KR20110013575A - 연속적인 직접-기록 광 리쏘그래피 장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 본 발명에 따른 이동 가능한 SLM을 갖는 광 리쏘그래피 도구의 개략도,
도 3은 본 발명에 따른 가요성 필름 기판(flexible film substrate)을 갖는 광 리쏘그래피 도구의 개략도,
도 4는 텔레센트릭 투사 광학장치를 보여주는, 도 1의 광 리쏘그래피 도구의 제 1 실시예의 개략도,
도 5는 다수의 영역 어레이 및 그에 대응하는 다수 세트의 투사 광학장치를 갖는 SLM을 보여주는, 도 1의 광 리쏘그래피 도구의 제 2 실시예의 상세도,
도 6은 다수의 영역 어레이와 단일 세트의 텔레센트릭 투사 광학장치를 갖는 SLM을 보여주는, 도 1의 광 리쏘그래피 도구의 제 3 실시예의 상세도,
도 7은 '온'과 '오프' 위치의 어레이 소자를 보여주는, 본 발명에 의한 마이크로-미러 어레이의 일부를 통과하는 도식적인 단면도,
도 8은 본 발명에 따른, 상기 기판 표면 전체를 노광하기 위해 SLM의 투사된 이미지가 따라갈 수 있는 꾸불꾸불한 모양의 경로를 보여주는 기판의 평면도,
도 9는 본 발명에 따른, 상기 전체 기판 표면을 노광시키는데 함께 사용되는 다수의 영역 어레이의 각각으로부터 투사된 이미지가 따라갈 수 있는 꾸불꾸불한 모양의 경로를 보여주는 기판의 평면도,
도 10은 본 발명에 따른, 잠상을 형성하는 공정을 도시하는 도면,
도 11은 도 10의 기판 어레이를 도시하는 도면,
도 12는 T3에서 시작하고 동일한 시간 간격(time interval) T/10로, 도 10의 기판상의 라인 세그먼트(AB)에 따른 순간 광 세기 분포를 도시하는 그래프,
도 13은 T4에서 끝나고 동일한 시간 간격 T/10로, 도 10의 기판상의 라인 세그먼트(AB)에 따른 순간 광 세기 분포를 도시하는 그래프,
도 14는 시간 T3와 T4 사이의 노광 때문에, 도 10의 기판 상의 라인 세그먼트(AB)에 따른 통합된 선량(dose) 분포를 도시하는 그래프,
도 15는 시간 T1과 T7 사이의 노광 때문에, 도 10의 기판 상의 라인 세그먼트(AB)에 따른 총 선량 분포를 도시하는 그래프,
도 16은 본 발명에 따른, 미러의 투사된 너비의 절반만큼 에지 시프트한 제 1 예를 포함하는 잠상을 형성하는 공정의 도식도,
도 17은 본 발명에 따른, 미러의 투사된 너비의 절반만큼 에지 시프트한 제 2 예를 포함하는 잠상을 형성하는 공정의 도식도,
도 18은 본 발명에 따른, 미러의 투사된 너비의 1/4만큼 에지 시프트한 예를 포함하는 잠상을 형성하는 공정의 도식도,
도 19는 본 발명에 따른, 미러의 투사된 너비의 3/4만큼 에지 시프트한 예를 포함하는 잠상을 형성하는 공정의 도식도,
도 20은 본 발명에 따른, 미러의 투사된 너비의 1/4만큼의 다른 방향으로 에지 시프트한 예를 포함하는 잠상을 형성하는 공정의 도식도,
도 21은 도 10, 16 내지 19의 기판 상에서 라인 세그먼트(AB)를 따라 통합된 선량(dose) 분포를 도시하는 그래프,
도 22는 본 발명에 따른, 잠상을 형성하는 공정을 추가적으로 도시하는 도면,
도 23은 도 22의 기판 어레이를 도시하는 도면,
도 24는 도 22의 기판 상에서 라인 세그먼트(CD, EF, GH, IJ)를 따라 통합된 선량(dose)를 도시하는 그래프,
도 25는 본 발명에 따른, 에지 시프팅(edge shifting)의 추가적인 예를 포함하는 잠상을 형성하는 공정을 도시하는 도면,
도 26은 도 25의 기판 어레이를 도시하는 도면,
도 27은 도 25의 기판 상에서 라인 세그먼트(KL, MN, OP, QR, ST)를 따라 통합된 선량 분포를 도시하는 그래프,
도 28은 본 발명에 따른 광 리쏘그래피 시스템의 블록도,
도 29는 본 발명의 실시예에 따른 다수의 영역 어레이 정렬의 평면도,
도 30은 광원과 기판 사이의 광로 상에서 광스위칭 기구(121)를 보여주는, 도 4의 광 리쏘그래피 도구의 다른 실시예의 도식도,
도 31는 본 발명에 따른, 상기 광로상에 연속하게 구성된 2개의 SLM을 갖는 광 리쏘그래피 시스템의 타이밍도,
도 32는 본 발명에 따른, 상기 광로에 연속하게 구성된 2개의 SLM을 갖는 광 리쏘그래피 시스템을 사용하여 잠상을 형성하는 공정을 도시하는 도면,
도 33은 본 발명에 따른, 상기 광로상에 연속하게 구성된 SLM과 광스위칭 기구를 갖는 광 리쏘그래피 시스템의 타이밍도,
