CN102841507B - 激光直写式纳米周期性结构图案制造设备 - Google Patents

Abstract

本发明关于一种激光直写式纳米周期性结构图案制造设备，设有一平台组、一测量反馈组及一激光直写头组，该平台组设有一底座及一混合式移动平台，该测量反馈组与平台组相结合且设有一激光干涉仪、一反射装置及一信号接收装置，该激光直写头组设有一激光直写头、一激光直写头控制介面装置及一对位介面装置，该对位介面装置与测量反馈组及激光直写头控制介面装置相电性连接，提供一可产生任意图形及晶格排列的纳米孔洞、突破光学绕射极限缩小记錄点、提高加工速度、精度及加工范围且成本低的结构图案制造设备。

Description

激光直写式纳米周期性结构图案制造设备

技术领域

本发明涉及一种纳米结构图案制程装置，尤指一种激光直写式纳米周期性结构图案制造设备。

背景技术

目前有关纳米结构图案的既有微影加工技术包含有黄光微影、电子束微影、原子力显微术、X-ray微影、近场光束微影、激光干涉微影、传统激光直写曝光微影等技术，然而，前述既有技术的加工速度慢且大多需要庞大且昂贵的设备或装置，因此，不易普及应用且工作范围小无法量产加工或者受光罩限制……等等，且既有形成纳米结构图案的加工技术无法产生非重复性的图形，再则，无论是何种制程方式都有影响加工精度的因素，例如：平台的设计、精密定位、光学定位系统、对位系统技术的建构、温度控制等的相关技术，其中，上述传统激光直写曝光微影机台的激光直写光机系统的曝光激光光束使用高成本、大型的深紫外光(DUV)或超深紫外光(EUV)气体或固态激光作为光源，才可有机会达到纳米级图案加工，另外，传统激光直写设备的光学元件也未能有效模块化，导致激光光路需经常性维护、操作调整不易且制程可靠度低，再则因上述传统设计造成整体设备庞大、价格昂贵也为其缺点；

既有激光直写式设备及目前的微影设备于使用时，大多需设置于一良好的精密定位平台上，方可在制程中加工出精密的成品，因此，精密定位平台的技术演进也代表制程技术的里程碑，目前既有的精密定位平台大至可分为长行程定位平台及多轴短行程定位平台等类型，其中长行程定位平台的驱动装置主要以伺服马达搭配滚珠螺杆、线性马达及音圈马达为主流，而其导轨则多为线性滑轨及空气导轨，既有长行程定位平台所使用的反馈测量系统大都使用光学尺与光学读头进行测量，其中当光学尺超过1公尺(m)时会累积相当大的加工误差，且会造成测量结果有重复性佳但是不准确的现象，因此现今的长行程定位平台的精准度很难达到纳米等级(100nm以下)，而多轴短行程定位平台方面则大多利用挠性结构来架构所需的平台，其致动器最常以压电材料进行使用，既有多轴短行程定位平台如果要达到高精度可搭配电容式探头，其精准度可达几个纳米，然而，大部分多轴短行程定位平台的位移量大多为几百个微米，位移量小不敷精密加工使用，因此要加工出纳米周期性结构、提高加工速度、精度及加工范围、加工任意图形的结构及晶格排列的纳米孔洞，是目前业界亟于解决的问题。

发明内容

因此，本发明人有鉴于既有技术对于纳米周期性结构图案，无法同时达到高速高精度加工、大范围加工、突破光学绕射极限缩小记录点、产生任意图形及晶格排列的纳米孔洞且设备成本太高等的缺失与不足，特经过不断的研究与试验，终于发展出一种能改进既有缺失的本发明。

本发明的目的在于提供一种激光直写式纳米周期性结构图案制造设备，其通过长行程移动平台与微动压电平台的混合式移动平台，以提供一大范围的纳米级定位效果，并搭配一激光直写头，提供一纳米级周期性结构图案刻写加工，且混合式移动平台的反馈系统使用一激光干涉仪，并通过一对位介面装置进行激光干涉仪测量位置比对，以形成所要刻写的图案，可有效地产生任意图形及晶格排列的纳米孔洞、突破光学绕射极限缩小记录点、提高加工速度、精度及加工范围且成本低的目的。

