JP2006113413A - 描画方法および描画装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 空間光変調素子と光学系とを有する複数の描画ヘッドを描画面に対して所定の走査方向に相対的に移動させて描画を行う描画方法において、環境温度変化よる描画ヘッドの相対的な位置関係の変化を減少させる。
【解決手段】 １つの描画ヘッド３０に複数の空間光変調素子３４ａ，３４ｂを設け、その複数の空間光変調素子３４ａ，３４ｂにより変調された光を共通の光学系３６，３７，３８を用いて描画面１２ａ上に結像するようにすることにより描画ヘッド３０の数を減らす。
【選択図】 図３

Description

本発明は、入射された光を転送された描画情報に応じた制御信号に応じて変調する描画素子が多数配置された空間光変調素子を有する描画ヘッドを描画面に対して所定の走査方向に相対的に移動させて描画を行う描画方法および装置に関するものである。

従来、画像データが表す所望の２次元パターンを描画面上に形成する描画装置が種々知られている。

上記のような描画装置として、たとえば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（以下ＤＭＤという）等の空間光変調素子により画像データに応じて光ビームを変調して露光を行う露光装置が種々提案されている。ＤＭＤは、シリコン等の半導体基板上のメモリセル（ＳＲＡＭアレイ）に、微小なマイクロミラーがＬ行×Ｍ列の２次元状に多数配列されて構成されたものであり、メモリセルに蓄えた電荷による静電気力を制御することで、マイクロミラーを傾斜させて反射面の角度を変化させることができるものである。そして、このＤＭＤを露光面に沿った一定の方向に走査することで露光が行われる。

ここで、上記のような露光装置は、１つのＤＭＤとそのＤＭＤにより変調された光を露光面上に露光する結像光学系とを有する露光ヘッドを備え、その露光ヘッドが走査方向および走査方向に直交する方向に複数個配列され構成されている（たとえば、特許文献１参照）。上記のようにラインヘッドを構成して露光を行うことにより露光時間を短縮することができる。
特開２００４−２３３７１８号公報

しかしながら、上記のようにラインヘッドを構成した場合、使用する露光ヘッド数が多くなってしまうため、これらの露光ヘッドを設置している部材が、たとえば、環境温度の変化などによって熱膨張を生じた場合、多数の描画ヘッドの相対的な位置関係が変化してしまうるおそれがある。上記のような露光装置においては、上記部材は、たとえば、ガラスや金属などの組み合せにより構成され、大型であるため熱膨張による影響が懸念される。

また、上記のように多数の露光ヘッドを使用する場合、露光ヘッドの相対的な位置関係を調整する作業に時間がかかりコストアップとなる。

また、露光ヘッドに使用する光学部品などの使用点数も多くなりコストアップとなる。

本発明は、上記事情に鑑み、環境温度変化よる描画ヘッドの相対的な位置関係の変化を減少させることができるとともに、描画ヘッドの位置調整作業の簡易化を図ることができ、さらにコストの削減を図ることができる描画方法及び描画装置を提供することを目的とするものである。

本発明の描画方法は、入射された光を転送された描画情報に応じた制御信号に応じて変調する描画素子が２次元状に多数配置された空間光変調素子と空間光変調素子により変調された光を描画面上に結像する光学系とを有する描画ヘッドを用いた描画方法であって、空間光変調素子の描画素子に制御信号を転送して変調を行うとともに、描画ヘッドを描画面に対して所定の走査方向に相対的に移動させて描画を行う描画方法において、描画ヘッドが、複数の空間光変調素子と、複数の空間光変調素子により変調された光を描画面に結像する共通の光学系とを有するものであり、その描画ヘッドを用いて描画を行うことを特徴とする。

また、上記描画方法においては、描画ヘッドにおける複数の空間光変調素子および光学系を、複数の空間光変調素子によって変調された光を光学系により描画面上に結像した領域が走査方向および/または走査方向に直交する方向に並んで配置されるように構成することができる。

また、複数の空間光変調素子毎の制御信号を並列または独立に転送するようにすることができる。

また、各空間光変調素子毎に変調を行うとともに、空間光変調素子毎の変調のタイミングおよび/または走査方向への移動速度を制御することによって各空間光変調素子に対応する描画面上における各描画領域の配置を制御するようにすることができる。

また、複数の空間光変調素子をそれぞれ複数のブロック領域に分割し、各空間光変調素子において複数のブロック領域毎の制御信号を並列または独立に転送するようにすることができる。

また、各空間光変調素子において各ブロック領域を、複数の分割領域にさらに分割し、各空間光変調素子における各ブロック領域において分割領域毎に制御信号を順次転送するとともに、その転送終了時点から順次変調を行うようにすることができる。

また、複数の空間光変調素子をそれぞれ走査方向について複数のブロック領域に分割し、各空間光変調素子において複数のブロック領域毎の制御信号を並列または独立に転送するようにすることができる。

また、各空間光変調素子においてブロック領域毎に変調を行うとともに、ブロック領域毎の変調のタイミングおよび/または走査方向への移動速度を制御することによって各ブロック領域に対応する描画面上における各ブロック描画領域の配置を制御するようにすることができる。

また、各空間光変調素子において各ブロック領域を、走査方向について複数の分割領域にさらに分割し、各空間光変調素子における各ブロック領域において分割領域毎に制御信号を順次転送するとともに、その転送終了時点から順次変調を行うようにすることができる。

また、各空間光変調素子において各ブロック領域における分割領域の変調のタイミングおよび/または走査方向への移動速度を制御することによって分割領域に対応する描画面上における各分割描画領域の配置を制御するようにすることができる。

本発明の描画装置は、入射された光を転送された描画情報に応じた制御信号に応じて変調する描画素子が２次元状に多数配置された空間光変調素子と空間光変調素子により変調された光を描画面上に結像する光学系とを有する描画ヘッドと、描画ヘッドを描画面に対して所定の走査方向に相対的に移動させる移動手段と、空間光変調素子の描画素子に制御信号を転送して変調を行わせるとともに、移動手段の走査方向への移動速度を制御する制御手段とを備えた描画装置において、描画ヘッドが、複数の空間光変調素子と、複数の空間光変調素子により変調された光を描画面に結像する共通の光学系とを有するものであることを特徴とする。

また、上記描画装置においては、描画ヘッドにおける複数の空間光変調素子および光学系を、複数の空間光変調素子によって変調された光を光学系により描画面上に結像した領域が走査方向および/または走査方向に直交する方向に並んで配置されるように構成することができる。

