KR20070064634A - 묘화 방법 및 묘화 장치 - Google Patents

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테페이 에지리
타카오 오자키
요지 오카자키
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후지필름 가부시키가이샤
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Abstract

공간 광 변조 소자와 광학계를 구비하는 복수의 묘화 헤드를 묘화면에 대하여 소정의 주사 방향으로 상대적으로 이동시켜서 묘화를 행하는 묘화 방법에 있어서, 환경 온도 변화에 따른 묘화 헤드의 상대적인 위치 관계의 변화를 감소시킨다. 1개의 묘화 헤드(30)에 복수의 공간 광 변조 소자(34a ,34b)를 준비하고, 그 복수의 공간 광 변조 소자(34a ,34b)에 의해 변조된 광을 공통의 광학계(36, 37, 38)를 사용하여 묘화면(12a)상에 결상하도록 함으로써 묘화 헤드(30)의 수를 감소시킨다.
묘화 방법, 묘화 장치

Description

묘화 방법 및 묘화 장치{TRACING METHOD AND APPARATUS}
본 발명은 입사된 광을 전송된 묘화 정보에 따른 제어 신호에 따라서 변조하는 묘화 소자가 다수 배치된 공간 광 변조 소자를 구비하는 묘화 헤드를 묘화면에 대하여 소정의 주사 방향으로 상대적으로 이동시켜서 묘화를 행하는 묘화 방법 및 장치에 관한 것이다.
종래, 화상 데이터가 나타내는 소망의 2차원 패턴을 묘화면 상에 형성하는 묘화 장치가 여러 가지 알려져 있다.
상기와 같은 묘화 장치로서, 예컨대, 디지털ㆍ마이크로 미러ㆍ디바이스(이하DMD라 칭함) 등의 공간 광 변조 소자에 의해 화상 데이터에 따라 광 빔을 변조해서 노광을 행하는 노광 장치가 여러 가지 제안되어 있다. DMD는 실리콘 등의 반도체 기판상의 메모리 셀(SRAM 어레이)에 미소한 마이크로 미러가 L행×M열의 2차원상으로 다수 배열되어서 구성된 것이며, 메모리 셀에 축적된 전하에 의한 정전기력을 제어함으로써 마이크로 미러를 기울여서 반사면의 각도를 변화시킬 수 있는 것이다. 그리고, 이 DMD를 노광면에 따른 일정한 방향으로 주사함으로써 노광이 행하여진다.
여기에서, 상기와 같은 노광 장치는 예컨대, 일본 특허 공개 2004-233718호 공보에 개시된 바와 같이, 1개의 DMD와 그 DMD에 의해 변조된 광을 노광면 상에 결상하는 결상광학계를 구비하는 노광 헤드를 구비하고, 그 노광 헤드가 주사 방향 및 주사 방향에 직교하는 방향으로 복수개 배열되어 구성되어 있다. 상기한 바와 같이 라인 헤드를 구성해서 노광을 행함으로써 노광 시간을 단축할 수 있다.
그러나, 상기한 바와 같이 라인 헤드를 구성한 경우, 사용하는 노광 헤드수가 많아지기 때문에 이것들의 노광 헤드를 지지하고 있는 부재가 예컨대, 환경 온도의 변화 등에 의해 열팽창을 보였을 경우, 다수의 묘화 헤드의 상대적인 위치 관계가 변화될 우려가 있다. 상기와 같은 노광 장치에 있어서는 상기 부재는 예컨대, 유리나 금속 등의 조합에 의해 구성되고, 대형이기 때문에 열팽창에 의한 영향이 우려된다.
또한, 상기한 바와 같이 다수의 노광 헤드를 사용하는 경우, 노광 헤드의 상대적인 위치 관계를 조정하는 작업에 시간이 걸리고, 가격이 상승한다.
또한, 노광 헤드에 사용하는 광학부품 등의 사용 점수도 많아져 가격이 상승한다.
본 발명은 상기 사정을 감안하고, 환경 온도 변화에 따른 묘화 헤드의 상대적인 위치 관계의 변화를 감소시킬 수 있음과 아울러, 묘화 헤드의 위치 조정 작업의 간이화를 꾀할 수 있고, 더욱 가격의 삭감을 꾀할 수 있는 묘화 방법 및 묘화 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 묘화 방법은 입사된 광을 전송된 묘화 정보에 따른 제어 신호에 따라 변조하는 묘화 소자가 2차원상으로 다수 배치된 공간 광 변조 소자와, 공간 광 변조 소자에 의해 변조된 광을 묘화면 상에 결상하는 광학계를 구비하는 묘화 헤드를 사용한 묘화 방법으로서, 공간 광 변조 소자의 묘화 소자에 제어 신호를 전송해서 변조를 행함과 아울러, 묘화 헤드를 묘화면에 대하여 소정의 주사 방향으로 상대적으로 이동시켜서 묘화를 행하는 묘화 방법에 있어서, 묘화 헤드가 복수의 공간 광 변조 소자와, 복수의 공간 광 변조 소자에 의해 변조된 광을 묘화면에 결상하는 공통의 광학계를 구비하며, 그 묘화 헤드를 사용하여 묘화를 행하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 묘화 방법에 있어서는 묘화 헤드에 있어서의 복수의 공간 광 변조 소자 및 광학계가 복수의 공간 광 변조 소자에 의해 변조된 광을 광학계에 의해 묘화면 상에 결상된 영역이 주사 방향 및/또는 주사 방향에 직교하는 방향으로 나란히 배치되도록 구성될 수 있다.
또한, 복수의 공간 광 변조 소자에 제어 신호를 병렬 또는 독립적으로 전송하도록 할 수 있다.
또한, 각 공간 광 변조 소자마다 변조를 행함과 아울러, 공간 광 변조 소자마다 변조의 타이밍 및/또는 주사 방향으로의 상기 묘화 헤드의 이동 속도를 제어함으로써 각 공간 광 변조 소자에 대응하는 묘화면 상에 있어서의 각 묘화 영역의 배치를 제어하도록 할 수 있다.
또한, 복수의 공간 광 변조 소자를 각각 복수의 블록 영역으로 분할하고, 각 공간 광 변조 소자에 있어서 복수의 블록 영역마다 제어 신호를 병렬 또는 독립적으로 전송하도록 할 수 있다.
또한, 각 공간 광 변조 소자에 있어서 각 블록 영역을 복수의 분할 영역으로 더욱 분할하고, 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 각 블록 영역에 있어서 분할 영역마다 제어 신호를 순차 전송함과 아울러, 그 전송 종료 시점에 순차적으로 변조를 행하도록 할 수 있다.
또한, 복수의 공간 광 변조 소자를 각각 주사 방향에 대해서 복수의 블록 영역으로 분할하고, 각 공간 광 변조 소자에 있어서 복수의 블록 영역마다 제어 신호를 병렬 또는 독립적으로 전송하도록 할 수 있다.
또한, 각 공간 광 변조 소자에 있어서 블록 영역마다 변조를 행함과 아울러, 블록 영역마다 변조의 타이밍 및/또는 주사 방향으로의 묘화 헤드의 이동 속도를 제어함으로써 각 블록 영역에 대응하는 묘화면 상에 있어서의 각 블록 묘화 영역의 배치를 제어하도록 할 수 있다.
또한, 각 공간 광 변조 소자에 있어서 각 블록 영역을 주사 방향에 대해서 복수의 분할 영역으로 더욱 분할하고, 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 각 블록 영역에 있어서 분할 영역마다 제어 신호를 순차 전송함과 아울러, 그 전송 종료 시점에 순차적으로 변조를 행하도록 할 수 있다.
또한, 각 공간 광 변조 소자에 있어서 각 블록 영역에 있어서의 분할 영역의 변조의 타이밍 및/또는 주사 방향으로의 묘화 헤드의 이동 속도를 제어함으로써 분할 영역에 대응하는 묘화면 상에 있어서의 각 분할 묘화 영역의 배치를 제어하도록 할 수 있다.
