KR100875900B1 - 마스크를 사용하지 아니하는 광유체적 리소그래피 시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 마스크를 사용하지 아니하는 광유체적 리소그래피 시스템으로서,본 발명의 일측면은 광원; 상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 공간 광 변조기; 및 내부에 광경화성 액체가 흐르며, 상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광에 따라 상기 광경화성 액체를 선택적으로 경화하여 출력하는 마이크로유체관을 구비하는 광유체적 리소그래피 시스템을 제공한다.

Description

마스크를 사용하지 아니하는 광유체적 리소그래피 시스템{OPTOFLUIDIC MASKLESS LITHOGRAPHY SYSTEM}
도 1은 본 발명의 실시예에 의한 마스크를 사용하지 아니하는 광유체적 리소그래피 시스템(optofluidic maskless lithography system)을 나타내는 도면이다.
도 2는 도 1의 광유체적 리소그래피 시스템에 채용된 마이크로유체관(40)의 일례를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 의한 광유체적 리소그래피 시스템에 의하여 생성된 마이크로구조물들을 나타내는 도면이다.
도 4의 (a) 및 (b)는 본 발명의 실시예에 의한 광유체적 리소그래피 시스템에 의하여 마이크로구조물들이 생성되는 시간과 위치가 자유로이 실시간으로 제어되는 것을 보여주는 도면이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 의한 광유체적 리소그래피 시스템을 이용하여 실제 노광 가능한 면적보다 큰 구조물을 만들어내는 예를 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 마이크로유체관에 여러 가지 다른 광경화성 액체를 흘리면서 다양한 조성의 마이크로구조물을 만들어 내는 예를 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 의한 광유체적 리소그래피 시스템을 이용하여 제작된 마이크로구조물의 예를 나타내는 도면이다.
본 발명은 광유체적 리소그래피 시스템으로서, 보다 구체적으로 마스크를 사용하지 아니하는 광유체적 리소그래피 시스템에 관한 발명이다.
마이크로입자들(microparticles) 및 마이크로구조물들(microstructures)은 광재료(photonic materials), MEMS(micro-electromechanical systems), 생체재료(biomaterials) 및 자기-조립(self-assembly) 등 많은 응용분야를 가진다. 최근에, 이러한 마이크로입자들 및 마이크로구조물들을 생성하는 기술로서 연속 흐름 리소그래피(continuous-flow lithography) 기술이 제안되었다(D. Dendukuri, D. Pregibon, J. Collins, T. Hatton, P. Doyle. "Continuous-flow lithography for highthroughput microparticle synthesis." Nature materials, vol. 5, pp. 365-369, 2006.). 연속 흐름 리소그래피 기술은 마이크로유체관(micorfluidic channel) 내부에 광경화성 액체(photocurable liquid)를 흐르게 하고, 광경화성 액체에 소정 모양의 광을 노출하여 광경화성 액체를 선택적으로 경화시킴으로써, 여러 종류의 자유로이 움직이는(free-floating) 마이크로구조물들을 연속적으로 생산하는 기술이다. 연속 흐름 리소그래피 기술을 사용하면 다양한 형태, 크기 및 화학 조성의 마이크로 입자들 및 구조물들이 보다 빠르고 쉽게 생성될 수 있다.
그러나, 상기 논문에 제안된 연속 흐름 리소그래피 기술은, 포토마스크를 사 용하므로, 일정한 모양의 마이크로구조물들만을 생성할 수 있다는 문제점이 있다. 따라서, 새로운 모양의 마이크로구조물들을 생성하고 싶은 경우에는 새로운 모양의 포토마스크를 제작 및 장착하여야 하므로, 많은 비용과 시간이 소요된다. 또한, 상기 논문에 제안된 연속 흐름 리소그래피 기술은, 포토마스크를 사용하고, 포토마스크는 실시간적으로 프로그램 가능한(programmable) 것이 아니므로, 마이크로구조물 생성에 있어서 제한된 시간적 공간적 유연성을 가진다.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상기한 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 마스크를 사용하지 아니하는 광유체적 리소그래피 시스템을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 한 번의 공정을 통하여 많은 종류의 마이크로 구조물들을 생성할 수 있는 광유체적 리소그래피 시스템을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 마이크로구조물의 생성을 시간적 및 공간적으로 제어할 수 있는 광유체적 리소그래피 시스템을 제공하는 것이다. 여기에서 마이크로구조물의 생성을 시간적 및 공간적으로 제어한다는 것의 의미는 시간이 경과함에 따라 이전과 다른 모양의 마이크로 구조물을 생성할 수 있음을 의미한다.