また、制御手段を、複数の空間光変調素子毎の制御信号を並列または独立に転送する、各空間光変調素子毎に設けられた複数の制御信号転送部を有するものとすることができる。

また、制御手段を、各空間光変調素子毎に変調を行うとともに、空間光変調素子毎の変調のタイミングおよび/または走査方向への移動速度を制御することによって各空間光変調素子に対応する描画面上における各描画領域の配置を制御するものとすることができる。

また、各空間光変調素子を、複数のブロック領域に分割し、制御手段を、各空間光変調素子における各ブロック領域に制御信号を並列または独立に転送する、各ブロック領域毎に設けられた複数のブロック制御信号転送部を有するものとすることができる。

また、各空間光変調素子における各ブロック領域を、複数の分割領域にさらに分割し、制御手段を、各空間光変調素子における各ブロック領域において分割領域毎に制御信号を順次転送するとともに、その転送終了時点から順次変調を行わせるものとすることができる。

また、各空間光変調素子を、走査方向について複数のブロック領域に分割し、制御手段を、各空間光変調素子における各ブロック領域に制御信号を並列または独立に転送する、各ブロック領域毎に設けられた複数のブロック制御信号転送部を有するものとすることができる。

また、制御手段を、各空間光変調素子におけるブロック領域毎に変調を行わせるものであるとともに、ブロック領域毎の変調のタイミングおよび/または走査方向への移動速度を制御することによって各ブロック領域に対応する描画面上における各ブロック描画領域の配置を制御するものとすることができる。

また、各空間光変調素子における各ブロック領域を、走査方向について複数の分割領域にさらに分割し、制御手段を、各空間光変調素子における各ブロック領域において分割領域毎に制御信号を順次転送するとともに、その転送終了時点から順次変調を行わせるものとすることができる。

また、制御手段を、各空間光変調素子において各ブロック領域における分割領域の変調のタイミングおよび/または走査方向への移動速度を制御することによって分割領域に対応する描画面上における各分割描画領域の配置を制御するものとすることができる。

ここで、上記「共通の光学系」とは、上記複数の空間光変調素子により変調された光を描画面上に結像する光学系であって、一体として調整される光学系のことをいう。

また、上記「制御信号を並列に転送する」とは、制御信号が、少なくとも所定の時点において同時に転送されるようにすればよく、制御信号の転送開始タイミングが同じ場合だけでなく、転送開始タイミングが所定の時間だけずれている場合も含むものとする。

また、上記「走査方向について」「分割する」とは、描画素子が配列された直交する２方向のうち、いずれか一方の方向が走査方向と同じ方向である場合には、その方向について分割することを意味し、上記直交する２方向のいずれの方向も走査方向と同一方向でない場合には、上記走査方向に対する傾斜角がより小さい方の方向について分割することを意味する。

本発明の描画方法および装置によれば、複数の空間光変調素子と、複数の空間光変調素子により変調された光を描画面に結像する共通の光学系とを有する描画ヘッドにより描画を行うようにしたので、描画ヘッドの数を削減することができ、描画ヘッドの位置調整箇所を減らすことができるので、その結果、環境温度変化よる描画ヘッドの相対的な位置関係の変化を減少させることができるとともに、描画ヘッドの位置調整作業の簡易化を図ることができ、さらにコストの削減を図ることができる。

また、上記のように位置調整箇所を減らすことにより、調整精度のばらつきを抑えることが可能になり、その結果、位置精度を向上させることができる。なお、位置調整箇所の数とばらつきの関係は、一般的に、位置調整箇所ｎに対し、その場合にばらつきは√ｎの関係にあるので、たとえば、２分の１に調整箇所を削減できれば、ばらつきは０．７倍となる。

また、１つの空間光変調素子に対して１つの光学系を設けて描画ヘッドを構成する場合と比較すると、一体部品を多くすることができるため、重量および剛性においても優れたものとすることができる。すなわち、たわみや振動による精度劣化の影響が少ない。

また、描画ヘッド数を減らすことができるので、描画ヘッド間の画素つなぎ箇所を少なくすることができ、位置精度悪化要因を減らすことができる。

また、描画ヘッドの組み立てにおいても、１つの空間光変調素子に対して１つの光学系を設けた描画ヘッドを複数構成する場合よりも、複数の空間光変調素子に対して１つの光学系を設けた描画ヘッドを構成する場合の方が、空間光変調素子や光学系の位置調整時間などを短縮することができ、調整コストを削減することができる。

また、複数の空間光変調素子により露光される描画領域が重なるようにした場合には、パワー階調を簡単の増やすことができる。たとえば、２つの空間光変調素子を使う場合、一方の空間光変調素子に０．６５Ｗの光を入射し、他方の空間光変調素子に１．３５Ｗの光を入射するようにすれば、０Ｗ、０．６５Ｗ、０．１３５Ｗ、２Ｗの４階調の描画が可能である。また、２つの空間光変調素子に１Ｗの光を入射するようにすれば、０Ｗ、１Ｗ、２Ｗの３階調の描画が可能である。

また、上記描画方法および装置において、複数の空間光変調素子をそれぞれ複数のブロック領域に分割し、各空間光変調素子において複数のブロック領域毎の制御信号を並列に転送するようにした場合には、たとえば、画像データを１行ずつ順次ＳＲＡＭアレイに転送して書き込み、全ての行の画像データがＳＲＡＭアレイに転送された後にリセットする場合と比較すると、変調速度をより高速化することができる。たとえば、４つのブロック領域に分割するようにした場合には、変調速度を４倍にすることができる。

また、各空間光変調素子においてブロック領域毎に上記変調を行うとともに、ブロック領域毎の上記変調のタイミングおよび/または走査方向への移動速度を制御することによって各ブロック領域に対応する描画面上における各描画領域の配置を制御するようにした場合には、各空間光変調素子における各ブロック領域の各描画領域の配置を任意に制御することができる。たとえば、各ブロック領域の各描画領域における描画点を、走査方向について同一の間隔で配置することができ、等分布の解像度を実現することができる。

また、各空間光変調素子において各ブロック領域を、複数の分割領域にさらに分割し、各空間光変調素子における各ブロック領域において分割領域毎に制御信号を順次転送するとともに、その転送終了時点から順次変調を行うようにした場合には、各ブロック領域において、１つの分割領域のリセット時間の間にその他の分割領域への画像データの転送を行うようにすることができるので、各ブロック領域の変調速度をさらに高速化することができる。また、各ブロック領域の変調時間の間に各分割領域の描画点を描画するようにすることができるので、解像度を向上させることができる。たとえば、各ブロック領域を３つの分割領域に分割した場合には、解像度を３倍にすることができる。