본 발명의 묘화 장치는 입사된 광을 전송된 묘화 정보에 따른 제어 신호에 따라 변조하는 묘화 소자가 2차원상으로 다수 배치된 공간 광 변조 소자와, 공간 광 변조 소자에 의해 변조된 광을 묘화면 상에 결상하는 광학계를 구비하는 묘화 헤드와, 묘화 헤드를 묘화면에 대하여 소정의 주사 방향으로 상대적으로 이동시키는 이동 수단과, 공간 광 변조 소자의 묘화 소자에 제어 신호를 전송해서 변조를 행하게 함과 아울러, 이동 수단의 주사 방향으로의 묘화 헤드의 이동 속도를 제어하는 제어 수단을 구비한 묘화 장치에 있어서, 묘화 헤드가 복수의 공간 광 변조 소자와, 복수의 공간 광 변조 소자에 의해 변조된 광을 묘화면에 결상하는 공통의 광학계를 구비하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 묘화 장치에 있어서는 묘화 헤드에 있어서의 복수의 공간 광 변조 소자 및 광학계는 복수의 공간 광 변조 소자에 의해 변조된 광을 광학계에 의해 묘화면 상에 결상된 영역이 주사 방향 및/또는 주사 방향에 직교하는 방향으로 나란히 배치되도록 구성될 수 있다.
또한, 제어 수단은 복수의 공간 광 변조 소자마다 제어 신호를 병렬 또는 독립적으로 전송함과 아울러, 각 공간 광 변조 소자마다 형성된 복수의 제어 신호 전송부를 구비할 수 있다.
또한, 제어 수단은 각 공간 광 변조 소자마다 변조를 행함과 아울러, 공간 광 변조 소자마다 변조의 타이밍 및/또는 주사 방향으로의 묘화 헤드의 이동 속도를 제어함으로써 각 공간 광 변조 소자에 대응하는 묘화면 상에 있어서의 각 묘화 영역의 배치를 제어하도록 구성될 수 있다.
또한, 각 공간 광 변조 소자를 복수의 블록 영역으로 분할하고, 제어 수단은 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 각 블록 영역에 제어 신호를 병렬 또는 독립적으로 전송함과 아울러, 각 블록 영역마다 형성된 복수의 블록 제어 신호 전송부를 구비할 수 있다.
또한, 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 각 블록 영역을 복수의 분할 영역으로 더욱 분할하고, 제어 수단은 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 각 블록 영역에 있어서 분할 영역마다 제어 신호를 순차 전송함과 아울러, 그 전송 종료 시점에 순차적으로 변조를 행하도록 구성될 수 있다.
또한, 각 공간 광 변조 소자를 주사 방향에 대해서 복수의 블록 영역으로 분할하고, 제어 수단은 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 각 블록 영역에 제어 신호를 병렬 또는 독립적으로 전송함과 아울러, 각 블록 영역마다 형성된 복수의 블록 제어 신호 전송부를 구비할 수 있다.
또한, 제어 수단은 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 블록 영역마다 변조를 행하게 함과 아울러, 블록 영역마다 변조의 타이밍 및/또는 주사 방향으로의 묘화 헤드의 이동 속도를 제어함으로써 각 블록 영역에 대응하는 묘화면 상에 있어서의 각 블록 묘화 영역의 배치를 제어하도록 구성될 수 있다.
또한, 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 각 블록 영역을 주사 방향에 대해서 복수의 분할 영역으로 더욱 분할하고, 제어 수단은 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 각 블록 영역에 있어서 분할 영역마다 제어 신호를 순차 전송함과 아울러, 그 전송 종료 시점에 순차적으로 변조를 행하도록 구성될 수 있다.
또한, 제어 수단은 각 공간 광 변조 소자에 있어서 각 블록 영역에 있어서의 분할 영역의 변조의 타이밍 및/또는 주사 방향으로의 묘화 헤드의 이동 속도를 제어함으로써 분할 영역에 대응하는 묘화면 상에 있어서의 각 분할 묘화 영역의 배치를 제어하도록 구성될 수 있다.
여기에서, 상기 "공통의 광학계"라는 것은 상기 복수의 공간 광 변조 소자에 의해 변조된 광을 묘화면 상에 결상하는 광학계이며, 일체로서 조정될 수 있다.
또한, 상기 "제어 신호를 병렬로 전송한다"는 것은 제어 신호가 적어도 소정의 시점에 있어서 동시에 전송되도록 하면 좋고, 제어 신호의 전송 시작 타이밍이 같은 경우뿐만 아니라 전송 시작 타이밍이 소정의 시간만큼 벗어나 있는 경우도 포함하는 것으로 한다.
또한, 상기 "주사 방향에 대해서", "분할한다"는 것은 묘화 소자가 배열된 직교하는 2방향 중 어느 한쪽의 방향이 주사 방향과 같은 방향일 경우에는 그 방향에 대해서 분할하는 것을 의미하고, 상기 직교하는 2방향의 어느 쪽의 방향도 주사 방향과 동일 방향이 아닐 경우에는 상기 주사 방향에 대한 경사각이 보다 작은 쪽의 방향에 대해서 분할하는 것을 의미한다.
본 발명의 묘화 방법 및 장치에 의하면, 복수의 공간 광 변조 소자와, 복수의 공간 광 변조 소자에 의해 변조된 광을 묘화면에 결상하는 공통의 광학계를 구비하는 묘화 헤드에 의해 묘화를 행하도록 하기 때문에 묘화 헤드의 수를 삭감할 수 있고, 묘화 헤드의 위치 조정 개소를 절감할 수 있으므로, 그 결과, 환경 온도 변화에 따른 묘화 헤드의 상대적인 위치 관계의 변화를 감소시킬 수 있음과 아울러, 묘화 헤드의 위치 조정 작업의 간이화를 꾀할 수 있고, 더욱이 가격의 삭감을 꾀할 수 있다.
또한, 상기한 바와 같이, 상기 헤드 위치 조정 개소를 절감함으로써 조정 정밀도의 편차를 억제하는 것이 가능하게 되고, 그 결과, 헤드의 위치 정밀도를 향상시킬 수 있다. 또한, 위치 조정 개소의 수와 편차의 관계는 일반적으로 위치 조정 개소(n)에 대하여, 그 경우에 편차는
Figure 112007028547186-PCT00001
의 관계에 있으므로, 예컨대, 1/2로 조정 개소를 삭감할 수 있으면 편차는 0.7배가 된다.
또한, 1개의 공간 광 변조 소자에 대하여 1개의 광학계를 형성하여 묘화 헤드를 구성하는 경우와 비교하면, 일체화된 부품을 많게 할 수 있기 때문에 중량 및 강성에 있어서도 뛰어난 것으로 할 수 있다. 즉, 휘어짐과 진동에 의한 정밀도 열화의 영향이 적다.
또한, 묘화 헤드수를 절감할 수 있으므로, 묘화 헤드간의 화소 얼라이닝 개소를 적게 할 수 있고, 위치 정밀도 악화 요인을 절감할 수 있다.
또한, 묘화 헤드의 조립에 있어서도, 1개의 공간 광 변조 소자에 대하여 1개의 광학계를 준비한 묘화 헤드를 복수 구성하는 경우보다도 복수의 공간 광 변조 소자에 대하여 1개의 광학계를 형성한 묘화 헤드를 구성하는 경우가 공간 광 변조 소자나 광학계의 위치 조정 시간 등을 단축할 수 있고, 조정 가격을 삭감할 수 있다.
또한, 복수의 묘화 헤드에 의해 노광되는 묘화 영역이 서로 겹치도록 한 경우에는 파워 계조를 용이하게 늘릴 수 있다. 예컨대, 2개의 공간 광 변조 소자를 사용하는 경우, 한쪽의 공간 광 변조 소자에 0.65W의 광을 입사하고, 다른 쪽의 공간 광 변조 소자에 0.35W의 광을 입사하도록 하면, 0W, 0.65W, 0.135W, 2W의 4계조의 묘화가 가능하다. 또한, 2개의 공간 광 변조 소자에 1W의 광을 입사하도록 하면, 0W, 1W, 2W의 3계조의 묘화가 가능하다.
또한, 상기 묘화 방법 및 장치에 있어서, 복수의 공간 광 변조 소자를 각각 복수의 블록 영역으로 분할하고, 각 공간 광 변조 소자에 있어서 복수의 블록 영역마다 제어 신호를 병렬로 전송하도록 한 경우에는 예컨대, 화상 데이터를 1줄씩 순차 SRAM 어레이에 전송해서 기록하고, 모든 행의 화상 데이터가 SRAM 어레이에 전송된 후에 리셋하는 경우와 비교하면 변조 속도를 보다 고속화할 수 있다. 예컨대, 4개의 블록 영역으로 분할하도록 한 경우에는 변조 속도를 4배로 할 수 있다.