본 발명의 일측면은 광원; 상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 공간 광 변조기; 및 내부에 광경화성 액체가 흐르며, 상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광에 따라 상기 광경화성 액체를 선택적으로 경화하여 출력하는 마이크로유체관을 구비하는 광유체적 리소그래피 시스템을 제공한다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시예들은 여러가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들로 인하여 한정되는 식으로 해석되어 져서는 안된다. 본 발명의 실시예들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 의한 마스크를 사용하지 아니하는 광유체적 리소그래피 시스템(optofluidic maskless lithography system)을 나타내는 도면이다.
도 1을 참조하면, 광유체적 리소그래피 시스템은 광원(lihgt source, 10), 공간 광 변조기(spatial light modulator, 20), 축소 렌즈(demagnification lens, 30) 및 마이크로유체관(microfluidic channel, 40)을 구비한다. 또한, 광유체적 리소그래피 시스템은 마이크로유체관(40)을 모니터링하기 위하여 필요한 구성요소들인 빔 분리기(beam splitter, 50), 카메라(60) 및 조명기(illuminator, 70)를 더 구비할 수 있다.
광원(10)은 마이크로유체관(40) 내에 흐르는 광경화성 액체(photocurable liquid, 41)를 경화(curing)시킬 수 있는 광을 공간 광 변조기(20)에 제공하는 기능을 수행한다. 광원(10)은 일례로 자외선 광원(ultraviolet light source)일 수 있으며, 광경화성 액체(41)의 종류에 따라 가시광선 광원(visible light source) 등일 수도 있다. 광원(10)은 자외선 광원 시준기(ultraviolet lihgt source collimator, 11) 및 자외선 필터(ultraviolet filter, 12)를 구비할 수 있다. 자외선 광원 시준기(11)는 평행 자외선 광을 출력하는 기능을 수행한다. 자외선 광원 시준기(11)는 일례로 200W UV 램프(미도시)와 섬유기반의 도광 시스템(fiber-based light guiding system, 미도시)을 구비할 수 있다. 자외선 필터(12)는 자외선 광원 시준기(11)에서 제공되는 광 중에서 자외선을 선택적으로 공간 광 변조기(20)에 제공하는 기능을 수행한다.
공간 광 변조기(20)는 광원(10)에서 제공된 광을 변조하는 기능을 수행한다. 도면에는 2차원 어레이 형태로 제작된 디지털 마이크로미러 어레이(digital micromirror array)가 도시되어 있다. 공간 광 변조기(20)는 도면과 달리 1차원 어레이 형태로 제작될 수도 있으며, 마이크로미러가 아닌 LCD(liquid crystal display) 등 다른 방식을 이용하여 제작될 수도 있다. 공간 광 변조기(20)에서 광 변조는 프로그램 가능하다. 즉, 공간 광 변조기(20)는 공간 광 변조기(20)에 포함된 화소들 중 원하는 화소의 입사된 광을 원하는 시간에 선택적으로 축소 렌즈(30)로 전달할 수 있다. 공간 광 변조기(20)의 광 변조는 일례로 컴퓨터(미도시)에 의하여 제어될 수 있다. 즉, 컴퓨터에 의하여 생성된 이미지들이 프로그램 가능 한(programmable) 공간 광 변조기(20)에 전달되며, 공간 광 변조기(20)는 마이크로유체관(40)에 노출되는 광의 모양을 제어한다.
축소 렌즈(30)는 공간 광 변조기(20)에서 제공되는 변조된 광을 축소하여 마이크로유체관(40)에 제공하는 기능을 수행한다. 일례로, 축소 렌즈(30)로서 공간 광 변조기(20)의 상을 최종 객체 평면(object plane)에 대략 5의 축소율(demagnification factor)로 투사하기 위하여 10x 현미경 대물 렌즈가 사용된다.
마이크로유체관(40)의 내부에는 광경화성 액체(41)가 흐르며, 광경화성 액체(41)는 축소 렌즈(30)를 통하여 제공되는 변조된 광에 따라 경화되어 출력된다. 보다 구체적으로, 광경화성 액체(41)가 연속적으로 흐르는 마이크로유체관(40) 내에서, 광경화성 액체(41)의 경화에 의하여 마이크로구조물(microstructures) 또는 마이크로입자들(microparticles)이 생성된다. 마이크로구조물(microstructures) 또는 마이크로입자들(microparticles)의 모양은 프로그램 가능한(programmable) 공간 광 변조기(20)에 의하여 제어될 수 있다.