以下、図面を参照して本発明の描画方法および装置の第１の実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。図１は、本実施形態の露光装置の概略構成を示す斜視図である。

本実施形態の露光装置１０は、図１に示すように、感光材料１２を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。そして、４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によって往復移動可能に支持されている。

設置台１８の中央部には、移動ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設けられている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。このゲート２２を挟んで一方の側にはスキャナ２４が設けられ、他方の側には感光材料１２の先端および後端を検知する複数（たとえば２個）のセンサ２６が設けられている。スキャナ２４およびセンサ２６はゲート２２に各々取り付けられて、移動ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ２４およびセンサ２６は、これらを制御する、後述する制御部に接続されている。

スキャナ２４は、図２に示すように、走査方向に直交する方向に一列に配列された５個の露光ヘッド３０を備えている。

図３に露光ヘッド３０の概略構成を示す。露光ヘッド３０は、レーザ光を射出する２つのレーザ光源３１ａ，３１ｂと、レーザ光源３１ａ，３１ｂから射出されたレーザ光を導光する導光部材３２ａ，３２ｂと、導光部材３２ａ，３２ｂにより導光された光を後述するＤＭＤ３４ａ，３４ｂに入射させる第１のプリズム３３ａ，３３ｂと、第１のプリズム３３ａ，３３ｂにより結像されたレーザ光をそれぞれ入力された制御信号に応じて変調する２つのＤＭＤ３４ａ，３４ｂと、ＤＭＤ３４ａ，３４ｂにより変調された光を露光面１２ａの方向に反射する第２のプリズム３５と、第２のプリズム３５により反射された光を露光面１２ａに投影する第１および第２の投影レンズ３６，３８と、第１の投影レンズ３６と第２の投影レンズ３８との間に配置されたマイクロレンズアレイ３７と、ＤＭＤ３４ａ，３４ｂに設けられた、ＤＭＤ３４ａ，３４ｂとを冷却する冷却フィン３９ａ，３９ｂとを備えている。

ＤＭＤ３４ａ，３４ｂは、描画素子としてのマイクロミラーが、直交する方向に２次元状に配列されたものである。ＤＭＤ３４ａ，３４ｂは、図４に示すように、ＳＲＡＭアレイ（メモリセル）５６ａ，５６ｂ上に、マイクロミラー５８ａ，５８ｂが支柱により支持されて配置されたものであり、上述したように画素を構成する多数の（例えば、ピッチ１３．６８μｍ、１０２４個×７６８個）のマイクロミラー５８ａ，５８ｂが、直交する方向に２次元状に配列されて構成されたミラーデバイスである。そして、上述したようにマイクロミラー５８ａ，５８ｂの直下には、ヒンジ及びヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのＣＭＯＳのＳＲＡＭアレイ５６ａ，５６ｂが配置されている。

ＤＭＤ３４ａ，３４ｂのＳＲＡＭアレイ５６ａ，５６ｂに制御信号としてのデジタル信号が書き込まれると、そのデジタル信号に応じた制御電圧が、マイクロミラー５８ａ，５８ｂ毎に設けられた電極部（図示せず）に印加され、その制御電圧の印加により発生した静電気力によって支柱に支えられたマイクロミラー５８ａ，５８ｂが、対角線を中心として±α度（例えば±１０度）の範囲で傾けられる。図５（Ａ）は、マイクロミラー５８ａ，５８ｂがオン状態である＋α度に傾いた状態を示し、図５（Ｂ）は、マイクロミラー５８ａ，５８ｂがオフ状態である−α度に傾いた状態を示す。そして、マイクロミラー５８ａ，５８ｂがオン状態のときにマイクロミラー５８ａ，５８ｂに入射された光Ｂは、感光材料１２に向けて反射され、マイクロミラー５８ａ，５８ｂがオフ状態のときにマイクロミラー５８ａ，５８ｂに入射された光Ｂは、感光材料１２以外の光吸収材料に向けて反射される。

ここで、本露光装置におけるＤＭＤ３４ａ，３４ｂは、図６に示すように、複数のマイクロミラー行からなる４つのブロック領域Ａ〜Ｄに分割されている。

そして、各露光ヘッド３０には、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂ毎に、図７に示すように、４つの制御信号転送部６０Ａ〜６０Ｄがブロック領域Ａ〜Ｄ毎に設けられている。なお、図７においては、制御信号転送部６０Ｃは図示省略してある。また、本実施形態においては、上記のようにＤＭＤ３６を４つのブロック領域に分割するようにしたが、これに限らず、２以上のブロック領域であればいくつのブロック領域に分割するようにしてもよい。

上記のように４つの制御信号転送部６０Ａ〜６０Ｄは、各露光ヘッド３０の各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂ毎に設けられるが、ここでは、そのうちの１つの構成について説明する。各制御信号転送部６０Ａ〜６０Ｄは、図７に示すように、Ｐ個のシフトレジスタ回路６１と、ラッチ回路６２と、コラムドライバ回路６３とを備えている。Ｐ個のシフトレジスタ回路６１には、コントローラ６５からクロック信号ＣＫが入力され、そのクロック信号ＣＫに応じてＰ個のシフトレジスタ回路６１にそれぞれ１個ずつ制御信号が同時に書き込まれる。そして、Ｐ個のシフトレジスタ回路６１にそれぞれＮ個の制御信号が書き込まれると、そのＮ×Ｐ個の１行の制御信号がラッチ回路６２に転送される。

そして、ラッチ回路６２に転送された１行の制御信号は、そのままコラムドライバ回路６３に転送され、コラムドライバ回路６３から出力された１行の制御信号は、ＳＲＡＭアレイ５６ａの所定の行に書き込まれる。制御信号が書き込まれる所定の行は、ローデコーダ６４においてアドレス信号に基づいて選択される。

そして、上記のようにラッチ回路６２に制御信号がラッチされ、ＳＲＡＭアレイ５６ａの所定の行に制御信号が書き込まれる間に、次の行の制御信号がシフトレジスタ回路６１に書き込まれる。

なお、シフトレジスタ回路６２、ラッチ回路６２、コラムドライバ回路６３およびＳＲＡＭアレイ５６への制御信号の書き込みのタイミングはコントローラ６５によって制御される。