또한, 각 공간 광 변조 소자에 있어서 블록 영역마다 상기 변조를 행함과 아울러, 블록 영역마다 상기 변조의 타이밍 및/또는 주사 방향으로의 묘화 헤드의 이동 속도를 제어함으로써 각 블록 영역에 대응하는 묘화면 상에 있어서의 각 블록 묘화 영역의 배치를 제어하도록 한 경우에는 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 각 블록 영역의 각 묘화 영역의 배치를 임의로 제어할 수 있다. 예컨대, 각 블록 영역의 각 묘화 영역에 있어서의 묘화점을 주사 방향에 대해서 동일한 간격으로 배치할 수 있고, 등분포의 해상도를 실현할 수 있다.
또한, 각 공간 광 변조 소자에 있어서 각 블록 영역을 주사 방향으로 복수의 분할 영역으로 더욱 분할하고, 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 각 블록 영역에 있어서 분할 영역마다 제어 신호를 순차 전송함과 아울러, 그 전송 종료 시점에 순차적으로 변조를 행하도록 한 경우에는 각 블록 영역에 있어서, 1개의 분할 영역의 리셋 시간 사이에 그 밖의 분할 영역으로의 제어 신호의 전송을 행하도록 할 수 있으므로, 각 블록 영역의 변조 속도를 더욱 고속화할 수 있다. 또한, 각 블록 영역의 변조 시간 사이에 각 분할 영역의 묘화점을 묘화하도록 할 수 있으므로, 해상도를 향상시킬 수 있다. 예컨대, 각 블록 영역을 3개의 분할 영역으로 분할한 경우에는 해상도를 3배로 할 수 있다.
도 1은 본 발명에 의한 묘화 장치의 제 1 실시형태를 사용한 노광 장치의 외관을 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 노광 장치의 스캐너의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 3은 도 2에 도시된 노광 헤드의 개략구성도이다.
도 4는 도 1에 도시된 노광 장치의 DMD의 구성을 나타내는 부분 확대도이다.
도 5(A)는 DMD의 동작을 설명하기 위한 사시도이다.
도 5(B)는 DMD의 동작을 설명하기 위한 사시도이다.
도 6은 DMD에 있어서의 블록 영역을 나타내는 도면이다.
도 7은 블록 영역마다 형성된 제어 신호 전송부의 개략구성도이다.
도 8은 도 1에 도시된 노광 장치를 사용한 노광 방법의 제 1 실시형태를 설명하기 위한 타이밍 차트이다.
도 9는 도 1에 도시된 노광 장치를 사용한 노광 방법의 제 2 실시형태를 설 명하기 위한 타이밍 차트이다.
도 10은 도 1에 도시된 노광 장치를 사용한 노광 방법의 제 3 실시형태를 설명하기 위한 타이밍 차트이다.
도 11은 도 1에 도시된 노광 장치를 사용한 노광 방법의 제 4 실시형태를 설명하기 위한 타이밍 차트이다.
도 12는 도 1에 도시된 노광 장치를 사용한 노광 방법의 제 5 실시형태를 설명하기 위한 타이밍 차트이다.
도 13은 도 1에 도시된 노광 장치를 사용한 노광 방법의 제 6 실시형태를 설명하기 위한 타이밍 차트이다.
도 14는 도 1에 도시된 노광 장치를 사용한 노광 방법의 제 1 실시형태의 변형예를 설명하기 위한 타이밍 차트이다.
도 15는 도 1에 도시된 노광 장치를 사용한 노광 방법의 제 2 실시형태의 변형예를 설명하기 위한 타이밍 차트이다.
도 16은 도 1에 도시된 노광 장치를 사용한 노광 방법의 제 3 실시형태의 변형예를 설명하기 위한 타이밍 차트이다.
도 17은 도 1에 도시된 노광 장치를 사용한 노광 방법의 제 4 실시형태의 변형예를 설명하기 위한 타이밍 차트이다.
도 18은 도 1에 도시된 노광 장치를 사용한 노광 방법의 제 5 실시형태의 변형예를 설명하기 위한 타이밍 차트이다.
도 19는 도 1에 도시된 노광 장치를 사용한 노광 방법의 제 6 실시형태의 변 형예를 설명하기 위한 타이밍 차트이다.
도 20(A)는 노광 헤드의 다른 실시형태를 나타내는 도면이다.
도 20(B)는 노광 헤드의 다른 실시형태를 나타내는 도면이다.
이하, 도면을 참조해서 본 발명의 묘화 방법 및 장치의 제 1 실시형태를 사용한 노광 장치로 상세히 설명한다. 도 1은 본 실시형태의 노광 장치의 개략구성을 나타내는 사시도이다.
본 실시형태의 노광 장치(10)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 감광 재료(12)를 표면에 흡착해서 유지하는 평판상의 이동 스테이지(14)를 구비하고 있다. 그리고, 4개의 다리부(16)로 지지된 두터운 판상의 설치대(18)의 상면에는 스테이지 이동 방향을 따라 연장된 2개의 가이드(20)가 설치되어 있다. 스테이지(14)는 그 길이 방향이 스테이지 이동 방향을 향하도록 배치됨과 아울러, 가이드(20)에 의해 왕복 이동 가능하게 지지되어 있다.
설치대(18)의 중앙부에는 이동 스테이지(14)의 이동 경로를 넘도록 U자형의 게이트(22)가 형성되어 있다. U자형의 게이트(22)의 단부의 각각은 설치대(18)의 양측면에 고정되어 있다. 이 게이트(22)의 한쪽에는 스캐너(24)가 형성되고, 다른 쪽에는 감광 재료(12)의 선단 및 후단을 검지하는 복수(예컨대, 2개)의 센서(26)가 형성되어 있다. 스캐너(24) 및 센서(26)는 게이트(22)에 각각 부착되고, 이동 스테이지(14)의 이동 경로의 상방에 고정 배치되어 있다. 또한, 스캐너(24) 및 센서(26)는 이것들을 제어하는 제어부(후술함)에 접속되어 있다.
스캐너(24)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 주사 방향에 직교하는 방향으로 일렬로 배열된 5개의 노광 헤드(30)를 구비하고 있다.
도 3에 노광 헤드(30)의 개략구성을 나타낸다. 노광 헤드(30)는 레이저 광을 사출하는 2개의 레이저 광원(31a, 31b)과, 레이저 광원(31a, 31b)으로부터 사출된 레이저 광을 도광하는 도광 부재(32a, 32b)와, 도광 부재(32a, 32b)에 의해 도광 된 광을 후술하는 DMD(34a, 34b)에 입사되는 제 1 프리즘(33a, 33b)과, 제 1 프리즘(33a, 33b)에 의해 결상된 레이저 광을 각각 입력된 제어 신호에 따라 변조하는 2개의 DMD(34a, 34b)와, DMD(34a, 34b)에 의해 변조된 광을 노광면(12a)의 방향으로 반사하는 제 2 프리즘(35)과, 제 2 프리즘(35)에 의해 반사된 광을 노광면(12a)에 투영하는 제 1 및 제 2 투영 렌즈(36, 38)와, 제 1 투영 렌즈(36)와 제 2 투영 렌즈(38) 사이에 배치된 마이크로 렌즈 어레이(37)와, DMD(34a, 34b)에 형성되고, DMD(34a, 34b)를 냉각하는 냉각핀(cooling fin)(39a, 39b)을 구비하고 있다.
DMD(34a, 34b)는 묘화 소자로서의 마이크로 미러가 직교하는 방향으로 2차원상으로 배열된 것이다. DMD(34a, 34b)는, 도 4에 도시된 바와 같이, SRAM 어레이(메모리 셀)(56a, 56b)상에, 마이크로 미러(58a, 58b)가 지주에 의해 지지되어서 배치된 것이며, 상기한 바와 같이 화소를 구성하는 다수의(예컨대, 피치 13.68㎛, 1024개×768개)의 마이크로 미러(58a, 58b)가 직교하는 방향으로 2차원상으로 배열되어서 구성된 미러 디바이스이다. 그리고, 상기한 바와 같이 마이크로 미러(58a, 58b)의 직하에는 힌지(hinge) 및 요크(yoke)를 포함하는 지주를 통해 통상의 반도체 메모리의 제조 라인으로 제조되는 실리콘-게이트의 CMOS의 SRAM 어레이(56a, 56b)가 배치되어 있다.