도 34는 본 발명에 따른, 상기 기판 표면에 2개의 영역 어레이의 투사된 이미지가 중첩하도록 구성된 광학장치(light optics)를 갖는 광 리쏘그래피 도구의 도식도이고,
도 35는 도 34에 도시된 광 리쏘그래피 시스템의 타이밍도이다.
120: 공간 광변조기 130 : 이미징 광학기기
140 : 기판 150 : 스테이지
160 : 좌표축 170 : 광선
Claims (58)
- 가요성 필름 기판에 대한 리쏘그래피 방법에 있어서,
속도(v)로 패터닝 방향으로 상기 가요성 필름 기판을 이동시키는 단계;
공간 광변조기를 연속적으로 조명하는 단계;
상기 공간 광변조기가 이동하는 동안에, 상기 연속적으로 조명된 공간 광변조기의 배율(M)에서의 이미지로 상기 기판을 조명하는 단계; 및
상기 기판이 조명되는 동안에, 상기 공간 광변조기를 시간 간격(T=pM/v)으로 스위칭함으로써 상기 기판의 감광성 표면의 픽셀은 상기 공간 광변조기의 다수 요소로부터 에너지의 선량을 연속으로 받는 단계를 포함하고,
상기 공간 광변조기는 개별적으로 스위칭가능한 요소의 적어도 하나의 영역 어레이를 포함하고, 상기 요소는 상기 패터닝 방향으로 측정된 피치(p)를 가지고,
상기 기판의 상기 이동은, 회전가능하고 공간상으로 떨어져 있으며 축 상으로 평행한 필름 드럼에 의해 실시되며, 상기 기판은 감겨져 있으며 상기 드럼 사이에서 팽팽하게 되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 연속적으로 조명된 공간 광변조기의 상기 배율(M)에서의 이미지는 블러링되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 2 조명 단계는 상기 연속으로 조명된 공간 광변조기의 배율(M)에서의 이미지로 상기 기판을 연속적으로 조명하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 리쏘그래피 방법에 있어서,
개별적으로 스위칭가능한 요소의 적어도 하나의 영역 어레이를 포함하는 공간 광변조기를 광원을 이용하여 조명하는 단계;
기판의 감광성 표면에 상기 공간 광변조기의 이미지를 투사하는 단계;
상기 기판의 상기 표면을 가로질러 상기 이미지를 이동시키는 단계;
상기 이미지가 이동하는 동안에, 시간 간격으로 상기 공간 광변조기의 상기 요소를 스위칭하는 단계; 및
상기 광원으로부터 상기 공간 광변조기로 진행하여 상기 기판에서 종료하는 광경로를 따라 광의 통과를 제어하는 단계를 포함하며,
광의 통과는 광 스위칭 기구에 의해 제어되며, 상기 기구는 상기 공간 광변조기의 상기 요소와 동일한 주파수이며 위상이 다르게 동작하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 4 항에 있어서,
상기 공간 광변조기의 모든 요소는 매 시간 간격 마다 오프 상태이며, 상기 스위칭 기구는 매 시간 간격 마다 오프 상태인 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 리쏘그래피 방법에 있어서,
개별적으로 스위칭가능한 요소의 영역 어레이를 포함하는 공간 광변조기를 광원을 이용하여 조명하는 단계;
기판의 감광성 표면에 상기 공간 광변조기의 이미지를 투사하는 단계;
상기 기판의 상기 표면을 가로질러 상기 이미지를 이동시키는 단계;
상기 이미지가 이동하는 동안에, 시간 간격으로 상기 공간 광변조기의 상기 요소를 스위칭하는 단계; 및
상기 광원으로부터 상기 공간 광변조기로 진행하여 상기 기판에서 종료하는 광경로를 따라 광의 통과를 제어하는 단계를 포함하며,
광의 통과는 상기 스위칭 시간 간격의 일부인 시간 구간 동안에 허용되며, 상기 이미지는 상기 시간 구간 동안에 상기 기판 표면에서 단일 픽셀의 길이를 이동하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 6 항에 있어서,
상기 시간 구간은 상기 스위칭 시간 간격의 약수인 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 리쏘그래피 방법에 있어서,
개별적으로 스위칭가능한 요소의 영역 어레이를 각각 포함하는 복수의 공간 광변조기를 광원을 이용하여 조명하는 단계;
기판의 감광성 표면에 각각의 상기 복수의 공간 광변조기의 이미지를 투사하는 단계;
상기 기판의 상기 표면을 가로질러 상기 이미지를 이동시키는 단계;
상기 이미지가 이동하는 동안에, 상기 복수의 공간 광변조기의 상기 요소를 스위칭함으로써 상기 감광성 표면의 픽셀은 상기 복수의 공간 광변조기의 다수 요소로부터 에너지의 선량을 연속으로 받으며, 그리하여 상기 표면에 잠상을 형성하고 단계; 및