そして、上記のようにしてＳＲＡＭアレイ５６ａに制御信号が書き込まれた後、その書き込まれた制御信号に応じた制御電圧が電圧制御部６６によりマイクロミラー５８ａ毎に設けられた電極部に印加され、各マイクロミラー５８ａがリセットされる。

ここで、各ブロック領域Ａ〜Ｄに設けられた電圧制御部６６は、各ブロック領域Ａ〜Ｄにおけるマイクロミラー行を、さらにＫ行毎に分割した３個の分割領域１〜３毎に制御電圧を出力可能なものである。なお、本実施形態においては、３つの分割領域に分割するようにしたが、これに限らず、２以上の分割領域であればいくつの分割領域に分割するようにしてもよい。また、本実施形態においては、上記分割領域１〜３に同時に制御電圧を出力する形態を説明し、後述するその他の実施形態において分割領域１〜３毎に制御電圧を出力する形態を説明する。

そして、本露光装置１０には、図７に示すように、露光装置全体を制御する制御部７０および各露光ヘッド３０の各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂ毎に設けられた、制御信号転送部６０Ａ〜６０Ｄへ制御信号を出力するデータ制御部６８が設けられており、上記のような各露光ヘッド３０におけるＤＭＤ３４ａ，３４ｂのＳＲＡＭアレイ５６ａ，５６ｂへの制御信号の書き込みおよびマイクロミラー５８ａ，５８ｂの駆動は制御部７０により制御される。また、制御部７０は移動ステージ１４を移動させるステージ駆動装置７２を駆動制御するものでもある。

次に、本実施形態の露光装置１０の作用について詳細に説明する。

まず、図示省略した所定のデータ作成装置において、感光材料１２に露光すべき画像に応じた画像データが作成され、その画像データがデータ制御部６８に出力される。そして、データ制御部６８において、上記画像データに基づいて各露光ヘッド３０に出力される制御信号が生成される。なお、本実施形態の露光装置は、ＤＭＤ３６のブロック領域Ａ〜Ｄ毎に制御信号を転送し、ブロック領域Ａ〜Ｄ毎にマイクロミラー５８を駆動制御するものであるので、上記制御信号も各ブロック領域Ａ〜Ｄ毎に生成される。

そして、上記のようにデータ制御部６８において各露光ヘッド３０毎の制御信号が生成されるとともに、制御部７０からステージ駆動装置７２にステージ駆動制御信号が出力され、ステージ駆動装置７２はステージ駆動制御信号に応じて移動ステージ１４をガイド２０に沿ってステージ移動方向へ所望の速度で移動させる。一方、制御部７２から制御信号に応じてレーザ光源３１ａ，３１ｂが駆動されてレーザ光が射出され、そのレーザ光源３１ａ，３１ｂから射出されたレーザ光は導光部材３２ａ，３２ｂにより導光され、第１のプリズム３３ａ，３３ｂにそれぞれ入射され、第１のプリズム３３ａ，３３ｂによりＤＭＤ３４ａ，３４ｂにそれぞれ入射される。

そして、移動ステージ１４がゲート２２下を通過する際、ゲート２２に取り付けられたセンサ２６により感光材料１２の先端が検出されると、データ制御部６８から各露光ヘッド３０に制御信号が出力され、各露光ヘッド３０毎の描画が開始される。

ここで、各露光ヘッド３０におけるＤＭＤ３４ａ，３４ｂの駆動制御について詳細に説明する。

まず、ＤＭＤ３４ａ，３４ｂの各ブロック領域Ａ〜Ｄに順番に制御信号を出力してＤＭＤ３４ａ，３４ｂを駆動制御する場合について説明する。上記のような駆動制御をする場合におけるタイミングチャートを図８に示す。なお、図８に示すタイミングチャートにおいては、ＤＭＤ３４ａをＤＭＤ１、ＤＭＤ３４ｂをＤＭＤ２として記載してある。

具体的には、まず、ＤＭＤ３４ａとＤＭＤ３４ｂの各ブロック領域Ａへ同じタイミングで制御信号が転送され、その後、ブロック領域Ｂ、ブロック領域Ｃ、ブロック領域Ｄの順に制御信号が転送される。

そして、上記のようにして転送された制御信号は、各ブロック領域Ａ〜Ｄ毎に設けられた制御信号転送部６０Ａ〜６０Ｄにより、上記のようにして各ブロック領域Ａ〜Ｄ毎のＳＲＡＭアレイ５６ａ，５６ｂに書き込まれる。

そして、図８に示すように、ＤＭＤ３４ａとＤＭＤ３４ｂの両方の各ブロック領域Ａ〜Ｄへの制御信号の転送が終わった時点において、その書き込まれた制御信号に応じた制御電圧が電圧制御部６６により印加され、ＤＭＤ３４ａとＤＭＤ３４ｂの全てのマイクロミラー５８ａ，５８ｂがリセットされる。

そして、上記リセットによりＤＭＤ３４ａとＤＭＤ３４ｂとにより変調された光は、それぞれ第２のプリズム３５に向けて出射され、その出射された光は第２のプリズム３５により露光面１２ａに向けて反射され、第１および第２の投影レンズ３６，３８とマイクロレンズアレイ３７により露光面１２ａ上に結像され、図２に示すように、それぞれ矩形状の露光領域４０ａと露光領域４０ｂとを形成する。なお、マイクロレンズアレイ３７を構成するそれぞれのマイクロレンズは、ＤＭＤ３４ａ，３４ｂを構成するそれぞれのマイクロミラー５８ａ，５８ｂに対応されて位置調整されている。

そして、感光材料１２が移動ステージ１４とともに一定速度で移動し、感光材料１２がスキャナ２４によりステージ移動方向と反対の方向に走査されるとともに、図８に示すタイミングで、上記と同様にしてＤＭＤ３４ａ，３４ｂへの制御信号の転送およびリセット繰り返され、露光ヘッド３０毎に帯状の露光済み領域４１が形成される。

そして、スキャナ２４による感光材料１２の走査が終了し、センサ２６で感光材料１２の後端が検出されると、移動ステージ１４は、ステージ駆動装置７２により、ガイド２０に沿ってゲート２２の最上流側にある原点に復帰し、新たな感光材料１２が設置された後、再度、ガイド２０に沿ってゲート２２の上流側から下流側に一定速度で移動する。

なお、上記第１の実施形態においては、ＤＭＤ３４ａ，３４ｂの各ブロック領域Ａ〜Ｄ毎に制御信号転送部６０Ａ〜６０Ｄを設けるようにしたが、上記のように制御信号を転送する場合には、必ずしも上記のような構成にする必要はなく、制御信号転送部をＤＭＤ３４ａ，３４ｂ毎にそれぞれ１つずつ設けるようにしてもよい。