为达到上述目的，本发明提供一种激光直写式纳米周期性结构图案制造设备，其包含有一平台组、一测量反馈组及一激光直写头组，其中：

该平台组设有一底座及一混合式移动平台，该底座于顶面横向设有一结合架，该混合式移动平台设有一长行程移动平台及一微动压电平台，该长行程移动平台可移动地设于底座顶面而位于该结合架下方处且设有一基准座及一驱动组，该驱动组设于该基准座上且设有复数个设于该基准座顶面的线性马达，该微动压电平台与该长行程移动平台相结合且于顶面设有一承载台、一微动调整组、复数个交叉滚子导轨轴承组及一加工平台，该承载台与该驱动组的线性马达的结合板相固设结合，该微动调整组与承载台相结合且设有一挠性座及复数个压电致动器，该挠性座设于承载台顶面上，而各压电致动器设于承载台顶面且分别与该挠性座相贴靠，各交叉滚子导轨轴承组分别设于承载台上，该加工平台与该挠性座及各交叉滚子导轨轴承组相结合而位于承载台上方，用于补偿长行程移动平台移动时所产生的位移、直度及角度误差；

该测量反馈组与该平台组相结合且设有一激光干涉仪、一反射装置及一信号接收装置，该激光干涉仪固设于该底座的顶面并设有一激光光束、一第一分光镜、一第二分光镜、一90度反射镜、一第一平面干涉镜、一第二平面干涉镜及一第三平面干涉镜，其中两分光镜间隔设于底座顶面上且位于激光光束射出的路径上，该90度反射镜设于底座顶面上且与两分光镜呈一直线配置，该第一平面干涉镜用来接收第一分光镜所反射的激光光束，而第二平面干涉镜用来接收第二分光镜所反射的激光光束，而该第三平面干涉镜用来接收经90度反射镜所反射的激光光束，该反射装置与该平台组的加工平台相结合，用来反射该激光干涉仪射出的激光光束并设有一第一平面反射镜及一第二平面反射镜，两平面反射镜分别设于该微动压电平台的加工平台上且呈一直角配置的空间关系，用来反射经过各平面干涉镜反射出的激光光束，该第一平面反射镜用来反射第一平面干涉镜与第二平面干涉镜的激光光束，而第二平面反射镜用来反射第三平面干涉镜的激光光束，该信号接收装置固设于底座上，用来接收经该反射装置反射的激光光束并设有一第一接收器、一第二接收器及一第三接收器，该第一接收器用来接收第一平面干涉镜所反射的激光光束，该第二接收器用来接收第二平面干涉镜所反射的激光光束，而该第三接收器用来接收第三平面干涉镜所反射的激光光束；以及

该激光直写头组设于该平台组上且与该测量反馈组相电性连接，该激光直写头组有一激光直写头、一激光直写头控制介面装置及一对位介面装置，该激光直写头架设于该平台组的结合架上而位于该加工平台的上方处，该激光直写头控制介面装置固设于该结合架上且与该激光直写头相电性连接，通过该激光直写头控制介面装置内部的硬体描述语言对于该激光直写头进行刻写功率控制及自动对焦伺服控制，而该对位介面装置固设于该结合架上且位于该激光直写头控制介面装置上方，该对位介面装置与该测量反馈组及该激光直写头控制介面装置相电性连接，该对位介面装置可接收该测量反馈组所测量到平台组的位移信号，通过该对位介面装置内建的可编程数字集成电路晶片，可经由硬体描述语言快速进行预定要刻写位置与该测量反馈组所测量的实际位移信号的比对，控制激光直写头刻写时机。

进一步，在各线性马达的内表面的上、下端面设有复数个定子形成一磁力导轨且于各定子间设有一滑动地设于该磁力导轨内且朝外延伸有一结合板的动子。

凭借上述的技术手段，本发明激光直写式纳米周期性结构图案制造设备至少具有以下的优点及功效：

一、长行程作动：本发明激光直写式纳米周期性结构图案制造设备，主要通过H形的长行程移动平台利用线性马达做为驱动装置，提供一能大范围高速移动、低污染及可承载重负荷的效果，由于长行程移动平台其X与Y移动轴均再同一平面上，进而降低机台高度及减小机台移动时所产生的直度及角度误差，因此该结构图案制程装置能进行大范围的刻写加工。

二、纳米微调作动：本发明激光直写式纳米周期性结构图案制造设备所提供的微动压电平台，凭借压电致动器具有可控制性、高频响应特性、电能与机械能之间的高转换率、微小化及不易发热的特点，因此，具有较高位移分辨率及高定位精度和重复精度，进而提供一纳米等级的位移与角度调整，补偿长行程移动平台移动时所产生的位移、直度及角度误差。