상기 이미지를 블러링하는 단계를 포함하고,
상기 블러링은 서브-픽셀 해상도 피처 에지 배치를 가능하게 하며,
상기 영역 어레이의 상기 투사된 이미지 중의 적어도 두 개는 상기 기판에서 중첩되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 8 항에 있어서,
상기 기판에서 중첩된 투사 이미지를 갖는 상기 영역 어레이는 서로 동일한 주파수로 스위칭되고 상이한 위상으로 스위칭되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 8 항에 있어서,
상기 중첩된 투사 이미지는 레지스터에 있는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 기판을 패터닝하는 리쏘그래피 도구에 있어서,
개별적으로 스위칭가능한 요소의 영역 어레이를 포함하는 공간 광변조기;
상기 공간 광변조기를 조명하도록 구성된 광원;
상기 공간 광변조기의 블러링된 이미지를 상기 기판에 투사하도록 구성된 이미징 광학기기;
상기 광원으로부터 상기 공간 광변조기로 진행하여 상기 기판에서 종료하는 광경로에 위치하고, 상기 광경로를 따라 광의 통과를 제어하는 광 스위칭 기구; 및
상기 기판의 표면을 가로질러 상기 이미지를 이동시키는 이미지 이동 기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 11 항에 있어서,
상기 광 스위칭 기구는 제 2 공간 광변조기인 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 11 항에 있어서,
상기 광 스위칭 기구는 셔터인 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 11 항에 있어서,
상기 광 스위칭 기구는 상기 광원과 통합된 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 기판을 패터닝하는 리쏘그래피 도구에 있어서,
개별적으로 스위칭가능한 요소의 영역 어레이를 포함하는 제 1 공간 광변조기;
상기 제 1 공간 광변조기를 조명하도록 구성된 광원;
상기 제 1 공간 광변조기의 이미지를 상기 기판에 투사하도록 구성된 이미징 광학기기;
상기 광원으로부터 상기 제 1 공간 광변조기로 진행하여 상기 기판에서 종료하는 광경로에 위치하고, 상기 광경로를 따라 광의 통과를 제어하는 제 2 공간 광변조기; 및
상기 기판의 상기 표면을 가로질러 상기 이미지를 이동시키는 이미지 이동 기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 리쏘그래피 방법에 있어서,
(a) 공간 광변조기 아래에 기판을 위치시키는 단계;
(b) 상기 공간 광변조기를 조명하는 단계 - 여기서, 상기 공간 광변조기는 개별적으로 스위칭가능한 요소의 영역 어레이를 포함함 - ;
(c) 상기 기판의 감광성 표면에 상기 공간 광변조기의 배율(M)에서의 이미지를 투사하는 단계;
(d) 시간 간격(T)으로 상기 공간 광변조기의 상기 요소를 스위칭하는 단계;
(e) 상기 요소가 스위칭되는 동안에, 상기 감광성 표면을 가로질러 패터닝 방향으로 상기 이미지를 속도(v=npM/T)로 이동시키는 단계 - 여기서, p는 상기 패터닝 방향으로 측정된 상기 요소의 피치이고, n은 정수임 - ; 및
(f) 광경로를 따라 광의 통과를 제어하는 단계를 포함하고,
상기 광경로는 상기 광원으로부터 상기 공간 광변조기로 진행하여 상기 기판에서 종료되고, 광의 통과는 광 스위칭 기구에 의해 제어되며, 상기 기구는 상기 공간 광변조기의 상기 요소와 동일한 주파수로 동작하고, 상기 공간 광변조기의 상기 요소와 시간 시프트(T(1-1/n)) 만큼 위상이 어긋난 채 시프트된 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 16 항에 있어서,
필요한 잠상이 상기 감광성 표면에 형성될 때까지, 상기 기판상의 픽셀은 상기 공간 광변조기의 다수 요소로부터 에너지의 선량을 연속으로 받는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 16 항에 있어서,
상기 공간 광변조기의 상기 이미지를 블러링하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 16 항에 있어서,
상기 공간 광변조기의 모든 요소는 매 시간 간격 마다 오프 상태이며, 상기 스위칭 기구는 매 시간 간격 마다 오프 상태인 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 리쏘그래피 방법에 있어서,