また、上記第１の実施形態のおいては、図２に示すように、ＤＭＤ３４ａにより露光される露光領域４０ａとＤＭＤ３４ｂにより露光される露光領域４０ｂとが走査方向に間隔をあけずに並ぶようにしたが、ＤＭＤ３４ａおよびＤＭＤ３４ｂの配置や第１および第２の投影レンズ３６，３８の構成などを調整することによって、露光領域４０ａと露光領域４０ｂとが走査方向に間隔を空けて並ぶようにしてもよいし、露光領域４０ａと露光領域４０ｂとが重なるようにしてもよい。また、露光領域４０ａと露光領域４０ｂとを走査方向にずらして配置することにより、露光領域４０ａと露光領域４０ｂとの一部が重なるようにしてもよい。

また、上記第１の実施形態において、ＤＭＤ３４ａとＤＭＤ３４ｂとを、そのマイクロミラー５８ａ，５８ｂの配列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように露光ヘッド３０に取り付けるようにしてもよい。

また、上記第１の実施形態において、各露光ヘッド３０により露光される露光済み領域４１が、露光ヘッド３０の配列方向ついて、間隔を空けて形成されるような場合には、露光ヘッド３０の列を走査方向に複数配列するようし、走査方向の下流側に配置される露光ヘッド３０列により露光された露光済み領域４１の間を、走査方向の上流側に配置される露光ヘッド３０列により露光するようにしてもよい。この場合、走査方向の下流側に配置される露光ヘッド３０列により露光される露光済み領域４１と、走査方向の上流側に配置される露光ヘッド３０列により露光された露光済み領域４１とが一部重なるようにすることが望ましい。

また、上記第１の実施形態においては、図２に示すように、露光領域４０ａと露光領域４０ｂとが走査方向に並ぶようにしたが、ＤＭＤ３４ａおよびＤＭＤ３４ｂの配置や第１および第２の投影レンズ３６，３８の構成などを調整することによって、露光領域４０ｂと露光領域４０ｂとが走査方向に直交する方向に並ぶようにしてもよい。

次に、本発明の描画方法および装置の第２の実施形態を用いた露光装置について説明する。本実施形態の露光装置の構成は、上記第１の実施形態の露光装置とほぼ同様であり、各露光ヘッド３０におけるＤＭＤ３６の駆動制御の方法が上記第１の実施形態の露光装置と異なるものである。したがって、各露光ヘッド３０におけるＤＭＤ３６の駆動制御の方法のみ以下に説明する。

上記第１の実施形態においては、ＤＭＤ３４ａ，３４ｂのブロック領域Ａ〜Ｄの全てに制御信号が転送された後、リセットをするようにしたが、上記のように制御したのでは、全てのブロック領域Ａ〜Ｄに制御信号が転送されるまでの時間が長くかかってしまう。

そこで、第２の実施形態においては、図９に示すようなタイミングで制御信号を転送し、リセットを行う。具体的には、まず、上記第１の実施形態と同様に、ＤＭＤ３４ａ，３４ｂの制御信号が、ブロック領域Ａからブロック領域Ｄの順に転送される。そして、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂの各ブロック領域Ａ〜Ｄにおいて、図９に示すように、各分割領域１〜３毎に制御信号を転送し、その転送終了時点から順次各分割領域１〜３におけるマイクロミラー５８を電圧制御部６６によりリセットする。上記のように駆動制御することによりリセット時間分だけ変調時間を短くすることができる。

次に、本発明の描画方法および装置の第３の実施形態を用いた露光装置について説明する。本実施形態の露光装置の構成も、上記第１の実施形態の露光装置とほぼ同様であり、各露光ヘッド３０におけるＤＭＤ３６の駆動制御の方法が上記第１の実施形態の露光装置と異なるものである。したがって、各露光ヘッド３０におけるＤＭＤ３６の駆動制御の方法のみ以下に説明する。

上記第１の実施形態においては、ＤＭＤ３４ａ，３４ｂのブロック領域Ａ〜Ｄの制御信号をブロック領域Ａからブロック領域Ｄまで順番に転送するようにしたが、上記のように制御したのでは、全てのブロック領域Ａ〜Ｄに制御信号が転送されるまでの時間が長くかかってしまう。

そこで、第３の実施形態においては、図１０に示すようなタイミングで制御信号を転送し、リセットを行う。具体的には、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂにおいて、各ブロック領域Ａ〜Ｄの制御信号を、各ブロック領域Ａ〜Ｄ毎に設けられた制御信号転送部６０Ａ〜６０Ｄによって並列に転送する。そして、図１０に示すように、全てのブロック領域Ａ〜Ｄへの制御信号の転送が終了した時点において、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂの全てのマイクロミラー５８を電圧制御部６６によりリセットする。上記のように駆動制御することにより制御信号の転送時間を短縮することができ、変調時間を短くすることができる。

次に、本発明の描画方法および装置の第４の実施形態を用いた露光装置について説明する。第４の実施形態は、上記第２の実施形態と上記第３の実施形態とにおける駆動制御方法を組み合わせたような実施形態である。

第４の実施形態においては、図１１に示すようなタイミングで制御信号を転送し、リセットを行う。具体的には、第３の実施形態と同様に、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂにおいて、各ブロック領域Ａ〜Ｄの制御信号を、各ブロック領域Ａ〜Ｄ毎に設けられた制御信号転送部６０Ａ〜６０Ｄによって並列に転送する。そして、第２の実施形態と同様に、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂの各ブロック領域Ａ〜Ｄにおいて、図１１に示すように、各分割領域１〜３毎に制御信号を転送し、その転送終了時点から順次各分割領域１〜３におけるマイクロミラー５８を電圧制御部６６によってリセットする。上記のように駆動制御することにより、第３の実施形態と比較すると、リセット時間分だけさらに変調時間を短くすることができる。

次に、本発明の描画方法および装置の第５の実施形態を用いた露光装置について説明する。第５の実施形態は、上記第３の実施形態の駆動制御方法において、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂの各ブロック領域Ａ〜Ｄの変調タイミングを変更したものである。