DMD(34a, 34b)의 SRAM 어레이(56a, 56b)에 제어 신호로서의 디지털 신호가 기록되면 그 디지털 신호에 따른 제어 전압이 마이크로 미러(58a, 58b)마다 형성된 전극부(도시 생략)에 인가되어 그 제어 전압의 인가에 의해 발생한 정전기력에 의해 지주로 지지된 마이크로 미러(58a, 58b)가 대각선을 중심으로 해서 ±α°(예컨대, ±10°)의 범위에서 기울어진다. 도 5(A)는 마이크로 미러(58a, 58b)가 온 상태인 +α°로 기울어진 상태를 나타내고, 도 5(B)는 마이크로 미러(58a, 58b)가 오프 상태인 -α°로 기울어진 상태를 나타낸다. 그리고, 마이크로 미러(58a, 58b)가 온 상태일 때에 마이크로 미러(58a, 58b)에 입사된 광(B)은 감광 재료(12)를 향해서 반사되고, 마이크로 미러(58a, 58b)가 오프 상태일 때에 마이크로 미러(58a, 58b)에 입사된 광(B)은 감광 재료(12) 이외의 광 흡수 재료를 향해서 반사된다.
여기에서, 본 노광 장치에 있어서의 DMD(34a, 34b)는, 도 6에 도시된 바와 같이, 복수의 마이크로 미러행으로 이루어지는 4개의 블록 영역(A∼D)으로 분할되어 있다.
그리고, 각 노광 헤드(30)에는 각 DMD(34a, 34b)마다, 도 7에 도시된 바와 같이, 4개의 제어 신호 전송부(60A∼60D)가 블록 영역(A∼D)마다 형성되어 있다. 또한, 도 7에 있어서는 제어 신호 전송부(60C)는 도시되어 있지 않다. 또한, 본 실시형태에 있어서는 상기한 바와 같이 DMD(36)를 4개의 블록 영역으로 분할하도록 했지만, 이것에 한정되지 않고, 2 이상의 블록 영역이면 몇개의 블록 영역으로 분할하도록 해도 좋다.
상기한 바와 같이, 4개의 제어 신호 전송부(60A∼60D)는 각 노광 헤드(30)의 각 DMD(34a, 34b)마다 형성되어 있지만 여기에서는 그 중에서 1개의 구성에 대해서 설명한다. 각 제어 신호 전송부(60A∼60D)는, 도 7에 도시된 바와 같이, P개의 시프트 레지스터 회로(61)와, 래치 회로(62)와, 칼럼 드라이버 회로(63)를 구비하고 있다. P개의 시프트 레지스터 회로(61)에는 콘트롤러(65)로부터 클럭 신호(CK)가 입력되어, 그 클럭 신호(CK)에 따라서 P개의 시프트 레지스터 회로(61)에 각각 1개씩 제어 신호가 동시에 기록된다. 그리고, P개의 시프트 레지스터 회로(61)에 각각 N개의 제어 신호가 기록되면 그 N×P개의 1줄의 제어 신호가 래치 회로(62)로 전송된다.
그리고, 래치 회로(62)로 전송된 1줄의 제어 신호는 그대로 칼럼 드라이버 회로(63)로 전송되고, 칼럼 드라이버 회로(63)로부터 출력된 1줄의 제어 신호는 SRAM 어레이(56a)의 소정의 행에 기록된다. 제어 신호가 기록되는 소정의 행은 로우 디코더(row decoder)(64)에 있어서 어드레스 신호에 의거해서 선택된다.
그리고, 상기한 바와 같이 래치 회로(62)에 제어 신호가 래치되어 SRAM 어레이(56a)의 소정의 행에 제어 신호가 기록되는 사이에 다음 행의 제어 신호가 시프트 레지스터 회로(61)에 기록된다.
또한, 시프트 레지스터 회로(62), 래치 회로(62), 칼럼 드라이버 회로(63), 및 SRAM 어레이(56)로의 제어 신호의 기록의 타이밍은 콘트롤러(65)에 의해 제어된다.
그리고, 상기한 바와 같이 해서 SRAM 어레이(56a)에 제어 신호가 기록된 후, 그 기록된 제어 신호에 따른 제어 전압이 전압 제어부(66)에 의해 마이크로 미러(58a)마다 형성된 전극부에 인가되어 각 마이크로 미러(58a)가 리셋된다.
여기에서, 각 블록 영역(A∼D)에 형성된 전압 제어부(66)는 각 블록 영역(A∼D)에 있어서의 마이크로 미러행을 다시 K행마다 분할한 3개의 분할 영역(1∼3)마다로 제어 전압을 출력 가능한 것이다. 또한, 본 실시형태에 있어서는 3개의 분할 영역으로 분할하도록 했지만, 이것에 한정되지 않고, 2 이상의 분할 영역이면 몇개의 분할 영역으로 분할하도록 해도 좋다. 또한, 본 실시형태에 있어서는 상기 분할 영역(1∼3)으로 동시에 제어 전압을 출력하는 형태를 설명하고, 후술하는 그 밖의 실시형태에 있어서 분할 영역(1∼3)마다로 제어 전압을 출력하는 형태를 설명한다.
그리고, 본 노광 장치(10)에는, 도 7에 도시된 바와 같이, 노광 장치 전체를 제어하는 제어부(70) 및 각 노광 헤드(30)의 각 DMD(34a, 34b)마다 형성된 제어 신호 전송부(60A∼60D)에 제어 신호를 출력하는 데이터 제어부(68)가 형성되어 있고, 상기와 같은 각 노광 헤드(30)에 있어서의 DMD(34a, 34b)의 SRAM 어레이(56a, 56b)로의 제어 신호의 기록 및 마이크로 미러(58a, 58b)의 구동은 제어부(70)에 의해 제어된다. 또한, 제어부(70)는 이동 스테이지(14)를 이동시키는 스테이지 구동 장치(72)를 구동 제어하는 것이기도 하다.
이어서, 본 실시형태의 노광 장치(10)의 작용에 대해서 상세히 설명한다.
우선, 도시되지 않은 소정의 데이터 작성 장치에 있어서, 감광 재료(12)에 노광해야 할 화상에 따른 화상 데이터가 작성되어 그 화상 데이터가 데이터 제어부(68)로 출력된다. 그리고, 데이터 제어부(68)에 있어서, 상기 화상 데이터에 의 거해서 각 노광 헤드(30)로 출력되는 제어 신호가 생성된다. 또한, 본 실시형태의 노광 장치는 DMD(36)의 블록 영역(A∼D)마다 제어 신호를 전송하고, 블록 영역(A∼D)마다 마이크로 미러(58)를 구동 제어하는 것이므로, 상기 제어 신호도 각 블록 영역(A∼D)마다 생성된다.
그리고, 상기한 바와 같이 데이터 제어부(68)에 있어서 각 노광 헤드(30)마다 제어 신호가 생성됨과 아울러, 제어부(70)로부터 스테이지 구동 장치(72)에 스테이지 구동 제어 신호가 출력되어 스테이지 구동 장치(72)는 스테이지 구동 제어 신호에 따라서 이동 스테이지(14)를 가이드(20)를 따라 스테이지 이동 방향으로 소망의 속도로 이동시킨다. 한편, 제어부(72)로부터 제어 신호에 따라서 레이저 광원(31a, 31b)이 구동되어서 레이저 광이 사출되고, 그 레이저 광원(31a, 31b)으로부터 사출된 레이저 광은 도광 부재(32a, 32b)에 의해 도광되어 제 1 프리즘(33a, 33b)에 각각 입사되고, 제 1 프리즘(33a, 33b)에 의해 DMD(34a, 34b)에 각각 입사된다.
그리고, 이동 스테이지(14)가 게이트(22) 아래를 통과할 때 게이트(22)에 부착된 센서(26)에 의해 감광 재료(12)의 선단이 검출되면 데이터 제어부(68)로부터 각 노광 헤드(30)로 제어 신호가 출력되어 각 노광 헤드(30)마다 묘화가 개시된다.
여기에서, 각 노광 헤드(30)에 있어서의 DMD(34a, 34b)의 구동 제어에 대해서 상세히 설명한다.
우선, DMD(34a, 34b)의 각 블록 영역(A∼D)으로 순서대로 제어 신호를 출력해서 DMD(34a, 34b)를 구동 제어하는 경우에 대해서 설명한다. 상기와 같은 구동 제어를 할 경우에 있어서의 타이밍 차트를 도 8에 나타낸다. 또한, 도 8에 도시된 타이밍 차트에 있어서는 DMD(34a)를 DMD1, DMD(34b)를 DMD2로 기재하고 있다.
구체적으로는, 우선, DMD(34a)와 DMD(34b)의 각 블록 영역(A)에 같은 타이밍에 제어 신호가 전송되고, 그 후, 블록 영역(B), 블록 영역(C), 블록 영역(D)의 순서대로 제어 신호가 전송된다.