三、反馈效果佳：本发明激光直写式纳米周期性结构图案制造设备所提供的测量反馈组，其最大测量范围为X：2公尺(m)、Y：2公尺(m)；θz：300秒，而测量解析度：直线线位移解析度为1纳米(nm)，角位移解析度为0.01秒，不仅可提供一长距离测量范围(数公尺等级)、高解析度(0.04～10nm)、高稳定性、反应快速(大于1MHz)与排除环境因素干扰等的特性，进而可同时测量X、Y与θz的变化并即时控制补偿使其精度达到纳米等级。

四、刻写结构图案速度快且精度高：本发明激光直写式纳米周期性结构制造设备所提供的平台组，因长行程移动平台可使用线性马达搭配空气导轨其移动时摩擦阻力小，移动速度快，且利用该微动压电平台补正该长行程移动平台移动时所产生的位移、直度及角度误差，而该测量反馈组的解析度高且反应快速，并搭配该激光直写头组，快速且有效地比对测量的位移信号及自动对焦功能，使该平台组的移动速度快且定位精度高，进而能达到快速且精确刻写出纳米结构图案的效果。

五、可有效产生任意结构图形：本发明激光直写式纳米周期性结构制造设备的对位介面装置，其内部设有一可编程数字集成电路晶片，其内部时序至少125MHZ，可快速进行预定要刻写位置与测量反馈组所测量的实际位移信号的比对，因此，只需在该对位介面装置设定预定刻写位置，即可控制该激光直写头的刻写时机，因此能在加工件上快速且高精度的刻写晶格排列的纳米孔洞或任意的结构图案。

六、刻写更小的孔洞：本发明激光直写式纳米周期性结构制造设备的激光直写头，凭借激光光束聚焦点的能量呈现高斯分布的特性，搭配一热写式光阻材料，利用高温区与低温区产生相变化的差异，得到不同的蚀刻速度，如此一来，即便在激光聚焦光点受限于绕射极限的情况下，所蚀刻出来的孔洞仍将小于绕射极限，因此，激光直写微影方法不但可以提供更小的刻写图案尺寸，在母板上显影曝光出纳米孔洞及纳米线，而且相对所花费的成本也相当低廉。

附图说明

图1是本发明激光直写式纳米周期性结构图案制造设备的立体外观示意图；

图2是本发明激光直写式纳米周期性结构图案制造设备的外观侧视示意图；

图3是本发明平台组的局部放大立体外观示意图；

图4是本发明平台组分离加工平台的局部放大立体外观示意图；

图5是本发明平台组与测量反馈组的放大立体外观示意图；

图6是本发明激光直写头的放大立体外观示意图。

附图标记说明：10平台组；11底座；111结合架；12长行程移动平台；13微动压电平台；14基准座；15驱动组；151线性马达；152定子；153动子；154结合板；16承载台；17微动调整组；171挠性座；172压电致动器；18交叉滚子导轨轴承组；19加工平台；20测量反馈组；21激光干涉仪；211激光光束；212第一分光镜；213第二分光镜；21490度反射镜；215第一平面干涉镜；216第二平面干涉镜；217第三平面干涉镜；22反射装置；221第一平面反射镜；222第二平面反射镜；23信号接收装置；231第一接收器；232第二接收器；233第三接收器；30激光直写头组；31激光直写头；32激光直写头控制介面装置；33对位介面装置。

具体实施方式

为能详细了解本发明的技术特征及实用功效，并可依照说明书的内容来实施，兹进一步以图式(如图1至4所示)所示的较佳实施例，详细说明如后：

本发明提供一激光直写式纳米周期性结构图案制造设备，其包含有一平台组10、一测量反馈组20及一激光直写头组30，其中：

该平台组10设有一底座11及一混合式移动平台，其中该底座11于顶面横向设有一结合架111，而该混合式移动平台设有一长行程移动平台12及一微动压电平台13，该长行程移动平台12可移动地设于底座11顶面而位于该结合架111下方处且设有一基准座14及一驱动组15，该基准座14是一略呈H形的结构，较佳地，该基准座14由一花岗岩块体所构成，由于花岗岩材料稳定，热膨胀系数低，因此00等级的研磨平面精度可达2μm/m；

