール。
- データ・プレコンピュータと、
デコンプレッション電子機器とをさらに備え、
前記データ・プレコンピュータが(1)設計データ・ファイルを前記デコンプレッション電子機器に適した形式に修正し、(2)前記基板の前記歪みを補正するために設計デー
タを修正するように構成され、前記デコンプレッション電子機器が前記修正された設計データを前記空間光変調器の前記素子それぞれの前記状態を表す値の行列へと変換するように構成されていることを特徴とする請求項51に記載のリソグラフィ・ツール。 - 個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えた空間光変調器と、
前記空間光変調器を連続的に照射するように構成された光源と、
ピクセルのエリア・アレイを含む感光性材料上に前記空間光変調器の像を投影するように構成された結像光学系であり、前記ピクセルのサイズと構成が前記空間光変調器内の個々にスイッチング可能な素子の投影される間隔と構成に対応する、結像光学系と、
第1の状態が前記感光性材料に光を到達させ、第2の状態が前記感光性材料に光が到達するのを止める少なくとも2つの状態の間で、前記感光性材料内にフィーチャを決定するために前記空間光変調器の前記個々にスイッチング可能な素子のスイッチングを制御するように構成された制御システムと、
前記投影像に対して前記基板を移動させ、これにより前記感光性材料内のピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るように構成されたステージとを備え、
前記ステージ及び前記結像光学系がさらに、前記感光性材料上に前記空間光変調器の焦点ずれの像をもたらすように構成され、前記制御システムがさらに、前記空間光変調器の前記素子のスイッチングを制御して、前記感光性材料内の任意のピクセルによって受け取られるエネルギーの総線量に連続して寄与する前記空間光変調器の素子の数を変え、これにより前記感光性材料内のあるピクセルが非ゼロの異なったエネルギーの総線量を受け取るように構成されていることを特徴とするリソグラフィ・ツール。 - 前記結像光学系と前記基板を被覆する前記感光性材料との間の距離を監視するように構成されたギャップ測定システムをさらに備えることを特徴とする請求項53に記載のリソグラフィ・ツール。
- 前記感光性材料と前記結像光学系との間の距離を一定に保ち、これにより所望の焦点ずれが維持されるギャップ制御システムをさらに備えることを特徴とする請求項53に記載のリソグラフィ・ツール。
- 個々にスイッチング可能な素子のエリア・アレイを備えた空間光変調器と、
前記空間光変調器を連続的に照射するように構成された光源と、
ピクセルのエリア・アレイを含む感光性材料上に前記空間光変調器の像を投影するように構成された結像光学系であり、前記ピクセルのサイズと構成が前記空間光変調器内の個々にスイッチング可能な素子の投影される間隔と構成に対応し、前記感光性材料が基板の表面を被覆する、結像光学系と、
第1の状態が前記感光性材料に光を到達させ、第2の状態が前記感光性材料に光が到達するのを止める少なくとも2つの状態の間で、前記感光性材料内にフィーチャを決定するために前記空間光変調器の前記個々にスイッチング可能な素子のスイッチングを制御するように構成された制御システムと、
前記投影像に対して前記基板を移動させ、これにより前記感光性材料内のピクセルが前記空間光変調器の複数の素子からエネルギーの線量を連続して受け取るように構成されたステージとを備え、
前記結像光学系がさらに、前記感光性材料上に前記空間光変調器の不鮮明像を投影するように構成され、前記制御システムがさらに、前記空間光変調器の前記素子のスイッチングを制御して、前記感光性コーティング内の任意のピクセルによって受け取られるエネルギーの総線量に連続して寄与する前記空間光変調器の素子の数を変え、これにより前記感光性材料内のあるピクセルが非ゼロの異なったエネルギーの総線量を受け取るように構成されていることを特徴とするリソグラフィ・ツール。 - 前記結像光学系は前記空間光変調器の前記像を不鮮明にするように構成された拡散体を備えることを特徴とする請求項56に記載のリソグラフィ・ツール。
- 前記結像光学系は、前記空間光変調器の前記像が不鮮明になるように調整された開口数を有することを特徴とする請求項56に記載のリソグラフィ・ツール。
- 前記結像光学系は、前記空間光変調器の前記像を不鮮明にするように構成されたマイクロレンズ・アレイを備えることを特徴とする請求項56に記載のリソグラフィ・ツール。
- 前記空間光変調器の前記素子は矩形格子上で行及び列に配置され、前記基板の移動の方向は前記空間光変調器の前記素子の前記列と平行であることを特徴とする請求項56に記載のリソグラフィ・ツール。
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