그리고, 상기한 바와 같이 해서 전송된 제어 신호는 각 블록 영역(A∼D)마다 형성된 제어 신호 전송부(60A∼60D)에 의해 상기한 바와 같이 해서 각 블록 영역(A∼D)마다 SRAM 어레이(56a, 56b)에 기록된다.
그리고, 도 8에 도시된 바와 같이, DMD(34a)와 DMD(34b)의 양쪽의 각 블록 영역(A∼D)으로의 제어 신호의 전송이 끝난 시점에 있어서, 그 기록된 제어 신호에 따른 제어 전압이 전압 제어부(66)에 의해 인가되어 DMD(34a)와 DMD(34b)의 모든 마이크로 미러(58a, 58b)가 리셋된다.
그리고, 상기 리셋에 의해 DMD(34a)와 DMD(34b)에 의해 변조된 광은 각각 제 2 프리즘(35)을 향해서 사출되고, 그 사출된 광은 제 2 프리즘(35)에 의해 노광면(12a)를 향해서 반사되어 제 1 및 제 2 투영 렌즈(36, 38)와 마이크로 렌즈 어레이(37)에 의해 노광면(12a) 상에 결상되고, 도 2에 도시된 바와 같이, 각각 직사각형의 노광 영역(40a)과 노광 영역(40b)을 형성한다. 또한, 마이크로 렌즈 어레이(37)를 구성하는 각각의 마이크로 렌즈는 DMD(34a, 34b)를 구성하는 각각의 마이크로 미러(58a, 58b)에 대응되어서 위치 조정되어 있다.
그리고, 감광 재료(12)가 이동 스테이지(14)과 함께 일정 속도로 이동하고, 감광 재료(12)가 스캐너(24)에 의해 스테이지 이동 방향에 반대 방향으로 주사됨과 아울러, 도 8에 나타낸 타이밍에 상기와 같이 해서 DMD(34a, 34b)로의 제어 신호의 전송 및 리셋이 반복되어, 노광 헤드(30)마다 스트립 형상의 노광 완료 영역(41)이 형성된다.
그리고, 스캐너(24)에 의한 감광 재료(12)의 주사가 종료하고, 센서(26)로 감광 재료(12)의 후단이 검출되면 이동 스테이지(14)는 스테이지 구동 장치(72)에 의해 가이드(20)를 따라 게이트(22)의 최상류측에 있는 원점으로 복귀하고, 새로운 감광 재료(12)가 설치된 후 다시 가이드(20)를 따라 게이트(22)의 상류측으로부터 하류측으로 일정 속도로 이동한다.
또한, 상기 제 1 실시형태에 있어서는 DMD(34a, 34b)의 각 블록 영역(A∼D)마다 제어 신호 전송부(60A∼60D)를 형성하도록 했지만, 상기한 바와 같이 제어 신호를 전송하는 경우에는 반드시 상기와 같은 구성으로 할 필요는 없고, 제어 신호 전송부를 DMD(34a, 34b)마다 각각 1개씩 형성하도록 해도 좋다.
또한, 상기 제 1 실시형태에 있어서, 도 2에 도시된 바와 같이, DMD(34a)에 의해 노광될 노광 영역(40a)과 DMD(34b)에 의해 노광될 노광 영역(40b)이 주사 방향에 간격을 두지 않고 늘어서도록 했지만, DMD(34a) 및 DMD(34b)의 배치나 제 1 및 제 2 투영 렌즈(36, 38)의 구성 등을 조정함으로써 노광 영역(40a)과 노광 영역(40b)이 주사 방향으로 간격을 두어서 나란히 서도록 해도 좋고, 노광 영역(40a)과 노광 영역(40b)이 겹치도록 해도 좋다. 또한, 노광 영역(40a)과 노광 영역(40b)을 주사 방향으로 옮겨서 배치함으로써 노광 영역(40a)과 노광 영역(40b)의 일부가 겹치도록 해도 좋다.
또한, 상기 제 1 실시형태에 있어서, DMD(34a)와 DMD(34b)를 그 마이크로 미러(58a, 58b)의 배열 방향이 주사 방향과 소정의 설정 경사 각도(θ)를 갖도록 노광 헤드(30)에 부착해도 좋다.
또한, 상기 제 1 실시형태에 있어서, 각 노광 헤드(30)에 의해 노광된 노광 완료 영역(41)이 노광 헤드(30)의 배열 방향에 있어서 간격을 두어서 형성되도록 한 경우에는 노광 헤드(30)의 열을 주사 방향으로 복수 배열하도록 하고, 주사 방향의 하류측에 배치되는 노광 헤드(30)열에 의해 노광된 노광 완료 영역(41)의 사이를 주사 방향의 상류측에 배치되는 노광 헤드(30)열에 의해 노광하도록 해도 좋다. 이 경우, 주사 방향의 하류측에 배치되는 노광 헤드(30)열에 의해 노광되는 노광 완료 영역(41)과 주사 방향의 상류측에 배치되는 노광 헤드(30)열에 의해 노광된 노광 완료 영역(41)이 일부 겹치도록 하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 제 1 실시형태에 있어서는 도 2에 도시된 바와 같이, 노광 영역(40a)과 노광 영역(40b)이 주사 방향으로 늘어서도록 했지만, DMD(34a) 및 DMD(34b)의 배치나 제 1 및 제 2 투영 렌즈(36, 38)의 구성 등을 조정함으로써 노광 영역(40b)과 노광 영역(40b)이 주사 방향에 직교하는 방향으로 나란히 서도록 해도 좋다.
이어서, 본 발명의 묘화 방법 및 장치의 제 2 실시형태를 사용한 노광 장치를 설명한다. 본 실시형태의 노광 장치의 구성은 상기 제 1 실시형태의 노광 장치와 거의 같고, 각 노광 헤드(30)에 있어서의 DMD(36)의 구동 제어의 방법이 상기 제 1 실시형태의 노광 장치와 다른 것이다. 따라서, 각 노광 헤드(30)에 있어서의 DMD(36)의 구동 제어의 방법만을 이하에 설명한다.
상기 제 1 실시형태에 있어서는 DMD(34a, 34b)의 블록 영역(A∼D)의 모두에 제어 신호가 전송된 후 리셋을 하도록 했지만 상기한 바와 같이 제어하고서는 모든 블록 영역(A∼D)에 제어 신호가 전송될 때까지의 시간이 길어지게 된다.
따라서, 제 2 실시형태에 있어서는 도 9에 도시된 바와 같은 타이밍에 제어 신호를 전송하고 리셋을 행한다. 구체적으로는 우선, 상기 제 1 실시형태와 마찬가지로 DMD(34a, 34b)의 제어 신호가 블록 영역(A)으로부터 블록 영역(D)의 순서대로 전송된다. 그리고, 각 DMD(34a, 34b)의 각 블록 영역(A∼D)에 있어서, 도 9에 도시된 바와 같이, 각 분할 영역(1∼3)마다 제어 신호를 전송하고, 그 전송 종료 시점에 순차적으로 각 분할 영역(1∼3)에 있어서의 마이크로 미러(58)를 전압 제어부(66)에 의해 리셋한다. 상기한 바와 같이 구동 제어함으로써 리셋 시간만큼 변조 시간을 짧게 할 수 있다.
이어서, 본 발명의 묘화 방법 및 장치의 제 3 실시형태를 사용한 노광 장치를 설명한다. 본 실시형태의 노광 장치의 구성도, 상기 제 1 실시형태의 노광 장치와 거의 같고, 각 노광 헤드(30)에 있어서의 DMD(36)의 구동 제어의 방법이 상기 제 1 실시형태의 노광 장치와 다른 것이다. 따라서, 각 노광 헤드(30)에 있어서의 DMD(36)의 구동 제어의 방법만을 이하에 설명한다.
상기 제 1 실시형태에 있어서는 DMD(34a, 34b)의 블록 영역(A∼D)의 제어 신호를 블록 영역(A)으로부터 블록 영역(D)까지 순서대로 전송하도록 했지만, 상기한 바와 같이 제어하고서는 모든 블록 영역(A∼D)에 제어 신호가 전송될 때까지의 시간이 길어지게 된다.
따라서, 제 3 실시형태에 있어서는 도 10에 도시된 바와 같은 타이밍에 제어 신호를 전송하고 리셋을 행한다. 구체적으로는 각 DMD(34a, 34b)에 있어서, 각 블록 영역(A∼D)의 제어 신호를 각 블록 영역(A∼D)마다 형성된 제어 신호 전송부(60A∼60D)에 의해 병렬로 전송한다. 그리고, 도 10에 도시된 바와 같이, 모든 블록 영역(A∼D)으로의 제어 신호의 전송이 종료한 시점에 있어서, 각 DMD(34a, 34b)의 모든 마이크로 미러(58)를 전압 제어부(66)에 의해 리셋한다. 상기한 바와 같이 구동 제어함으로써 제어 신호의 전송 시간을 단축할 수 있고, 변조 시간을 짧게 할 수 있다.