(a) 공간 광변조기 아래에 기판을 위치시키는 단계;
(b) 상기 공간 광변조기를 조명하는 단계 - 여기서, 상기 공간 광변조기는 개별적으로 스위칭가능한 요소의 영역 어레이를 포함함 - ;
(c) 상기 기판의 감광성 표면에 상기 공간 광변조기의 배율(M)에서의 이미지를 투사하는 단계;
(d) 시간 간격(T)으로 상기 공간 광변조기의 상기 요소를 스위칭하는 단계;
(e) 상기 요소가 스위칭되는 동안에, 상기 감광성 표면을 가로질러 패터닝 방향으로 상기 이미지를 속도(v=npM/T)로 이동시키는 단계 - 여기서, p는 상기 패터닝 방향으로 측정된 상기 요소의 피치이고, n은 상수임 - ; 및
(f) 광경로를 따라 광의 통과를 제어하는 단계를 포함하고,
상기 광경로는 상기 광원으로부터 상기 공간 광변조기로 진행하여 상기 기판에서 종료되고, 광의 통과는 광 스위칭 기구에 의해 제어되며, 상기 기구는 시간 구간(T/n) 동안 광의 통과를 허용하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 20 항에 있어서,
필요한 잠상이 상기 감광성 표면에 형성될 때까지, 상기 기판상의 픽셀은 상기 공간 광변조기의 다수 요소로부터 에너지의 선량을 연속으로 받도록 단계(f)를 반복하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 20 항에 있어서,
상기 공간 광변조기의 상기 이미지를 블러링하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 20 항에 있어서,
상기 광 스위칭 기구는 시간 간격(T)당 하나의 시간 구간(T/n) 동안 상기 광의 통과를 허용하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 20 항에 있어서,
n은 정수인 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 리쏘그래피 방법에 있어서,
개별적으로 스위칭 가능하고 직사각형 그리드(grid)에 열과 행으로 배열되는 요소들의 영역 어레이를 포함하는 공간 광변조기를 연속하여 조명하는 단계;
상기 공간 광변조기에 대해 상기 공간 광변조기의 상기 요소들의 행에 평행하지도 않고 직교하지도 않는 방향으로 감광성 코팅을 갖는 기판을 이동시키는 단계;
상기 기판이 이동하는 동안, 상기 공간 광변조기의 개별적으로 스위칭가능한 요소들의 투사된 간격 및 구성에 상응하는 크기와 구성을 갖는 픽셀들의 영역 어레이를 포함하는 감광성 코팅상에 상기 공간 광변조기의 이미지를 투사하는 단계; 및
상기 기판이 이동하는 동안, 상기 공간 광변조기의 상기 요소들을 스위칭하는 단계를 포함하고,
상기 스위칭은 2개 이상의 상태 사이에 있고, 상기 2개 이상의 상태 중 제 1 상태는 상기 기판에 광이 도달하도록 허용하고, 상기 제 2 상태는 상기 기판에 광이 도달하는 것을 차단하며,
상기 스위칭은 상기 감광성 코팅에 피처를 한정하기 위해 제어되고, 이에 의해 상기 감광성 코팅에 대해, 상기 공간 광변조기의 상기 이미지는 상기 감광성 코팅을 가로질러 이동하고, 상기 감광성 코팅의 픽셀은 상기 공간 광변조기의 다수 요소로부터 에너지의 선량을 연속해서 받으며,
상기 공간 광변조기의 상기 요소들의 스위칭은 상기 감광성 코팅의 임의의 픽셀에 의해 얻어진 에너지의 전체 선량에 연속해서 기여하는 상기 공간 광변조기의 요소들의 수를 변경시키도록 제어되고, 이에 의해 상기 감광성 코팅의 일부 픽셀들은 0이 아닌 상이한 에너지의 전체 선량을 받는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 25 항에 있어서,
상기 기판의 이동 방향은 상기 공간 광변조기의 상기 요소들의 행에 대해서 45°인 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 26 항에 있어서,
상기 이동은 상기 감광성 코팅의 피처 에지가 상기 감광성 코팅의 상기 영역 어레이에 의해 한정된 픽셀 에지로부터 하나의 서브픽셀의 거리만큼 시프트되도록 제어되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 25 항에 있어서,
상기 조명 단계는 아크(arc) 램프를 포함하는 램프 시스템에 의해 실시되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 28 항에 있어서,