该驱动组15设于该基准座14上且设有复数个设于该基准座14顶面的线性马达151，较佳地，在各线性马达151的内表面的上、下端面设有复数个定子152而形成一磁力导轨且于各定子152间设有一滑动地设于该磁力导轨内且朝外延伸有一结合板154的动子153，其中利用线性马达151为直线传动方式，可消除中间环节带来的各种定位误差，且各磁力导轨导向的精度可达到0.4μm/200mm的直线导向精度，因此，其定位精度高且反应速度快，且该动子153与各定子152之间始终保持一定的空气间隙而不接触，由磁力系统支撑，可消除定子152与动子153间的接触摩擦阻力，大大提高系统灵敏度与快速性，因为无接触传递、几乎无机械磨差损耗、工作安全可靠且寿命长，且利用线性马达151驱动的磁力导轨来精密导向，可避免仪器高速移动时产生惯性倾斜的趋势，所以，利用线性马达直线151的直接驱动方式可使系统本身结构大为简化且重量与体积也可大大的降低；

该微动压电平台13与该长行程移动平台12相结合且设有一承载台16、一微动调整组17、复数个交叉滚子导轨轴承组18及一加工平台19，其中该承载台16与该驱动组15的线性马达151的结合板154相固设结合，使该承载台16可通过该长行程移动平台12而相对底座11产生X方向与Y方向的移动，该微动调整组17与承载台16相结合且设有一挠性座171及复数个压电致动器172，其中该挠性座171设于该承载台16顶面上，而各压电致动器172设于该承载台16顶面且分别与该挠性座171相贴靠，各交叉滚子导轨轴承组18分别设于该承载台16上，该加工平台19与该挠性座171及各交叉滚子导轨轴承组18相结合而位于该承载台16上方；

该微动压电平台13于作动时主要通过两压电致动器172作为动力驱动源，对于该挠性座171进行同时推动或一推一拉的作动使其产生弹性变形，进而产生微量的X方向位移与微量的θz角度变化，让微动压电平台13具有双轴(X、θz)微调整的功效，并且利用的各交叉滚子导轨轴承组18作为辅助支撑加工平台19重量用，由于各交叉滚子导轨轴承组18的X轴与Y轴垂直相交以及有一旋转轴的结构特性(其作动方式属于一现有技术，故不阐述)，当挠性座171产生微量的X方向位移与微量的θz角度变化时，且该加工平台19与该挠性座171及各交叉滚子导轨轴承组18相结合，使得该加工平台19能精确的产生X方向位移与θz角度变化，且能在高负载下仍可保持良好的精度，因此，通过挠性座171具有材料变形的特性设计一体积小的微动压电平台13，并配合压电致动器172具有体积小、反应速度快、解析度高及机电转换效率高的特性，达到纳米级微动的能力；

请配合参看如图5所示，该测量反馈组20与该平台组10相结合且设有一激光干涉仪21、一反射装置22及一信号接收装置23，其中该激光干涉仪21固设于底座11的顶面且设有一激光光束211、一第一分光镜212、一第二分光镜213、一90度反射镜214、一第一平面干涉镜215、一第二平面干涉镜216及一第三平面干涉镜217，其中两分光镜212、213间隔设于底座11顶面上且位于该激光光束211射出的路径上，较佳地，该第一分光镜212是一33%与67%的分光镜，而第二分光镜213是一50%与50%的分光镜；

该90度反射镜214设于底座11顶面上且与两分光镜212、213呈一直线配置，而各平面干涉镜215、216、217设于该底座11顶面上用来接收经各分光镜212、213分光或90度反射镜214反射的激光光束，较佳地，该第一平面干涉镜215用来接收第一分光镜212所反射的激光光束，而第二平面干涉镜216用来接收第二分光镜213所反射的激光光束，而该第三平面干涉镜217用来接收经90度反射镜214所反射的激光光束；

该反射装置22与该平台组10的加工平台19相结合且设有一第一平面反射镜221及一第二平面反射镜222，两平面反射镜221、222分别设于该微动压电平台13的加工平台19上且呈一直角配置的空间关系，用来反射经过各平面干涉镜215、216、217反射出的激光光束，较佳地，该第一平面反射镜221用来反射第一平面干涉镜215与第二平面干涉镜216的激光光束，而第二平面反射镜222用来反射第三平面干涉镜217的激光光束；