빔 분리기(50)는 공간 광 변조기(20)로부터 제공되는 변조된 광을 축소 렌즈(30)를 경유하여 마이크로유체관(40)에 전달하는 기능을 수행한다. 또한, 빔 분리기(50)는 마이크로유체관(40)으로부터 축소 렌즈(30)를 경유하여 전달된 이미지를 카메라(60)로 전달하는 기능을 수행한다. 빔 분리기(50)는 일례로 도면과 같이 하프미러(half mirror)일 수 있다.
카메라(60)는 마이크로유체관(40)의 이미지에 대응하는 전기적인 이미지 신호를 출력한다. 카메라(60)는 일례로 CCD(charge-coupled device) 카메라일 수 있 다. 카메라는 이미지 렌즈(imaging lens, 61) 및 이미지 센서(image sensor, 62)를 구비할 수 있다. 이미지 렌즈(61)는 빔 분리기(50)로부터 광을 전달받아 이를 이미지 센서(62)에 전달하며, 이미지 센서(62)에 상이 맺히도록 하는 기능을 수행한다. 이미지 센서(62)는 입사되는 광에 대응하는 전기적인 영상신호를 제공하는 기능을 수행한다. 즉, 이미지 센서(62)은 마이크로유체관(40)의 이미지에 대응하는 전기적인 영상신호를 제공한다.
조명기(illuminator, 70)는 카메라(60)가 마이크로유체관(40)의 영상을 확보할 수 있도록 조명을 제공하는 기능을 수행한다. 경화된(cured) 마이크로구조물들 및 경화되지 아니한(uncured) 광경화성 액체는 굴절율에서 작은 차이만을 가지므로, 경화된 마이크로구조물들을 보이게 하기 위하여 비축(offaxis) 조명(illumination)을 사용함이 바람직하다.
도면에 표현된 광유체적 리소그래피 시스템은 공간 광 변조기를 채용함으로써, 마스크를 사용하지 아니할 수 있으며, 원하는 시간 및 장소에 자유로이 움직이는 마이크로구조물들(microstructures)을 생성할 수 있다. 또한, 기존의 마스크를 사용하는 광유체적 리소그래피 시스템의 경우에, 일정한 모양의 마이크로구조물들만 생성할 수 있으나, 도면에 표현된 광유체적 리소그래피 시스템은 마스크의 교체 없이도 여러 모양의 마이크로구조물들을 생성할 수 있다. 또한, 도면에 표현된 광유체적 리소그래피 시스템은 인-시튜 광중합(in-situ photopolymerization)의 실시간 제어를 가능하게 한다.
도 2는 도 1의 광유체적 리소그래피 시스템에 채용된 마이크로유체관(40)의 일례를 나타내는 도면으로서, 도 2의 (a)는 마이크로유체관(40)의 길이방향으로의 단면도이며, 도 2의 (b)는 마이크로유체관(40)의 너비방향으로의 단면도이며, 도 2의 (c)는 마이크로유체관(40) 내에서 마이크로구조물들이 UV에 의하여 생성됨을 개략적으로 나타내는 도면이다. 마이크로유체관(40)은 표준 소프트 리소그래피 기술을 사용하여 제작된다. 도 2를 참조하면, 마이크로유체관(40)은 이를 둘러싸는 PDMS(poly-dimethyl siloxane)에 의하여 형성된다. 마이크로유체관(40)의 4면 중 1면은 유리 기판(42)에 코팅된 PDMS(43)에 의하여 형성되며, 나머지 3면은 PDMS 틀(PDMS mold, 44)에 의하여 형성된다. PDMS로 제작된 마이크로유체관(40)의 모든 4면들에 산소 금지 층들(oxygen inhibition layers, 미도시)이 형성되어 있다. 산소 금지 층들은 마이크로구조물들이 자유 유동(free-flowing)하는 것을 가능하게 한다. 광경화성 액체(41)로서, 폴리에틸렌 글리콜 (400) 디아크릴레이드(Polyethylene glycol (400) diacrylate. Polyscience 사에서 생산된 PEG-DA)이 광개시제(photoinitiator)와 함께 사용되었으나, 다른 광경화성 또는 광소화성 폴리머도 사용가능하다. 광경화성 폴리머에 양자점과 같은 각종 반도체 나노입자, 또는 일반 나노입자, 또는 무기물 구조물, 미세한 반도체 회로칩, 이종의 폴리머 비드 등 다양한 입자들이 포함될 수 있다. 광경화성 액체(41)는 입구 관(inlet tube, 45), PDMS 틀(44)에 형성된 제1 구멍(46)을 경유하여 마이크로유체관(40)에 전달되며, 마이크로유체관(40)에서 경화된 마이크로구조물들은 경화되지 아니한 광경화성 액체(41)와 함께 PDMS 틀(44)에 형성된 제2 구멍(47) 및 출구 관(outlet tube, 48) 를 경유하여 외부로 전달된다. 관들(45,48)과 구멍들(46,47)은 각각 피펫 팁(pipette tip, 49)에 의하여 연결될 수 있다.