상기 조명의 균일성을 개선시키는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 개선 단계는 상기 아크 램프와 상기 공간 광변조기 사이에 위치된 광 파이프에 의해 실시되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 개선 단계는 상기 아크 램프와 상기 공간 광변조기 사이에 위치된 플라이 아이 렌즈(FEL: fly's eye lens)에 의해 실시되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 25 항에 있어서,
상기 조명 단계는 유사-연속적인(quasi-continuous) 레이저에 의해 실시되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 25 항에 있어서,
상기 스테이지가 이동하는 동안, 상기 감광성 코팅과 상기 투사 광학기기 사이의 거리를 일정하게 유지하여 상기 이미지를 상기 감광성 코팅에 집속되도록 하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 25 항에 있어서,
상기 공간 광변조기의 요소들의 상기 스위칭은 상기 공간 광변조기의 불균일한 조명을 보상하기 위해 제어되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 25 항에 있어서,
상기 투사 단계는 투사 광학기기에 의해 실시되고,
상기 공간 광변조기의 요소들의 상기 스위칭은 상기 투사 광학기기의 왜곡(distortion)과 수차(aberration)를 보상하기 위해 제어되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 25 항에 있어서,
상기 공간 광변조기의 요소들의 상기 스위칭은 상기 기판의 잘못된 정렬과 왜곡을 보상하기 위해 제어되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 25 항에 있어서,
상기 픽셀은 상기 공간 광변조기에서 개별적으로 스위칭가능한 상기 요소들과 일대일 대응하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 25 항에 있어서,
상기 투사 단계 이전에,
상기 기판의 왜곡을 측정하는 단계; 및
상기 기판의 왜곡을 설명하는 설계 데이터 파일을 변경하는 단계를 추가로 포함하고,
상기 설계 데이터 파일은 상기 감광성 코팅내에 한정된 상기 피처의 위치를 결정하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 25 항에 있어서,
상기 투사 단계 이전에,
상기 기판을 투사 광학기기에 정렬시키는 단계를 추가로 포함하고,
상기 이미지의 투사는 상기 투사 광학기기에 의해 실시되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 39 항에 있어서,
상기 정렬 단계는 상기 기판상의 임의의 피처를 메모리 장치에 미리 저장된 이미지와 비교하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 39 항에 있어서,
상기 정렬 단계는 상기 기판상의 임의의 피처를 메모리 장치에 미리 저장된 이상적인 이미지와 비교하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 제 41 항에 있어서,
상기 이상적인 이미지는 십자형과 원형으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 방법. - 리쏘그래피 도구에 있어서,
직사각형 그리드에 열과 행으로 정렬되고 개별적으로 스위칭가능한 요소들의 영역 어레이를 포함하는 공간 광변조기;
상기 공간 광변조기를 연속해서 조명하는 광원;
상기 공간 광변조기의 개별적으로 스위칭가능한 요소들의 투사된 간격과 구성에 상응하는 크기와 구성을 갖는 픽셀들의 영역 어레이를 포함하고, 기판의 표면을 코팅하는 감광성 재료상에 상기 공간 광변조기의 이미지를 연속해서 투사하는 이미징 광학기기;
상기 감광성 재료에 광이 도달하도록 허용하는 제 1 상태와 상기 감광성 재료에 광이 도달하는 것을 차단하는 제 2 상태를 포함하는 적어도 2개 이상의 상태 사이에서 스위칭이 존재하고, 상기 감광성 재료의 피처를 한정하기 위해 상기 공간 광변조기의 상기 개별적으로 스위칭가능한 요소들의 상기 스위칭을 제어하는 제어시스템; 및
상기 감광성 재료의 픽셀이 상기 공간 광 변조기의 다수 요소들로부터 에너지의 선량을 연속해서 받도록 상기 기판을 상기 투사된 이미지에 대해 이동시키는 스테이지를 포함하고,