具体的には、図１２に示すように、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂにおいて、各ブロック領域Ａ〜Ｄへの制御信号の転送開始タイミングを予め設定された時間だけずらすことによって、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂにおける各ブロック領域Ａ〜Ｄの変調タイミングを予め設定された時間だけずらすようにする。上記のようにブロック領域Ａ〜Ｄ毎に変調タイミングをずらすようにすることにより、走査方向についてより高解像度に描画点を露光することができるとともに、各ブロック領域Ａ〜Ｄ毎の描画点の間隔を制御することができ、たとえば、各ブロック領域Ａ〜Ｄ毎の描画点の間隔を等間隔で配置するようにすることができる。

次に、本発明の描画方法および装置の第６の実施形態を用いた露光装置について説明する。第６の実施形態は、上記第４の実施形態と上記第５の実施形態とにおける駆動制御方法を組み合わせたような実施形態である。

具体的には、上記第４の実施形態と同様に、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂの各ブロック領域Ａ〜Ｄにおいて、図１３に示すように、各分割領域１〜３毎に制御信号を転送し、その転送終了時点から順次各分割領域１〜３におけるマイクロミラー５８を電圧制御部６６によってリセットするとともに、各ブロック領域Ａ〜Ｄへの制御信号の転送開始タイミングを予め設定された時間だけずらすことによって、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂにおける各ブロック領域Ａ〜Ｄの変調タイミングを予め設定された時間だけずらすようにする。上記のように駆動制御することにより、走査方向についてより高解像度に描画点を露光することができるとともに、各分割領域１〜３毎の描画点の間隔を制御することができ、たとえば、各分割領域１〜３毎の描画点の間隔を等間隔で配置するようにすることができる。

また、上記第１から第６の実施形態においては、ＤＭＤ３４ａとＤＭＤ３４ｂとで、同じタイミングで制御信号の転送およびリセットを制御するようにしたが、ＤＭＤ３４ａとＤＭＡ３４ｂとで異なるタイミングで制御するようにしてもよい。

たとえば、第１の実施形態において、図１４に示すように、ＤＭＤ３４ａとＤＭＤ３４ｂとで制御信号の転送開始タイミングを予め設定された所定の時間だけずらすことによって、ＤＭＤ３４ａとＤＭＤ３４ｂの変調タイミングをずらすようにしてもよい。上記のように駆動制御することにより第１の実施形態と比較すると、より高解像度に描画点を露光することができる。

また、上記と同様に、第２の実施形態においてＤＭＤ３４ａとＤＭＡ３４ｂとを異なるタイミングで駆動制御するようにしたタイミングチャートを図１５に、第３の実施形態においてＤＭＤ３４ａとＤＭＡ３４ｂとを異なるタイミングで駆動制御するようにしたタイミングチャートを図１６に、第４の実施形態においてＤＭＤ３４ａとＤＭＡ３４ｂとを異なるタイミングで駆動制御するようにしたタイミングチャートを図１７に、第５の実施形態においてＤＭＤ３４ａとＤＭＡ３４ｂとで異なるタイミングで駆動制御するようにしたタイミングチャートを図１８に、第６の実施形態においてＤＭＤ３４ａとＤＭＡ３４ｂとで異なるタイミングで駆動制御するようにしたタイミングチャートを図１９に示す。

図１５〜図１９に示すようなタイミングでＤＭＡ３４ａとＤＭＤ３４ｂとをそれぞれ駆動制御することによって、より高解像度に描画点を露光することができる。

なお、上記に説明した実施形態においては、たとえば、ＤＭＤ３４ａとＤＭＤ３４ｂの変調タイミングと移動ステージ１４の移動速度を制御することにより、ＤＭＤ３４ａに対応する描画領域とＤＭＤ３４ｂに対応する描画領域とが重なり合うようにしてもよいし、ＤＭＤ３４ａに対応する描画領域の描画点間にＤＭＤ３４ｂに対応する描画領域の描画点が配置されるようにしてもよい。

また、１つのＤＭＤ３４ａまたはＤＭＤ３４ｂにおけるブロック領域Ａ〜Ｄの変調タイミングと移動ステージ１４の移動速度を制御することにより、ブロック領域Ａ〜Ｄに対応する描画領域が重なり合うようにしてもよいし、たとえば、ブロック領域Ａに対応する描画領域の描画点間に、ブロック領域Ｂ〜Ｄに対応する描画領域の描画点が配置されるようにしてもよい。

また、ブロック領域における分割領域１〜３の変調タイミングと移動ステージ１４の移動速度を制御することにより、分割領域に対応する分割描画領域が重なり合うようにしてもよいし、たとえば、分割領域１に対応する分割描画領域の描画点間に、分割領域２，３に対応する分割描画領域の描画点が配置されるようにしてもよい。

つまり、１つの露光ヘッド３０における、少なくとも２つのＤＭＤ駆動単位（たとえば、１つのＤＭＤ全体、ブロック領域、または分割領域など）の像が重なり合うように、ＤＭＤ駆動単位の変調タイミングおよび移動ステージ１４の移動速度を制御するようにしてもよいし、１つのＤＭＤ駆動単位の像の各描画点の間、他のＤＭＤ駆動単位の像の各描画点が配置されるようにＤＭＤ駆動単位の変調タイミングおよび移動ステージ１４の移動速度を制御するようにしてもよい。

また、上記実施形態においては、走査方向について下流側に配置されるＤＭＤ３４ａにより露光を行った後に上流側に配置されるＤＭＤ３４ｂにより露光を行うようにすることが望ましい。

また、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂにおいて、走査方向について下流側に配置されるブロック領域により露光を行った後に上流側に配置されるブロック領域により露光を行うようにすることが望ましい。

また、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂにおいて、走査方向について下流側に配置されるブロック領域の分割領域により露光を行った後に上流側に配置されるブロック領域の分割領域により露光を行うようにすることが望ましい。

また、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂに対応する各描画領域の描画点が走査方向について同じ間隔をおいて配置されるようＤＭＤ毎の変調のタイミングおよび走査方向への移動速度を制御するようにすることが望ましい。

また、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂにおいて、各ブロック領域に対応する各描画領域の描画点が走査方向について同じ間隔をおいて配置されるようブロック領域毎の変調のタイミングおよび走査方向への移動速度を制御することが望ましい。

また、各ＤＭＤ３４ａ，３４ｂにおいて、各ブロック領域の分割領域に対応する各分割描画領域の描画点が走査方向について同じ間隔をおいて配置されるようブロック領域毎の分割領域の変調のタイミングおよび走査方向への移動速度を制御することが望ましい。