도 3은 본 발명의 실시예에 의한 광유체적 리소그래피 시스템에 의하여 생성된 마이크로구조물들을 나타내는 도면이다. 도 3에는 컴퓨터에 의하여 공간 광 변조기의 광 변조의 패턴이 변경됨으로써, 마이크로구조물들의 생성이 시간적 및 공간적으로 제어됨이 표현되어 있다.
도 3을 참조하면, 먼저, 광경화에 의하여 5개의 문자들 'BINEL'이 차례로 생성된다(도 3의 (a) 내지 (f)). 이와 같이 광유체적 리소그라피 시스템을 이용하면 임의의 모양을 가진 마이크로구조물들을 만들어 낼 수 있다. 도 3의 (a) 내지 (e)의 좌측 하단에는 공간 광 변조기(20)에 의하여 형성된 UV 패턴이 표시되어 있다.
도 4의 (a) 및 (b)는 본 발명의 실시예에 의한 광유체적 리소그래피 시스템에 의하여 마이크로구조물들이 생성되는 시간과 위치가 자유로이 실시간으로 제어되는 것을 보여주는 도면이다.
도 4의 (a)를 참조하면, 다양한 모양의 마이크로구조물들이 순차적으로 생성된다. 도 4의 (a)의 (i) 내지 (iv)의 좌측 하단에는 공간 광 변조기(20)에 의하여 형성된 UV 패턴이 표시되어 있다.
도 4의 (b)를 참조하면, 마이크로구조물들의 생성이 실시간으로 제어된다. PDMS 마이크로유체관이 준비되고, 나비모양이 노출되어 나비모양의 구조물이 만들 어진다(도 4의 (b)의 (i)). 나비가 하류로 흐르는 동안에, 나비가 표적이 되어, 나비 둘레에 원형 링모양을 노출하면 링모양 구조물이 생성된다(도 4의 (b)의 (ii)). 나비와 원형 링은 하류로 자유롭게 흐른다(도 4의 (b)의 (iii)). 이와 같은 마이크로구조물의 생성을 실시간으로 제어하는 것은 고정된 마스크를 쓰는 기존의 연속 흐름 리소그래피 기술에서는 불가능한 것이다. 도 4의 (b)의 (i) 및 (ii)의 좌측 하단에는 공간 광 변조기(20)에 의하여 형성된 UV 패턴이 표시되어 있다.
도 5는 본 발명의 실시예에 의한 광유체적 리소그래피 시스템을 이용하여 실제 노광 가능한 면적보다 큰 구조물을 만들어내는 예를 설명하기 위한 도면이다. 도 5의 (a)는 본 발명의 실시예에 의한 광유체적 리소그래피 시스템에 의하여 만들어진 선형의 구조물을 나타내고 있으며, (b) 및 (c)는 정현파 모양의 구조물을 나타내고 있으며, (d)는 체인 모양의 구조물을 나타내고 있으며, (e)는 정현파 모양의 구조물을 생성하기 위한 UV 빔의 이동을 나타내고 있다. 특히, 도 5의 (a)는 공간 광 변조기가 광의 모양을 고정함으로써 상기 마이크로유체관을 따라서 길게 형성된 선(line) 형태의 마이크로구조물을 생성하고 있으며, 도 5의 (b) 내지 (d)는 공간 광 변조기가 변조된 광의 모양을 연속적으로 바꿈으로써 마이크로유체관을 따라서 길게 형성된 마이크로구조물(정현파 형태 또는 체인 형태의 마이크로구조물)을 생성하고 있다.