상기 기판의 이동 방향은 상기 공간 광변조기의 상기 요소들의 행에 평행하지도 않고 직교하지도 않으며,
상기 제어시스템은 상기 감광성 재료의 임의의 픽셀에 의해 얻어진 에너지의 전체 선량에 연속해서 기여하는 상기 공간 광변조기의 요소들의 수를 변경시키기 위해 상기 공간 광변조기의 요소들의 스위칭을 추가로 제어하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 43 항에 있어서,
상기 기판의 이동 방향은 상기 공간 광변조기의 요소들의 행에 대해 45°인 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 43 항에 있어서,
상기 감광성 재료의 피처 에지는 상기 감광성 재료의 상기 영역 어레이에 의해 한정된 픽셀 에지로부터 하나의 서브픽셀 거리만큼 시프트되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 43 항에 있어서,
상기 광원은 아크 램프를 포함하는 램프 시스템인 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 46 항에 있어서,
상기 램프 시스템은 상기 아크 램프와 상기 공간 광변조기 사이에 위치된 광 파이프를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 46 항에 있어서,
상기 램프 시스템은 상기 아크 램프와 상기 공간 광변조기 사이에 위치된 플라이 아이 렌즈를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 43 항에 있어서,
상기 광원은 유사-연속적인(quasi-continuous) 레이저인 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 43 항에 있어서,
상기 공간 광변조기는 디지털 마이크로-미러(micro-mirror) 장치인 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 43 항에 있어서,
상기 픽셀은 상기 공간 광변조기의 상기 개별적으로 스위칭가능한 요소들과 일대일 대응하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 43 항에 있어서,
데이터 준비 컴퓨터; 및
디컴프레션(decompression) 전자장치를 추가로 포함하고,
상기 데이터 준비 컴퓨터는 설계 데이터 파일을 상기 디컴프레션 전자장치에 적합한 형태로 변경하고,
상기 디컴프레션 전자장치는 상기 공간 광변조기의 상기 요소들 각각에 대해 상기 상태를 나타내는 값들의 행렬로 상기 변경된 설계 데이터를 변환하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 43 항에 있어서,
상기 기판을 상기 이미징 광학기기에 정렬하는 기판 정렬 시스템을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 53 항에 있어서,
상기 기판 정렬 시스템은 상기 기판상의 임의의 피처를 메모리 장치에 미리 저장된 이미지와 비교하는 머신 비젼 시스템(machine vision system)인 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 53 항에 있어서,
상기 기판 정렬 시스템은 상기 기판상의 임의의 피처를 메모리 장치에 미리 저장된 이상적인 이미지와 비교하는 머신 비젼 시스템인 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 55 항에 있어서,
상기 이상적인 이미지는 십자형과 원형으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 53 항에 있어서,
상기 기판 정렬 시스템은 상기 기판의 왜곡을 추가로 측정하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구. - 제 57 항에 있어서,
데이터 준비 컴퓨터; 및
디컴프레션 전자장치를 추가로 포함하고,
상기 데이터 준비 컴퓨터는 (1) 설계 데이터 파일을 상기 디컴프레션 전자장치에 적합한 형태로 변경하고, (2) 상기 기판의 왜곡을 보상하기 위해 상기 설계 데이터를 변경하며,
상기 디컴프레션 전자장치는 상기 변경된 설계 데이터를 상기 공간 광변조기의 요소들 각각에 대한 상기 상태를 나타내는 값들의 행렬로 변환하는 것을 특징으로 하는 리쏘그래피 도구.
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