JP2008508720A - インジウムを含むキャッピング構造を有する第iii属窒化物ベースの量子井戸発光デバイス構造 - Google Patents
インジウムを含むキャッピング構造を有する第iii属窒化物ベースの量子井戸発光デバイス構造 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008508720A JP2008508720A JP2007523569A JP2007523569A JP2008508720A JP 2008508720 A JP2008508720 A JP 2008508720A JP 2007523569 A JP2007523569 A JP 2007523569A JP 2007523569 A JP2007523569 A JP 2007523569A JP 2008508720 A JP2008508720 A JP 2008508720A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- group iii
- iii nitride
- type
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/26—Materials of the light emitting region
- H01L33/30—Materials of the light emitting region containing only elements of group III and group V of the periodic system
- H01L33/32—Materials of the light emitting region containing only elements of group III and group V of the periodic system containing nitrogen
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/04—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a quantum effect structure or superlattice, e.g. tunnel junction
- H01L33/06—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a quantum effect structure or superlattice, e.g. tunnel junction within the light emitting region, e.g. quantum confinement structure or tunnel barrier
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/04—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a quantum effect structure or superlattice, e.g. tunnel junction
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Led Devices (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
Description
Claims (46)
- 第III属窒化物ベースの発光デバイスであって、
n型第III属窒化物層と、
少なくとも1つの量子井戸構造を有する、前記n型第III属窒化物層上の第III属窒化物ベースの活性領域と、
前記活性領域上のインジウムを含む第III属窒化物層と、
前記インジウムを含む第III属窒化物層上のアルミニウムを含むp型第III属窒化物層と、
前記n型第III属窒化物層上の第1の接点と、
前記p型第III属窒化物層上の第2の接点とを含むことを特徴とする発光デバイス。 - 前記インジウムを含む第III属窒化物層は、さらにアルミニウムを含むことを特徴とする請求項1に記載の発光デバイス。
- 前記インジウムを含む第III属窒化物層は、InAlGaNを含むことを特徴とする請求項2に記載の発光デバイス。
- 前記インジウムを含む第III属窒化物層は、InGaNを含むことを特徴とする請求項2に記載の発光デバイス。
- 前記インジウムを含む第III属窒化物層は、約20Åから約320Åの厚みであることを特徴とする請求項1に記載の発光デバイス。
- 前記インジウムを含む第III属窒化物層は、前記活性領域に近接する領域内に存在するより、前記活性領域から遠位の領域により高いAl組成を有するInAlGaN層を含むことを特徴とする請求項1に記載の発光デバイス。
- 前記InAlGaN層は、連続的に勾配がつけられることを特徴とする請求項6に記載の発光デバイス。
- 前記InAlGaN層は、異なるAl組成を有する複数のInAlGaN層を含むことを特徴とする請求項6に記載の発光デバイス。
- 前記インジウムを含む第III属窒化物層は、
InxAlyGa1-x-yNの第1の層を含み、ここで0<x≦0.2であり、かつ0≦y≦0.4であり、さらに、
InwAlzGa1-w-zNの第2の層を含み、ここで0<w≦0.2であり、かつy≦z<1であることを特徴とする請求項1に記載の発光デバイス。 - 前記第1の層は、約10Åから約200Åの厚みを有し、前記第2の層は、約10Åから約120Åの厚みを有することを特徴とする請求項9に記載の発光デバイス。
- 前記第1の層は、約80Åの厚みを有し、x=0.1、およびy=0.25であり、前記第2の層は、約30Åの厚みを有し、w=0.05、およびz=0.55であることを特徴とする請求項10に記載の発光デバイス。
- 前記第2の接点と前記アルミニウムを含むp型第III属窒化物層との間に配置されたp型第III属窒化物層をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の発光デバイス。
- 前記第2の接点と前記アルミニウムを含むp型第III属窒化物層との間に配置された前記p型第III属窒化物層は、インジウムも含むことを特徴とする請求項12に記載の発光デバイス。
- 前記アルミニウムを含むp型第III属窒化物層は、インジウムも含むことを特徴とする請求項1に記載の発光デバイス。
- 前記第1の接点と前記n型第III属窒化物層との間に配置された炭化シリコン基板をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の発光デバイス。
- 発光デバイスであって、
基板上のn型窒化ガリウムベースの層と、