도 5를 참조하면, UV 빔을 사용하여 마이크로유체관을 지속적으로 노광하면 도 5의 (a) 내지 (d)와 같은 모양을 생성할 수 있다. 특히 도 5의 (b) 내지 (d)와 같은 패턴을 형성하기 위해서는, 마치 동영상을 재생하듯이 공간 광 변조기에 의하여 표현되는 노광 패턴을 아래 위로 움직이면, 광경화성 액체가 계속 흘러가면서 만들어진 구조물이 이동하므로, 정현파 모양 또는 체인 모양의 긴 구조물이 만들어질 수 있다. 그림의 예에서는 100um 이하의 반지름의 노광 영역으로 수mm 이상의 길이의 마이크로구조물을 만들어 내었다. 원형의 노광 패턴뿐만 아니라 임의의 노광 패턴의 실시간 재생이 가능하므로, 도 5에 표현된 구조뿐만 아니라 임의의 모양의 구조물을 생성할 수 있다. 이와 같이 노광면적보다 큰 구조물을 임의의 모양으로 만들어 내는 것은 고정된 마스크를 쓰는 기존의 연속 흐름 리소그래피 기술에서는 불가능한 것이다.
도 6은 마이크로유체관에 여러 가지 다른 광경화성 액체를 흘리면서 다양한 조성의 마이크로구조물을 만들어 내는 예를 나타내는 도면이다. 도 6을 참조하면,Y모양으로 생긴 분지된 마이크로유체관에서 두가지 다른 물질의 광경화성 액체를 흘리면, 합쳐진 후에도 모세관의 성질에 의해 섞이지 않고 흐르게 된다. 광유체적 리소그라피 시스템을 이용하여 두 물질의 계면에 노광을 하면, 두 물질이 접합된 구조물을 만들 수 있으며, 또한, 각각 다른 조성을 가진 마이크로구조물들을 동시에 생산해 낼 수 있다.
도 7은 본 발명의 실시예에 의한 광유체적 리소그래피 시스템을 이용하여 제작된 마이크로구조물의 예를 나타내는 도면이다. 미세하게 제작된 반도체칩, 구조 물, 입자 등을 광경화성 액체와 함께 흘리면서, 광유체적 리소그래피를 실시함으로써, 도면에 표현된 바와 같이 미세하게 제작된 반도체칩, 구조물, 입자 등이 내장된 마이크로구조물을 생성할 수 있다. 구조물 및 입자는 예로서 폴리머로 제작될 수도 있으며, 무기물로 제작될 수도 있다.
본 발명에 의한 광유체적 리소그래피 시스템은, 새로운 모양의 구조물을 형성할 때마다 마스크를 교체하여야 하는 종래기술에 의한 광유체적 리소그래피 시스템과 비교하여, 마스크의 제작 및 마스크의 교체에 따른 비용을 절감할 수 있다는 장점이 있다.
또한, 본 발명에 의한 광유체적 리소그래피 시스템은 많은 종류의 마이크로구조물들을 한 번의 공정을 통하여 생산할 수 있다는 장점이 있다.
또한, 본 발명에 의한 광유체적 리소그래피 시스템은 마이크로구조물의 생성을 시간적 및 공간적으로 제어할 수 있다는 장점이 있다.
또한, 본 발명에 의한 광유체적 리소그라피 시스템은 노광 가능 면적보다 훨씬 크기가 큰 구조물을 임의의 모양으로 만들어 낼 수 있다는 장점이 있다.
또한, 본 발명의 의한 광유체적 리소그라피 시스템은 다양한 조성비를 가진 구조물을 한 마이크로유체관 안에서 생성해 낼 수 있다는 장점이 있다.

