JP5449263B2 - 製造工程装置 - Google Patents
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Description
11 ベース
12 長ストローク移動ステージ
13 圧電被駆動マイクロ・ステージ
14 基準セット
15 駆動装置
16 負荷フレーム
17 微調整可能装置
18 交差ローラ軸受装置
19 作業プラットフォーム
20 測定フィードバック組立体
21 レーザ干渉計
22 反射装置
23 信号受信装置
30 レーザ作業組立体
31 レーザ直接書き込みヘッド
32 制御インタフェース装置
33 位置決めインタフェース装置
Claims (3)
- 1) 以下の構成要素 i), ii)を具備するプラットフォーム組立体と、
i) 頂部と、同頂部上に据え付けられ、頂部と底部とを有する据え付けフレームとを備えるベースと、
ii) 前記据え付けフレームの下方において前記ベースの頂部上に据え付けられ、以下の構成要素a),b)を具備する複合移動プラットフォーム、
a) 前記据え付けフレームの下方において前記ベースの頂部上に据え付けられ、H形状にされ、かつ、前記ベースの頂部上に堅固に据え付けられた基準セットと、該基準セット上に据え付けられた駆動装置であって前記基準セット上に据え付けられた多数のリニア・モータを有する駆動装置とを備える長ストローク移動ステージと、
b) 前記長ストローク移動ステージに接続される圧電被駆動マイクロ・ステージ、
2) 前記プラットフォーム組立体に堅固に据え付けられ、以下の構成要素 i), ii),iii)を具備する測定フィードバック組立体と、
i) レーザ・ビームを放射するために前記ベースの頂部に堅固に据え付けられたレーザ干渉計と、
ii) 前記作業プラットフォームの頂面に据え付けられた反射装置と、
iii) 前記ベースの頂部に堅固に据え付けられた信号受信装置であって前記反射装置により反射される前記レーザ・ビームを受け取る信号受信装置、及び
3) 前記プラットフォーム組立体上に据え付けられ、前記測定フィードバック組立体に電気的に接続され、以下の構成要素i),ii) , iii)を具備するレーザ作業組立体と、
i) 前記作業プラットフォームの上方において前記ベースの据え付けフレーム上に堅固に据え付けられたレーザ直接書き込みヘッドと、
ii) 前記据え付けフレームの底部に堅固に据え付けられ、前記レーザ直接書き込みヘッドに電気的に接続され、前記レーザ直接書き込みヘッドの作業電力と自動焦点制御を管理する制御インタフェース装置と、
iii) 前記制御インタフェース装置の上方において前記据え付けフレームの頂部上に据え付けられ、前記測定フィードバック組立体と前記レーザ直接書き込みヘッドとに電気的に接続され、前記レーザ直接書き込みヘッドの所望位置と前記測定フィードバック組立体により検出された移動信号とを比較するために前記測定フィードバック組立体により検出された前記プラットフォーム組立体の移動信号を受け取る位置決めインタフェース装置、
を具備する製造工程装置であって、
前記各リニア・モータは以下の構成要素a)〜e)を具備し、
a) 上方側部と、
b) 下方側部と、
c) 磁気先導レールを形成するために間隔をおいて前記リニア・モータの前記側部に堅固に据え付けられた多数のステータと、
d) 前記リニア・モータの前記側部に据え付けられた前記ステータ間の前記リニア・モータの磁気先導レールに移動可能に据え付けられた、前記リニア・モータから伸びる外端部を有するアクティブセル、
e) 前記アクティブセルの外端部に接続された、前記アクティブセルに相対する接続側部を有する接続ボード、さらに、
前記圧電被駆動マイクロ・ステージは以下の構成要素a)〜d)を具備する、
a) 前記駆動装置の接続ボードに接続された、頂部を有する負荷フレームと、
b) 前記負荷フレームの頂部に据え付けられた微調整可能装置であって、前記負荷フレームの頂部に据え付けられ周縁を有する可撓性台座と、前記負荷フレームの頂部に堅固に据え付けられ,前記可撓性台座の周縁に隣接する多数の圧電アクチュエータとを有する微調整可能装置と、
c) 前記微調整可能装置のそばにおいて、前記負荷フレームに対して2方向に沿って移動可能に、前記負荷フレームの頂部に堅固に据え付けられ、それぞれ頂端部を有する多数の交差ローラ軸受装置と、
d)頂面を有する作業プラットフォームであって、前記負荷フレームの上方において、前記交差ローラ軸受装置によって前記負荷フレームに対して移動可能に、前記可撓性台座と前記交差ローラ軸受装置の頂端部とに堅固に据え付けられた前記作業プラットフォーム,
ことを特徴とする製造工程装置。 - 前記レーザ干渉計は、
前記ベースの頂部に堅固に据え付けられかつ前記レーザ・ビームの放射路上に据え付けられた第1のビーム・スプリッタと、
前記第1のビーム・スプリッタの近くにおいて前記ベースの頂部に堅固に据え付けられかつ前記レーザ・ビームの放射路上に据え付けられた第2のビーム・スプリッタと、
前記レーザ・ビームの放射方向を直角に変更するために前記ベースの頂部に堅固に据え付けられ、両ビーム・スプリッタと整列する90度反射ミラーと、
前記ベースの頂部に据え付けられ、前記第1のビーム・スプリッタにより分割された前記レーザ・ビームを受け取る第1の干渉ミラーと、
前記ベースの頂部に据え付けられ、前記第2のビーム・スプリッタにより分割された前記レーザ・ビームを受け取る第2の干渉ミラーと、
前記ベースの頂部に据え付けられ、前記90度反射ミラーにより反射された前記レーザ・ビームを受け取る第3の干渉ミラーとを備える、請求項1に記載の製造工程装置。 - 前記反射装置は、
前記作業プラットフォームの頂面上に堅固に据え付けられ、前記第1の干渉ミラー及び前記第2の干渉ミラーにより放射されたレーザ・ビームを反射する第1の反射ミラーと、
前記第3の干渉ミラーにより放射された前記レーザ・ビームを反射させるために前記第1の反射ミラーに対して直角に前記作業プラットフォームの頂面に堅固に据え付けられた第2の反射ミラーとを備え、また、
前記信号受信装置は、
前記第1の反射ミラーにより反射された前記第1の干渉ミラーからの前記レーザ・ビームを受け取るために前記ベースの頂部に堅固に据え付けられた第1の受信機と、
前記第1の反射ミラーにより反射された前記第2の干渉ミラーからの前記レーザ・ビームを受け取るために前記ベースの頂部に堅固に据え付けられた第2の受信機と、
前記第2の反射ミラーにより反射された前記第3の干渉ミラーからの前記レーザ・ビームを受け取るために前記ベースの頂部に堅固に据え付けられた第3の受信機とを備える、請求項2に記載の製造工程装置。
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