이어서, 본 발명의 묘화 방법 및 장치의 제 4 실시형태를 사용한 노광 장치를 설명한다. 제 4 실시형태는 상기 제 2 실시형태와 상기 제 3 실시형태에 있어서의 구동 제어 방법을 조합시킨 것 같은 실시형태이다.
제 4 실시형태에 있어서는 도 11에 도시된 바와 같은 타이밍에 제어 신호를 전송하고 리셋을 행한다. 구체적으로는 제 3 실시형태와 마찬가지로 각 DMD(34a, 34b)에 있어서 각 블록 영역(A∼D)의 제어 신호를 각 블록 영역(A∼D)마다 형성된 제어 신호 전송부(60A∼60D)에 의해 병렬로 전송한다. 그리고, 제 2 실시형태와 마찬가지로 각 DMD(34a, 34b)의 각 블록 영역(A∼D)에 있어서, 도 11에 도시된 바와 같이, 각 분할 영역(1∼3)마다 제어 신호를 전송하고, 그 전송 종료 시점에 순차적으로 각 분할 영역(1∼3)에 있어서의 마이크로 미러(58)를 전압 제어부(66)에 의해 리셋한다. 상기한 바와 같이 구동 제어함으로써 제 3 실시형태와 비교하면 리셋 시간만큼 더욱 변조 시간을 짧게 할 수 있다.
이어서, 본 발명의 묘화 방법 및 장치의 제 5 실시형태를 사용한 노광 장치를 설명한다. 제 5 실시형태는 상기 제 3 실시형태의 구동 제어 방법에 있어서, 각 DMD(34a, 34b)의 각 블록 영역(A∼D)의 변조 타이밍을 변경한 것이다.
구체적으로는, 도 12에 도시된 바와 같이, 각 DMD(34a, 34b)에 있어서, 각 블록 영역(A∼D)으로의 제어 신호의 전송 시작 타이밍을 미리 설정된 시간만큼 늦춤으로써 각 DMD(34a, 34b)에 있어서의 각 블록 영역(A∼D)의 변조 타이밍을 미리 설정된 시간만큼 지연시키도록 한다. 상기한 바와 같이 블록 영역(A∼D)마다 변조 타이밍을 늦추도록 함으로써 주사 방향을 따라 고해상도로 묘화점을 노광할 수 있음과 아울러, 각 블록 영역(A∼D)마다 묘화점의 간격을 제어할 수 있고, 예컨대, 각 블록 영역(A∼D)마다 묘화점의 간격을 등간격으로 배치하도록 할 수 있다.
이어서, 본 발명의 묘화 방법 및 장치의 제 6 실시형태를 사용한 노광 장치를 설명한다. 제 6 실시형태는 상기 제 4 실시형태와 상기 제 5 실시형태에 있어서의 구동 제어 방법을 조합시킨 것 같은 실시형태이다.
구체적으로는 상기 제 4 실시형태와 마찬가지로 각 DMD(34a, 34b)의 각 블록 영역(A∼D)에 있어서, 도 13에 도시된 바와 같이, 각 분할 영역(1∼3)마다 제어 신호를 전송하고, 그 전송 종료 시점에 순차적으로 각 분할 영역(1∼3)에 있어서의 마이크로 미러(58)를 전압 제어부(66)에 의해 리셋함과 아울러, 각 블록 영역(A∼D)으로의 제어 신호의 전송 시작 타이밍을 미리 설정된 시간만큼 늦춤으로써 각 DMD(34a, 34b)에 있어서의 각 블록 영역(A∼D)의 변조 타이밍을 미리 설정된 시간만큼 지연시키도록 한다. 상기한 바와 같이 구동 제어함으로써 주사 방향을 따라 고해상도로 묘화점을 노광할 수 있음과 아울러, 각 분할 영역(1∼3)마다 묘화점의 간격을 제어할 수 있고, 예컨대, 각 분할 영역(1∼3)마다 묘화점의 간격을 등간격으로 배치하도록 할 수 있다.
또한, 상기 제 1∼제 6 실시형태에 있어서는 DMD(34a) 및 DMD(34b)와 같은 타이밍에 제어 신호의 전송 및 리셋을 제어하도록 했지만 DMD(34a) 및 DMD(34b)와 다른 타이밍에 제어하도록 해도 좋다.
예컨대, 제 1 실시형태에 있어서, 도 14에 도시된 바와 같이, DMD(34a)와 DMD(34b)로 제어 신호의 전송 시작 타이밍을 미리 설정된 소정의 시간만큼 늦춤으로써 DMD(34a)와 DMD(34b)의 변조 타이밍을 지연시키도록 해도 좋다. 상기한 바와 같이 구동 제어함으로써 제 1 실시형태와 비교하면 보다 고해상도로 묘화점을 노광할 수 있다.
또한, 상기한 바와 같이, 제 2 실시형태에 있어서 DMD(34a)와 DMD(34b)를 다른 타이밍에 구동 제어하도록 한 타이밍 차트를 도 15에, 제 3 실시형태에 있어서 DMD(34a)와 DMD(34b)를 다른 타이밍에 구동 제어하도록 한 타이밍 차트를 도 16에, 제 4 실시형태에 있어서 DMD(34a)와 DMD(34b)를 다른 타이밍에 구동 제어하도록 한 타이밍 차트를 도 17에, 제 5 실시형태에 있어서 DMD(34a) 및 DMD(34b)와 다른 타이밍에 구동 제어하도록 한 타이밍 차트를 도 18에, 제 6 실시형태에 있어서 DMD(34a) 및 DMD(34b)와 다른 타이밍에 구동 제어하도록 한 타이밍 차트를 도 19에 나타낸다.
도 15∼도 19에 도시된 바와 같은 타이밍에 DMD(34a)와 DMD(34b)를 각각 구동 제어함으로써 보다 고해상도로 묘화점을 노광할 수 있다.
또한, 상기 설명한 실시형태에 있어서는 예컨대, DMD(34a)와 DMD(34b)의 변조 타이밍과 이동 스테이지(14)의 이동 속도를 제어함으로써 DMD(34a)에 대응하는 묘화 영역과 DMD(34b)에 대응하는 묘화 영역이 겹치도록 해도 좋고, DMD(34a)에 대응하는 묘화 영역의 묘화점 사이에 DMD(34b)에 대응하는 묘화 영역의 묘화점이 배치되도록 해도 좋다.
또한, 1개의 DMD(34a) 또는 DMD(34b)에 있어서의 블록 영역(A∼D)의 변조 타이밍과 이동 스테이지(14)의 이동 속도를 제어함으로써 블록 영역(A∼D)에 대응하는 묘화 영역이 겹치도록 해도 좋고, 예컨대, 블록 영역(A)에 대응하는 묘화 영역의 묘화점 사이에 블록 영역(B)∼D에 대응하는 묘화 영역의 묘화점이 배치되도록 해도 좋다.
또한, 블록 영역에 있어서의 분할 영역(1∼3)의 변조 타이밍과 이동 스테이지(14)의 이동 속도를 제어함으로써 분할 영역에 대응하는 분할 묘화 영역이 겹치도록 해도 좋고, 예컨대, 분할 영역(1)에 대응하는 분할 묘화 영역의 묘화점 사이에 분할 영역(2, 3)에 대응하는 분할 묘화 영역의 묘화점이 배치되도록 해도 좋다.
즉, 1개의 노광 헤드(30)에 있어서의 적어도 2개의 DMD 구동 단위(예컨대, 1개의 DMD 전체, 블록 영역, 또는 분할 영역 등)의 상이 겹치도록 DMD 구동 단위의 변조 타이밍 및 이동 스테이지(14)의 이동 속도를 제어하도록 해도 좋고, 1개의 DMD 구동 단위의 상의 각 묘화점의 사이에 다른 DMD 구동 단위의 상의 각 묘화점이 배치되도록 DMD 구동 단위의 변조 타이밍 및 이동 스테이지(14)의 이동 속도를 제어하도록 해도 좋다.
또한, 상기 실시형태에 있어서는 주사 방향에 있어서 하류측에 배치되는 DMD(34a)에 의해 노광을 행한 후에 상류측에 배치되는 DMD(34b)에 의해 노광을 행하도록 하는 것이 바람직하다.