Claims (20)

  1. 광원;
    상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 공간 광 변조기;
    내부에 광경화성 액체가 흐르며, 상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광에 따라 상기 광경화성 액체를 선택적으로 경화하여 출력하는 마이크로유체관;
    상기 마이크로유체관의 이미지에 대응하는 전기적인 이미지 신호를 출력하는 카메라; 및
    상기 마이크로유체관에 비축 조명을 제공하는 조명기
    를 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 광원;
    상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 공간 광 변조기; 및
    내부에 광경화성 액체가 흐르며, 상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광에 따라 상기 광경화성 액체를 선택적으로 경화하여 출력하는 마이크로유체관을 포함하되,
    상기 공간 광 변조기는 상기 변조된 광을 상기 광경화성 액체에 지속적으로 노광함으로써, 상기 공간 광 변조기의 노광 가능한 면적보다 큰 구조의 마이크로구조물-상기 마이크로구조물은 상기 광경화성 액체의 경화에 의하여 생성됨-을 생성하는 광유체적 리소그래피 시스템.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 마이크로구조물은 상기 마이크로유체관을 따라 길게 형성되는 광유체적 리소그래피 시스템.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 공간 광 변조기에 의하여 상기 광경화성 액체에 지속적으로 제공되는 상기 변조된 광의 모양 또는 크기를 연속적으로 바꿈으로써, 상기 마이크로구조물의 높이-상기 높이는 상기 마이크로유체관의 내부에 흐르는 유체의 흐름에 수직 방향의 상기 마이크로구조물의 길이임-가 상기 마이크로유체관을 따라 변화하는 광유체적 리소그래피 시스템.
  9. 삭제
  10. 광원;
    상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 공간 광 변조기; 및
    내부에 광경화성 액체가 흐르며, 상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광에 따라 상기 광경화성 액체를 선택적으로 경화하여 출력하는 마이크로유체관을 포함하되,
    반도체 나노입자, 일반 나노입자, 무기물 구조물, 미세한 반도체 회로칩 및 이종의 폴리머 비드 중 적어도 어느 하나를 상기 광경화성 액체와 함께 상기 마이크로 유체관에 흘림으로써, 상기 광경화성 액체의 경화에 의하여 생성되는 마이크로구조물이 상기 반도체 나노입자, 상기 일반 나노입자, 상기 무기물 구조물, 상기 미세한 반도체 회로칩 및 상기 이종의 폴리머 비드 중 적어도 어느 하나를 내부에 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템.
  11. 광원;
    상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 공간 광 변조기; 및
    내부에 광경화성 액체가 흐르며, 상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광에 따라 상기 광경화성 액체를 선택적으로 경화하여 출력하는 마이크로유체관을 포함하되,
    상기 공간 광 변조기는 마이크로구조물-상기 마이크로구조물은 상기 광경화성 액체의 경화에 의하여 생성됨-에 추가적인 변조된 광-상기 추가적인 변조된 광은 상기 공간 광 변조기에서 제공됨-을 제공함으로써, 상기 마이크로구조물의 내부에 추가적인 마이크로구조물-상기 추가적인 마이크로구조물은 상기 마이크로구조물 내부에 위치하는 경화되지 않은 상기 광경화성 액체의 경화에 의하여 생성됨-을 생성하는 광유체적 리소그래피 시스템.
  12. 광원;
    상기 광원에서 제공되는 광을 변조하는 공간 광 변조기; 및
    내부에 복수의 광경화성 액체들이 서로 계면을 형성하며 흐르고, 상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광에 따라 상기 복수의 광경화성 액체들을 선택적으로 경화하여 출력하는 마이크로유체관을 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 마이크로유체관의 일단은 Y 모양으로 생긴 분지된 관을 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템.
  14. 제6항, 제10항, 제11항 또는 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공간 광 변조기는 디지털 마이크로미러 어레이를 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템.
  15. 제6항, 제10항, 제11항 또는 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공간 광 변조기는 프로그램 가능한(programmable) 공간 광 변조기를 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템.
  16. 제6항, 제10항, 제11항 또는 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마이크로유체관은 이를 둘러싼 PDMS에 의하여 형성된 광유체적 리소그래피 시스템.
  17. 제6항, 제10항, 제11항 또는 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마이크로유체관의 4면에는 산소 금지 층들이 형성된 광유체적 리소그래피 시스템.
  18. 제6항, 제10항, 제11항 또는 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 공간 광 변조기에서 제공되는 상기 변조된 광을 축소하여 상기 마이크로유체관에 제공하는 축소 렌즈를 더 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 마이크로유체관의 이미지에 대응하는 전기적인 이미지 신호를 출력하는 카메라; 및
    상기 공간 광 변조기로부터 제공되는 상기 변조된 광을 상기 축소 렌즈를 경유하여 상기 마이크로유체관에 제공하고, 상기 마이크로유체관으로부터 상기 축소 렌즈를 경유하여 전달된 상기 마이크로유체관의 상기 이미지를 상기 카메라에 제공하는 빔 분리기를 더 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 마이크로유체관에 비축 조명을 제공하는 조명기를 더 포함하는 광유체적 리소그래피 시스템.
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