该信号接收装置23固设于底座11上且设有一第一接收器231、一第二接收器232及一第三接收器233，各接收器231、232、233用来接收各平面干涉镜215、216、217经平面反射镜221、222反射的激光光束，较佳地，该第一接收器231用来接收第一平面干涉镜215所反射的激光光束，以测量出该加工平台19的X轴的位移量，该第二接收器232用来接收第二平面干涉镜216所反射的激光光束，以测量出该加工平台19的X轴的位移量，其中凭借第一接收器231与第二接收器232个别测量出的X轴位移量的差值计算而得该加工平台19旋转角度误差量(θz)，该第三接收器233用来接收第三平面干涉镜217所反射的激光光束，以测量出加工平台19的Y轴的位移量；

该测量反馈组20于操作时，该激光干涉仪21的激光光束211经过该第一分光镜212后，其激光光束的强度被分成一33%的激光光束(L1)与一67%的激光光束(L2)，其中反射的33%激光光束(L1)直接射入第一平面干涉镜215上，该激光光线直接穿透第一平面干涉镜215并打在一第一平面反射镜221上再反射回到第一平面干涉镜215由第一接收器231接收，进而测量出该加工平台19的X轴的位移量，而另一道穿通过第一分光镜212的激光光又经过该第二分光镜213而分成两道激光光源(L2与L3)，其中一道激光光源(L2)直接穿通过该第二分光镜213后直接打在该90度反射镜214并射入该第三平面干涉镜217上，其激光光束经由该第三平面干涉镜217反射打在第二平面反射镜222上并反射回到该第三平面干涉镜217，其反射回来的激光光束由该第三接收器233接收以得知Y轴的位移量，同理经过该第二分光镜213的另一道激光光源(L3)，被第二分光镜213直接反射射入该第二平面干涉镜216上，其激光光源直接穿透第二平面干涉镜216打在该第一平面反射221镜上并反射回到第二平面干涉镜216，其反射回来的激光光束由该第二接收器232接收以得知X轴的位移量，故凭借第一接收器231与第二接收器232可个别测量出的X轴的位移量的差值计算而得该加工平台19的旋转角度误差量(θz)；以及

该激光直写头组30设于该平台组10上且与该测量反馈组20相电性连接，该激光直写头组30有一激光直写头31、一激光直写头控制介面装置32及一对位介面装置33，其中该激光直写头31架设于该平台组10的结合架111上而位于该加工平台19的上方处，可将一加工件放置于该平台组10的加工平台19上，通过该激光直写头31于该加工件进行纳米图案结构的刻写，该激光直写头控制介面装置32固设于该结合架111上且与该激光直写头31相电性连接，通过该激光直写头控制介面装置32内部的硬体描述语言对于该激光直写头31进行刻写功率控制及自动对焦伺服控制，而该对位介面装置33固设于该结合架111上且位于该激光直写头控制介面装置32上方，该对位介面装置33与该测量反馈组20及该激光直写头控制介面装置32相电性连接，该对位介面装置33可接收该测量反馈组20所测量到平台组10的位移信号，通过该对位介面装置33内建的可编程数字集成电路晶片，可经由硬体描述语言快速进行预定要刻写位置与该测量反馈组20所测量的实际位移信号的比对，因此在对该位介面装置32设定预定的刻写位置的方式，即可控制该激光直写头31的刻写时机，即能在该加工件上刻写出有晶格排列的纳米孔洞或任意的纳米结构图案。

本发明的激光直写式纳米周期性结构图案制造设备，其作动原理主要采用两段式的定位控制来达到长行程与纳米级的定位操作，其中第一阶段利用H形长行程移动平台12来进行长距离位移，其位移的最大范围可达200公厘(mm)×200公厘(mm)，而第二阶段则是利用微动压电平台13进行微小位移的补偿，其定位精度可以达到纳米等级，而该测量反馈组20由于激光光源在经过一段距离的后仍会维持细小的光束，不会像一般光源会散开，同时具有极高的亮度、稳定性与精确性良好的波长，再加上干涉现象容易观测，因此，该测量反馈组20可准确地对于混合式移动平台进行X轴、Y轴与偏摆角度误差θz的定位误差测量与反馈信号控制补偿，再则，通过该激光直写头组30的对位介面装置33可快速进行预定要刻写位置与该测量反馈组20所测量实际位移信号的比对，即可控制该激光直写头31的刻写时机，因此，能在加工件上快速、高精度、且大范围的刻录出晶格排列的纳米孔洞或任意的结构图案，因此，凭借本发明激光直写式纳米周期性结构制造设备，不仅可有效降低成本以提升竞争力，且可通过模块化的组合方式，有效减少未来修护上和生产上的时间，进而提供一方便组装、成本低、刻写结构图案速度快、精度高且范围大、可有效产生任意结构图形及晶格排列的纳米孔洞且刻写更小孔洞的装置。