また、各ＤＭＤ３４，３４ｂにおいて、各ブロック領域における分割領域の数Ｎを、下式を満たす大きさとすることが望ましい。

Ｎ＝Ｔ_ｓｒ/Ｔ_ｔｒ
ただし、Ｔ_ｔｒ：各分割領域の変調時間
Ｔ_ｓｒ：各分割領域への制御信号の転送時間
また、上記実施形態においては、ＤＭＤ３４ａとＤＭＤ３４ｂとを、走査方向に直交する方向について同じ位置に配置するようにしたが、図２０（Ａ）に示すように、ＤＭＤ３４ａとＤＭＤ３４ｂとを走査方向に直交する方向に所定の距離だけずらして配置するようにしてもよい。なお、図２０（Ａ）は、露光ヘッド３０の上面図であり、図２０（Ｂ）は、図２０（Ａ）に示すようにＤＭＤ３４ａ，３４ｂを配置した場合における露光面上における露光領域４０ａ、露光領域４０ｂを示す図である。なお、複数のＤＭＤの配置については、上記に示した配置に限らず、その他の配置方法で、走査方向または走査方向に直交する方向に並べるようにしてもよい。

また、上記実施形態においては、ＤＭＤ３４ａ，３４ｂを、走査方向について複数のブロック領域Ａ〜Ｄに分割するようにしたが、走査方向に限らず、たとえば走査方向に直交する方向に分割して複数のブロック領域とし、そのブロック領域毎に並列または独立に制御信号を転送するようにしてもよい。そして、上記のように分割したブロック領域をさらに走査方向または走査方向に直交する方向に分割して分割領域とし、上記実施形態と同様にして分割領域毎に制御信号の転送および変調を行うようにしてもよい。上記のように構成することにより変調速度を高速化することができる。

上記のように、１つの露光ヘッド３０内に、少なくとも２つの並列または独立転送単位（ＤＭＤ、ブロック領域または分割領域、もしくはこれらの組み合わせ）を設けることによって、高速変調を実現することができる。

また、上記少なくとも２つの並列または独立転送単位毎に変調タイミングを制御することによって、露光面上における所望のドット配置を実現することができる。この場合、ステージ１４の移動速度を予め所望の移動速度に設定しておき、この移動速度に対して、並列または独立転送単位毎に変調タイミングを制御または設定するようにしてもよいし、並列または独立転送単位毎に変調タイミングを予め所望の値に設定しておき、これに対して移動ステージ１４の移動速度を制御するようにしてもよい。

また、たとえば、ブロック領域内に分割領域を設けた形態のように、上位の並列または独立転送単位内に下位の並列または独立転送単位を設けた形態においては、下位の並列または独立転送単位の変調タイミングを直接的に制御または設定してもよいし、上記の並列または転送単位の制御を通じて、下位の並列または独立転送単位の変調タイミングを制御または設定するようにしてもよい。

また、上記実施形態では、空間光変調素子としてＤＭＤを備えた露光装置について説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することもできる。

また、ＤＭＤは、長方形に限らず、平行四辺形状やその他の形状にマイクロミラーを配列することもでき、このようなＤＭＤを利用するようにしてもよい。

また、上記実施形態における露光対象である感光材料１２は、プリント基板や、ディスプレイ用のフィルタであってもよい。また、感光材料１２の形状は、シート状のものであっても、長尺状のもの（フレキシブル基板など）であってもよい。

また、上記実施形態では、いわゆるフラッドベッドタイプの露光装置を例に挙げたが、感光材料が巻きつけられるドラムを有する、いわゆるアウタードラムタイプの露光装置としてもよい。

また、本発明における描画方法および装置は、インクジェット方式などのプリンタにおける描画制御にも適用することができる。たとえば、インクの吐出による描画点を、本発明と同様の方法で制御することができる。つまり、本発明における描画素子を、インクの吐出などによって描画点を打つ素子に置き換えて考慮することができる。

本発明の描画装置の第１の実施形態を用いた露光装置の外観を示す斜視図 図１に示す露光装置のスキャナの構成を示す斜視図 図２に示す露光ヘッドの概略構成図 図１の露光装置のＤＭＤの構成を示す部分拡大図 ＤＭＤの動作を説明するための斜視図 ＤＭＤにおけるブロック領域を示す図 ブロック領域毎に設けられた制御信号転送部の概略構成図 図１に示す露光装置を用いた露光方法の第１の実施形態を説明するためのタイミングチャート 図１に示す露光装置を用いた露光方法の第２の実施形態を説明するためのタイミングチャート 図１に示す露光装置を用いた露光方法の第３の実施形態を説明するためのタイミングチャート 図１に示す露光装置を用いた露光方法の第４の実施形態を説明するためのタイミングチャート 図１に示す露光装置を用いた露光方法の第５の実施形態を説明するためのタイミングチャート 図１に示す露光装置を用いた露光方法の第６の実施形態を説明するためのタイミングチャート 図１に示す露光装置を用いた露光方法の第１の実施形態の変形例を説明するためのタイミングチャート 図１に示す露光装置を用いた露光方法の第２の実施形態の変形例を説明するためのタイミングチャート 図１に示す露光装置を用いた露光方法の第３の実施形態の変形例を説明するためのタイミングチャート 図１に示す露光装置を用いた露光方法の第４の実施形態の変形例を説明するためのタイミングチャート 図１に示す露光装置を用いた露光方法の第５の実施形態の変形例を説明するためのタイミングチャート 図１に示す露光装置を用いた露光方法の第６の実施形態の変形例を説明するためのタイミングチャート 露光ヘッドのその他の実施形態を示す図

符号の説明

１０ 露光装置
１２ 感光材料
１２ａ 露光面
１４ 移動ステージ
２４ スキャナ
３０ 露光ヘッド
３２ａ，３２ｂ 導光部材
３３ａ，３３ｂ 第１のプリズム
３４ａ，３４ｂ ＤＭＤ
３５ 第２のプリズム
３６ 第１の投影レンズ
３７ マイクロレンズアレイ
３８ 第２の投影レンズ
５６ａ，５６ｂ ＳＲＡＭアレイ
５８ａ，５８ｂ マイクロミラー
６０Ａ〜６０Ｄ 制御信号転送部

Claims (20)