또한, 각 DMD(34a, 34b)에 있어서, 주사 방향에 있어서 하류측에 배치되는 블록 영역에 의해 노광을 행한 후에 상류측에 배치되는 블록 영역에 의해 노광을 행하도록 하는 것이 바람직하다.
또한, 각 DMD(34a, 34b)에 있어서, 주사 방향에 있어서 하류측에 배치되는 블록 영역의 분할 영역에 의해 노광을 행한 후에 상류측에 배치되는 블록 영역의 분할 영역에 의해 노광을 행하도록 하는 것이 바람직하다.
또한, 각 DMD(34a, 34b)에 대응하는 각 묘화 영역의 묘화점이 주사 방향에 있어서 같은 간격을 두고 배치되도록 DMD마다 변조의 타이밍 및 주사 방향으로의 이동 속도를 제어하도록 하는 것이 바람직하다.
또한, 각 DMD(34a, 34b)에 있어서, 각 블록 영역에 대응하는 각 묘화 영역의 묘화점이 주사 방향에 있어서 같은 간격을 두고 배치되도록 블록 영역마다 변조의 타이밍 및 주사 방향으로의 이동 속도를 제어하는 것이 바람직하다.
또한, 각 DMD(34a, 34b)에 있어서, 각 블록 영역의 분할 영역에 대응하는 각 분할 묘화 영역의 묘화점이 주사 방향에 있어서 같은 간격을 두고 배치되도록 블록 영역마다 분할 영역의 변조의 타이밍 및 주사 방향으로의 이동 속도를 제어하는 것이 바람직하다.
또한, 각 DMD(34a, 34b)에 있어서, 각 블록 영역에 있어서의 분할 영역의 수(N)를 아래식을 충족시키는 크기로 하는 것이 바람직하다.
N = Tsr/Ttr
단, Ttr : 각 분할 영역의 변조 시간
Tsr : 각 분할 영역으로의 제어 신호의 전송 시간
또한, 상기 실시형태에 있어서는 DMD(34a)와 DMD(34b)를 주사 방향에 직교하는 방향에 있어서 같은 위치에 배치하도록 했지만, 도 20(A)에 도시된 바와 같이, DMD(34a)와 DMD(34b)를 주사 방향에 직교하는 방향으로 소정의 거리만 옮겨서 배치하도록 해도 좋다. 또한, 도 20(A)는 노광 헤드(30)의 상면도이며, 도 20(B)는 도 20(A)에 도시된 바와 같이 DMD(34a, 34b)를 배치한 경우에 있어서의 노광면상에 있어서의 노광 영역(40a), 노광 영역(40b)을 나타내는 도면이다. 또한, 복수의 DMD의 배치에 대해서는 상기에 도시된 배치에 한정되지 않고, 그 밖의 배치 방법으로 주사 방향 또는 주사 방향에 직교하는 방향으로 배열해도 좋다.
또한, 상기 실시형태에 있어서는 DMD(34a, 34b)를 주사 방향에 대해서 복수의 블록 영역(A∼D)으로 분할하도록 했지만, 주사 방향에 한정되지 않고, 예컨대, 주사 방향에 직교하는 방향으로 분할해서 복수의 블록 영역으로 해서 그 블록 영역마다 병렬 또는 독립으로 제어 신호를 전송하도록 해도 좋다. 그리고, 상기한 바와 같이 분할된 블록 영역을 더욱 주사 방향 또는 주사 방향에 직교하는 방향으로 분 할한 분할 영역으로 해서 상기 실시형태와 마찬가지로 하여 분할 영역마다 제어 신호의 전송 및 변조를 행하도록 해도 좋다. 상기한 바와 같이 구성함으로써 변조 속도를 고속화할 수 있다.
상기한 바와 같이, 1개의 노광 헤드(30)내에, 적어도 2개의 병렬 또는 독립 전송 단위(DMD, 블록 영역이나 분할 영역, 또는 이것들의 조합)를 형성함으로써 고속 변조를 실현할 수 있다.
또한, 상기 적어도 2개의 병렬 또는 독립 전송 단위마다 변조 타이밍을 제어함으로써 노광면상에 있어서의 소망의 도트 배치를 실현할 수 있다. 이 경우, 스테이지(14)의 이동 속도를 미리 소망의 이동 속도로 설정해 두고, 이 이동 속도에 대하여 병렬 또는 독립 전송 단위마다 변조 타이밍을 제어 또는 설정하도록 해도 좋고, 병렬 또는 독립 전송 단위마다 변조 타이밍을 미리 소망의 값으로 설정해 두고, 이것에 대하여 이동 스테이지(14)의 이동 속도를 제어하도록 해도 좋다.
또한, 예컨대, 블록 영역내에 분할 영역을 형성한 형태와 같이 상위의 병렬 또는 독립 전송 단위내에 하위의 병렬 또는 독립 전송 단위를 형성한 형태에 있어서는 하위의 병렬 또는 독립 전송 단위의 변조 타이밍을 직접적으로 제어 또는 설정해도 좋고, 상기의 병렬 또는 전송 단위의 제어를 통해서 하위의 병렬 또는 독립 전송 단위의 변조 타이밍을 제어 또는 설정하도록 해도 좋다.
또한, 상기 실시형태에서는 공간 광 변조 소자로서 DMD를 구비한 노광 장치에 대해서 설명했지만, 이러한 반사형 공간 광 변조 소자의 이외에 투과형 공간 광 변조 소자를 사용할 수도 있다.
또한, DMD는 직사각형에 한정되지 않고, 평행사변형이나 그 밖의 형상으로 마이크로 미러를 배열할 수도 있고, 이러한 DMD를 이용하도록 해도 좋다.
또한, 상기 실시형태에 있어서의 노광 대상인 감광 재료(12)는 프린트 기판이나 디스플레이용의 필터이어도 좋다. 또한, 감광 재료(12)의 형상은 시트 형상 또는 장척상의 것(플렉서블 기판 등)이어도 좋다.
또한, 상기 실시형태에서는 소위 플랫 베드 타입의 노광 장치를 예로 들었지만, 감광 재료가 감긴 드럼(drum)을 구비한 소위 아웃터 드럼(outer drum) 타입의 노광 장치로서도 좋다.
또한, 본 발명에 있어서의 묘화 방법 및 장치는 잉크젯 방식 등의 프린터에 있어서의 묘화 제어에도 적용할 수 있다. 예컨대, 잉크의 토출에 의한 묘화점을 본 발명과 같은 방법으로 제어할 수 있다. 즉, 본 발명에 있어서의 묘화 소자를 잉크의 토출 등에 의해 묘화점을 제공하는 소자로 대체하는 것을 고려할 수 있다.