以上说明对本发明而言只是说明性的，而非限制性的，本领域普通技术人员理解，在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下，可作出许多修改、变化或等效，但都将落入本发明的保护范围之内。

Claims (2)

1.一种激光直写式纳米周期性结构图案制造设备，其特征在于：包含有一平台组、一测量反馈组及一激光直写头组，其中：

该平台组设有一底座及一混合式移动平台，该底座于顶面横向设有一结合架，该混合式移动平台设有一长行程移动平台及一微动压电平台，该长行程移动平台可移动地设于底座顶面而位于该结合架下方处且设有一基准座及一驱动组，该驱动组设于该基准座上且设有复数个设于该基准座顶面的线性马达，该微动压电平台与该长行程移动平台相结合且在顶面设有一承载台、一微动调整组、复数个交叉滚子导轨轴承组及一加工平台，该承载台与该驱动组的线性马达的结合板相固设结合，该微动调整组与承载台相结合且设有一挠性座及复数个压电致动器，该挠性座设于承载台顶面上，而各压电致动器设于承载台顶面且分别与该挠性座相贴靠，各交叉滚子导轨轴承组分别设于承载台上，该加工平台与该挠性座及各交叉滚子导轨轴承组相结合而位于承载台上方；

该测量反馈组与该平台组相结合且设有一激光干涉仪、一反射装置及一信号接收装置，该激光干涉仪固设于该底座的顶面并设有一激光光束、一第一分光镜、一第二分光镜、一90度反射镜、一第一平面干涉镜、一第二平面干涉镜及一第三平面干涉镜，其中两分光镜间隔设于底座顶面上且位于激光光束射出的路径上，该90度反射镜设于底座顶面上且与两分光镜呈一直线配置，该第一平面干涉镜用来接收第一分光镜所反射的激光光束，而第二平面干涉镜用来接收第二分光镜所反射的激光光束，而该第三平面干涉镜用来接收经90度反射镜所反射的激光光束，该反射装置与该平台组的加工平台相结合，用来反射该激光干涉仪反射出的激光光束并设有一第一平面反射镜及一第二平面反射镜，两平面反射镜分别设于该微动压电平台的加工平台上且呈一直角配置的空间关系，用来反射经过各平面干涉镜反射出的激光光束，该第一平面反射镜用来反射第一平面干涉镜与第二平面干涉镜的激光光束，而第二平面反射镜用来反射第三平面干涉镜的激光光束，该信号接收装置固设于底座上，用来接收经该反射装置反射的激光光束并设有一第一接收器、一第二接收器及一第三接收器，该第一接收器用来接收第一平面干涉镜所反射的激光光束，该第二接收器用来接收第二平面干涉镜所反射的激光光束，而该第三接收器用来接收第三平面干涉镜所反射的激光光束；以及

该激光直写头组设于该平台组上且与该测量反馈组相电性连接，该激光直写头组有一激光直写头、一激光直写头控制介面装置及一对位介面装置，该激光直写头架设于该平台组的结合架上而位于该加工平台的上方处，该激光直写头控制介面装置固设于该结合架上且与该激光直写头相电性连接，通过该激光直写头控制介面装置内部的硬体描述语言对于该激光直写头进行刻写功率控制及自动对焦伺服控制，而该对位介面装置固设于该结合架上且位于该激光直写头控制介面装置上方，该对位介面装置与该测量反馈组及该激光直写头控制介面装置相电性连接，该对位介面装置接收该测量反馈组所测量到平台组的位移信号，通过该对位介面装置内建的可编程数字集成电路晶片，经由硬体描述语言快速进行预定要刻录位置与该测量反馈组所测量的实际位移信号的比对。

2.根据权利要求1所述的激光直写式纳米周期性结构图案制造设备，其特征在于：在各线性马达的内表面的上、下端面设有复数个定子形成一磁力导轨且于各定子间设有一滑动地设于该磁力导轨内且朝外延伸有一结合板的动子。

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