1. 入射された光を転送された描画情報に応じた制御信号に応じて変調する描画素子が２次元状に多数配置された空間光変調素子と該空間光変調素子により変調された光を描画面上に結像する光学系とを有する描画ヘッドを用いた描画方法であって、前記空間光変調素子の前記描画素子に前記制御信号を転送して前記変調を行うとともに、前記描画ヘッドを前記描画面に対して所定の走査方向に相対的に移動させて描画を行う描画方法において、
   前記描画ヘッドが、複数の前記空間光変調素子と、該複数の空間光変調素子により変調された光を前記描画面に結像する共通の光学系とを有するものであり、
   該描画ヘッドを用いて前記描画を行うことを特徴とする描画方法。
2. 前記描画ヘッドにおける前記複数の空間光変調素子および前記光学系が、前記複数の空間光変調素子によって変調された光を前記光学系により前記描画面上に結像した領域が前記走査方向および/または前記走査方向に直交する方向に並んで配置されるように構成されていることを特徴とする請求項１記載の描画方法。
3. 前記複数の空間光変調素子毎の前記制御信号を並列または独立に転送することを特徴とする請求項１または２記載の描画方法。
4. 前記各空間光変調素子毎に前記変調を行うとともに、該空間光変調素子毎の前記変調のタイミングおよび/または前記走査方向への移動速度を制御することによって前記各空間光変調素子に対応する前記描画面上における各描画領域の配置を制御することを特徴とする請求項３記載の描画方法。
5. 前記複数の空間光変調素子をそれぞれ複数のブロック領域に分割し、
   該各空間光変調素子において複数のブロック領域毎の前記制御信号を並列または独立に転送することを特徴とする請求項１から４いずれか１項記載の描画方法。
6. 前記各空間光変調素子において前記各ブロック領域を、複数の分割領域にさらに分割し、
   前記各空間光変調素子における前記各ブロック領域において前記分割領域毎に前記制御信号を順次転送するとともに、該転送終了時点から順次前記変調を行うことを特徴とする請求項５記載の描画方法。
7. 前記複数の空間光変調素子をそれぞれ前記走査方向について複数のブロック領域に分割し、
   該各空間光変調素子において複数のブロック領域毎の前記制御信号を並列または独立に転送することを特徴とする請求項１から４いずれか１項記載の描画方法。
8. 前記各空間光変調素子において前記ブロック領域毎に前記変調を行うとともに、該ブロック領域毎の前記変調のタイミングおよび/または前記走査方向への移動速度を制御することによって前記各ブロック領域に対応する前記描画面上における各ブロック描画領域の配置を制御することを特徴とする請求項７記載の描画方法。
9. 前記各空間光変調素子において前記各ブロック領域を、前記走査方向について複数の分割領域にさらに分割し、
   前記各空間光変調素子における前記各ブロック領域において前記分割領域毎に前記制御信号を順次転送するとともに、該転送終了時点から順次前記変調を行うことを特徴とする請求項７記載の描画方法。
10. 前記各空間光変調素子において前記各ブロック領域における前記分割領域の前記変調のタイミングおよび/または前記走査方向への移動速度を制御することによって前記分割領域に対応する前記描画面上における各分割描画領域の配置を制御することを特徴とする請求項９記載の描画方法。
11. 入射された光を転送された描画情報に応じた制御信号に応じて変調する描画素子が２次元状に多数配置された空間光変調素子と該空間光変調素子により変調された光を描画面上に結像する光学系とを有する描画ヘッドと、該描画ヘッドを描画面に対して所定の走査方向に相対的に移動させる移動手段と、前記空間光変調素子の前記描画素子に前記制御信号を転送して前記変調を行わせるとともに、前記移動手段の前記走査方向への移動速度を制御する制御手段とを備えた描画装置において、
    前記描画ヘッドが、複数の前記空間光変調素子と、該複数の空間光変調素子により変調された光を前記描画面に結像する共通の光学系とを有するものであることを特徴とする描画装置。
12. 前記描画ヘッドにおける前記複数の空間光変調素子および前記光学系が、前記複数の空間光変調素子によって変調された光を前記光学系により前記描画面上に結像した領域が前記走査方向および/または前記走査方向に直交する方向に並んで配置されるように構成されていることを特徴とする請求項１１記載の描画装置。
13. 前記制御手段が、前記複数の空間光変調素子毎の前記制御信号を並列または独立に転送する、前記各空間光変調素子毎に設けられた複数の制御信号転送部を有することを特徴とする請求項１１または１２記載の描画装置。
14. 前記制御手段が、前記各空間光変調素子毎に前記変調を行うとともに、該空間光変調素子毎の前記変調のタイミングおよび/または前記走査方向への移動速度を制御することによって前記各空間光変調素子に対応する前記描画面上における各描画領域の配置を制御するものであることを特徴とする請求項１３記載の描画方法。
15. 前記各空間光変調素子が、複数のブロック領域に分割されており、
    前記制御手段が、前記各空間光変調素子における前記各ブロック領域に前記制御信号を並列または独立に転送する、前記各ブロック領域毎に設けられた複数のブロック制御信号転送部を有するものであることを特徴とする請求１１から１４いずれか１項記載の描画装置。
16. 前記各空間光変調素子における前記各ブロック領域が、複数の分割領域にさらに分割されており、
    前記制御手段が、前記各空間光変調素子における前記各ブロック領域において前記分割領域毎に前記制御信号を順次転送するとともに、該転送終了時点から順次前記変調を行わせるものであることを特徴とする請求項１５記載の描画装置。
17. 前記各空間光変調素子が、前記走査方向について複数のブロック領域に分割されており、
    前記制御手段が、前記各空間光変調素子における前記各ブロック領域に前記制御信号を並列または独立に転送する、前記各ブロック領域毎に設けられた複数のブロック制御信号転送部を有するものであることを特徴とする請求項１１から１４いずれか１項記載の描画装置。
18. 前記制御手段が、前記各空間光変調素子における前記ブロック領域毎に前記変調を行わせるものであるとともに、該ブロック領域毎の前記変調のタイミングおよび/または前記走査方向への移動速度を制御することによって前記各ブロック領域に対応する前記描画面上における各ブロック描画領域の配置を制御するものであることを特徴とする請求項１７記載の描画装置。
19. 前記各空間光変調素子における前記各ブロック領域が、前記走査方向について複数の分割領域にさらに分割されており、
    前記制御手段が、前記各空間光変調素子における前記各ブロック領域において前記分割領域毎に前記制御信号を順次転送するとともに、該転送終了時点から順次前記変調を行わせるものであることを特徴とする請求項１７記載の描画装置。
20. 前記制御手段が、前記各空間光変調素子において前記各ブロック領域における前記分割領域の前記変調のタイミングおよび/または前記走査方向への移動速度を制御することによって前記分割領域に対応する前記描画面上における各分割描画領域の配置を制御するものであることを特徴とする請求項１９記載の描画装置。

Images