Claims (20)

  1. 입사된 광을 전송된 묘화 정보에 따른 제어 신호에 따라 변조하는 묘화 소자가 2차원상으로 다수 배치된 공간 광 변조 소자와, 이 공간 광 변조 소자에 의해 변조된 광을 묘화면 상에 결상하는 광학계를 구비하는 묘화 헤드를 사용한 묘화 방법으로서; 상기 공간 광 변조 소자의 상기 묘화 소자에 상기 제어 신호를 전송해서 상기 변조를 행함과 아울러, 상기 묘화 헤드를 상기 묘화면에 대하여 소정의 주사 방향으로 상대적으로 이동시켜서 묘화를 행하는 묘화 방법에 있어서:
    상기 묘화 헤드는 복수의 상기 공간 광 변조 소자와, 이 복수의 공간 광 변조 소자에 의해 변조된 광을 상기 묘화면에 결상하는 공통의 광학계를 구비하며,
    상기 복수의 공간 광 변조 소자 및 공통의 광학계를 포함하는 묘화 헤드를 사용하여 상기 묘화를 행하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 묘화 헤드에 있어서의 상기 복수의 공간 광 변조 소자 및 상기 광학계는 상기 복수의 공간 광 변조 소자에 의해 변조된 광을 상기 광학계에 의해 상기 묘화면 상에 결상된 영역이 상기 주사 방향 및/또는 상기 주사 방향에 직교하는 방향으로 나란히 배치되도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 복수의 공간 광 변조 소자에 상기 제어 신호를 병렬 또는 독립적으로 전송하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 각 공간 광 변조 소자마다 상기 변조를 행함과 아울러, 이 공간 광 변조 소자마다 상기 변조의 타이밍 및/또는 상기 주사 방향으로의 상기 묘화 헤드의 이동 속도를 제어함으로써 상기 각 공간 광 변조 소자에 대응하는 상기 묘화면 상에 있어서의 각 묘화 영역의 배치를 제어하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  5. 제 1 항 ~ 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 공간 광 변조 소자를 각각 복수의 블록 영역으로 분할하고,
    이 각 공간 광 변조 소자에 있어서 복수의 블록 영역마다 상기 제어 신호를 병렬 또는 독립적으로 전송하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 각 공간 광 변조 소자에 있어서 상기 각 블록 영역을 복수의 분할 영역으로 더욱 분할하고,
    상기 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 상기 각 블록 영역에 있어서 상기 분할 영역마다 상기 제어 신호를 순차 전송함과 아울러, 이 전송 종료 시점에 순차적으로 상기 변조를 행하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  7. 제 1 항 ~ 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 공간 광 변조 소자를 각각 상기 주사 방향에 대해서 복수의 블록 영역으로 분할하고,
    이 각 공간 광 변조 소자에 있어서 복수의 블록 영역마다 상기 제어 신호를 병렬 또는 독립적으로 전송하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 각 공간 광 변조 소자에 있어서 상기 블록 영역마다 상기 변조를 행함과 아울러, 이 블록 영역마다 상기 변조의 타이밍 및/또는 상기 주사 방향으로의 묘화 헤드의 이동 속도를 제어함으로써 상기 각 블록 영역에 대응하는 상기 묘화면 상에 있어서의 각 블록 묘화 영역의 배치를 제어하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 상기 각 블록 영역을 상기 주사 방향에 대해서 복수의 분할 영역으로 더욱 분할하고,
    상기 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 상기 각 블록 영역에 있어서 상기 분할 영역마다 상기 제어 신호를 순차 전송함과 아울러, 이 전송 종료 시점에 순차적으로 상기 변조를 행하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 각 공간 광 변조 소자에 있어서 상기 각 블록 영역에 있어서의 상기 분할 영역의 상기 변조의 타이밍 및/또는 상기 주사 방향으로의 묘화 헤드의 이동 속도를 제어함으로써 상기 분할 영역에 대응하는 상기 묘화면 상에 있어서의 각 분할 묘화 영역의 배치를 제어하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  11. 입사된 광을 전송된 묘화 정보에 따른 제어 신호에 따라 변조하는 묘화 소자가 2차원상으로 다수 배치된 공간 광 변조 소자와, 이 공간 광 변조 소자에 의해 변조된 광을 묘화면 상에 결상하는 광학계를 구비하는 묘화 헤드와,
    이 묘화 헤드를 묘화면에 대하여 소정의 주사 방향으로 상대적으로 이동시키는 이동 수단과,
    상기 공간 광 변조 소자의 상기 묘화 소자에 상기 제어 신호를 전송해서 상기 변조를 행하게 함과 아울러, 상기 이동 수단의 상기 주사 방향으로의 묘화 헤드의 이동 속도를 제어하는 제어 수단을 구비한 묘화 장치에 있어서:
    상기 묘화 헤드는 복수의 상기 공간 광 변조 소자와, 이 복수의 공간 광 변조 소자에 의해 변조된 광을 상기 묘화면에 결상하는 공통의 광학계를 구비하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 묘화 헤드에 있어서의 상기 복수의 공간 광 변조 소자 및 상기 광학계는 상기 복수의 공간 광 변조 소자에 의해 변조된 광을 상기 광학계에 의해 상기 묘화면 상에 결상된 영역이 상기 주사 방향 및/또는 상기 주사 방향에 직교하는 방향으로 나란히 배치되도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  13. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,
    상기 제어 수단은 상기 복수의 공간 광 변조 소자마다 상기 제어 신호를 병렬 또는 독립적으로 전송함과 아울러, 상기 각 공간 광 변조 소자마다 형성된 복수의 제어 신호 전송부를 구비하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 제어 수단은 상기 각 공간 광 변조 소자마다 상기 변조를 행함과 아울러, 이 공간 광 변조 소자마다 상기 변조의 타이밍 및/또는 상기 주사 방향으로의 묘화 헤드의 이동 속도를 제어함으로써 상기 각 공간 광 변조 소자에 대응하는 상기 묘화면 상에 있어서의 각 묘화 영역의 배치를 제어하도록 구성된 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
  15. 제 11 항 ~ 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 각 공간 광 변조 소자가 복수의 블록 영역으로 분할되어 있고,
    상기 제어 수단은 상기 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 상기 각 블록 영역 에 상기 제어 신호를 병렬 또는 독립적으로 전송함과 아울러, 상기 각 블록 영역마다 형성된 복수의 블록 제어 신호 전송부를 구비하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 상기 각 블록 영역이 복수의 분할 영역으로 더욱 분할되어 있고,
    상기 제어 수단은 상기 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 상기 각 블록 영역에 있어서 상기 분할 영역마다 상기 제어 신호를 순차 전송함과 아울러, 이 전송 종료 시점에 순차적으로 상기 변조를 행하게 하도록 구성된 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  17. 제 11 항 ~ 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 각 공간 광 변조 소자가 상기 주사 방향에 대해서 복수의 블록 영역으로 분할되어 있고,
    상기 제어 수단은 상기 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 상기 각 블록 영역에 상기 제어 신호를 병렬 또는 독립적으로 전송함과 아울러, 상기 각 블록 영역마다 형성된 복수의 블록 제어 신호 전송부를 구비하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 제어 수단은 상기 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 상기 블록 영역마다 상기 변조를 행하게 함과 아울러, 이 블록 영역마다 상기 변조의 타이밍 및/또는 상기 주사 방향으로의 묘화 헤드의 이동 속도를 제어함으로써 상기 각 블록 영역에 대응하는 상기 묘화면 상에 있어서의 각 블록 묘화 영역의 배치를 제어하도록 구성된 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  19. 제 17 항에 있어서,
    상기 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 상기 각 블록 영역은 상기 주사 방향에 대해서 복수의 분할 영역으로 더욱 분할되어 있고,
    상기 제어 수단은 상기 각 공간 광 변조 소자에 있어서의 상기 각 블록 영역에 있어서 상기 분할 영역마다 상기 제어 신호를 순차 전송함과 아울러, 이 전송 종료 시점에 순차적으로 상기 변조를 행하도록 구성된 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 제어 수단은 상기 각 공간 광 변조 소자에 있어서 상기 각 블록 영역에 있어서의 상기 분할 영역의 상기 변조의 타이밍 및/또는 상기 주사 방향으로의 묘화 헤드의 이동 속도를 제어함으로써 상기 분할 영역에 대응하는 상기 묘화면 상에 있어서의 각 분할 묘화 영역의 배치를 제어하도록 구성된 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI401538B (zh) 2007-03-28 2013-07-11 Orc Mfg Co Ltd Exposure drawing device
JP4880511B2 (ja) 2007-03-28 2012-02-22 株式会社オーク製作所 露光描画装置
JP4885029B2 (ja) 2007-03-28 2012-02-29 株式会社オーク製作所 露光描画装置
JP5090780B2 (ja) 2007-04-26 2012-12-05 株式会社オーク製作所 露光描画装置
JP5090803B2 (ja) 2007-06-29 2012-12-05 株式会社オーク製作所 描画装置
JP5416867B2 (ja) * 2009-12-28 2014-02-12 株式会社日立ハイテクノロジーズ 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000131772A (ja) * 1998-10-29 2000-05-12 Noritsu Koki Co Ltd 焼付装置
SE516914C2 (sv) * 1999-09-09 2002-03-19 Micronic Laser Systems Ab Metoder och rastrerare för högpresterande mönstergenerering
US6330018B1 (en) * 1999-12-22 2001-12-11 Eastman Kodak Company Method and apparatus for printing high resolution images using reflective LCD modulators
JP2003043592A (ja) * 2001-08-02 2003-02-13 Noritsu Koki Co Ltd 露光装置、写真処理装置、ならびに露光方法
JP4258013B2 (ja) * 2001-08-08 2009-04-30 株式会社オーク製作所 多重露光描画装置および多重露光描画方法
JP4114184B2 (ja) * 2001-12-28 2008-07-09 株式会社オーク製作所 多重露光描画装置および多重露光描画方法
KR101087862B1 (ko) * 2002-08-24 2011-11-30 매스크리스 리소그래피 인코퍼레이티드 연속적인 직접-기록 광 리쏘그래피 장치 및 방법
JP4315694B2 (ja) * 2003-01-31 2009-08-19 富士フイルム株式会社 描画ヘッドユニット、描画装置及び描画方法
JP2005055881A (ja) * 2003-07-22 2005-03-03 Fuji Photo Film Co Ltd 描画方法および描画装置

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