少なくとも1つの量子井戸構造を有する、前記n型窒化ガリウムベースの層上の窒化ガリウムベースの活性領域と、
前記活性領域上のインジウムを含む窒化ガリウムベースの層と、
前記インジウムを含む窒化ガリウムベースの層上のアルミニウムを含むp型窒化ガリウムベースの層と、
前記n型窒化ガリウムベースの層上の第1の接点と、
前記p型窒化ガリウムベースの層上の第2の接点とを含むことを特徴とする発光デバイス。 - 前記n型窒化ガリウム層は、
前記基板上のn型AlGaN層と、
前記n型AlGaN層上のn型GaN層とを含むことを特徴とする請求項16に記載の発光デバイス。 - 前記窒化ガリウムベースの活性領域は、複数のInGaN/GaN量子井戸を含むことを特徴とする請求項17に記載の発光デバイス。
- 前記p型窒化ガリウムベースの層は、
前記インジウムを含む窒化ガリウムベースの層上のp型AlGaN層と、
前記p型AlGaN層上のp型GaN層とを含み、
前記第2の接点は、前記p型GaN層上にあることを特徴とする請求項18に記載の発光デバイス。 - 前記インジウムを含む窒化ガリウムベースの層は、
InxAlyGa1-x-yNの第1の層を含み、ここで0<x≦0.2であり、かつ0≦y≦0.4であり、さらに、
InwAlzGa1-w-zNの第2の層を含み、ここで0<w≦0.2であり、かつy≦z<1であることを特徴とする請求項19に記載の発光デバイス。 - 前記第1の層は、約10Åから約200Åの厚みを有し、前記第2の層は、約10Åから約120Åの厚みを有することを特徴とする請求項20に記載の発光デバイス。
- 前記第1の層は、約80Åの厚みを有し、x=0.1、およびy=0.25であり、前記第2の層は、約30Åの厚みを有し、w=0.05、およびz=0.55であることを特徴とする請求項21に記載の発光デバイス。
- 前記基板は、炭化シリコンを含み、前記第1の接点は、前記n型AlGaN層に対向する前記炭化シリコン基板上にあることを特徴とする請求項19に記載の発光デバイス。
- 第III属窒化物ベースの発光デバイスを製造する方法であって、
n型第III属窒化物層を形成するステップと、
前記n型第III属窒化物層上に、少なくとも1つの量子井戸構造を有する第III属窒化物ベースの活性領域を形成するステップと、
前記活性領域上にインジウムを含む第III属窒化物層を形成するステップと、
前記インジウムを含む第III属窒化物層上にアルミニウムを含むp型第III属窒化物層を形成するステップと、
前記n型第III属窒化物層上に第1の接点を形成するステップと、
前記p型第III属窒化物層上に第2の接点を形成するステップとを含むことを特徴とする方法。 - インジウムを含む第III属窒化物層を形成するステップは、インジウムおよびアルミニウムを含む第III属窒化物層を形成するステップを含むことを特徴とする請求項24に記載の方法。
- インジウムおよびアルミニウムを含む第III属窒化物層を形成するステップは、InAlGaN層を形成するステップを含むことを特徴とする請求項25に記載の方法。
- インジウムおよびアルミニウムを含む第III属窒化物層を形成するステップは、InGaN層を形成するステップを含むことを特徴とする請求項25に記載の方法。
- 前記インジウムを含む第III属窒化物層は、約20Åから約320Åの厚みであることを特徴とする請求項24に記載の方法。
- インジウムを含む第III属窒化物層を形成するステップは、前記活性領域に近接する領域内に存在するより、前記活性領域から遠位の領域により高いAl組成を有するInAlGaN層を形成するステップを含むことを特徴とする請求項24に記載の方法。
- 前記InAlGaN層は、連続的に勾配がつけられることを特徴とする請求項29に記載の方法。
- InAlGaN層を形成するステップは、異なるAl組成を有する複数のInAlGaN層を形成するステップを含むことを特徴とする請求項29に記載の方法。
- インジウムを含む第III属窒化物層を形成するステップは、
InxAlyGa1-x-yNの第1の層を形成するステップを含み、ここで0<x≦0.2であり、かつ0≦y≦0.4であり、さらに、
InwAlzGa1-w-zNの第2の層を形成するステップを含み、ここで0<w≦0.2であり、かつy≦z<1であることを特徴とする請求項24に記載の方法。 - 前記第1の層は、約10Åから約200Åの厚みを有し、前記第2の層は、約10Åから約120Åの厚みを有することを特徴とする請求項32に記載の方法。
- 前記第1の層は、約80Åの厚みを有し、x=0.1、およびy=0.25であり、前記第2の層は、約30Åの厚みを有し、w=0.05、およびz=0.55であることを特徴とする請求項33に記載の方法。
- 前記第2の接点と前記アルミニウムを含むp型第III属窒化物層との間に配置されたp型第III属窒化物層を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項24に記載の方法。
- 前記第2の接点と前記アルミニウムを含むp型第III属窒化物層との間に配置された前記p型第III属窒化物層は、インジウムも含むことを特徴とする請求項35に記載の方法。
- 前記アルミニウムを含むp型第III属窒化物層は、インジウムも含むことを特徴とする請求項24に記載の方法。
- n型第III属窒化物層を形成するステップは、炭化シリコン基板上にn型第III属窒化物層を形成するステップを含み、第1の接点を形成するステップは、前記n型第III属窒化物層に対向する前記炭化シリコン基板上に第1の接点を形成するステップを含むことを特徴とする請求項24に記載の方法。
- 発光デバイスを製造する方法であって、
基板上にn型窒化ガリウムベースの層を形成するステップと、
前記n型窒化ガリウムベースの層上に、少なくとも1つの量子井戸構造を有する窒化ガリウムベースの活性領域を形成するステップと、
前記活性領域上にインジウムを含む窒化ガリウムベースの層を形成するステップと、
前記インジウムを含む窒化ガリウムベースの層上にアルミニウムを含むp型窒化ガリウムベースの層を形成するステップと、
前記n型窒化ガリウムベースの層上に第1の接点を形成するステップと、
前記p型窒化ガリウムベースの層上に第2の接点を形成するステップとを含むことを特徴とする方法。 - n型窒化ガリウム層を形成するステップは、
前記基板上にn型AlGaN層を形成するステップと、
前記n型AlGaN層上にn型GaN層を形成するステップとを含むことを特徴とする請求項39に記載の方法。 - 窒化ガリウムベースの活性領域を形成するステップは、複数のInGaN/GaN量子井戸を形成するステップを含むことを特徴とする請求項40に記載の方法。
- p型窒化ガリウムベースの層を形成するステップは、
前記インジウムを含む窒化ガリウムベースの層上にp型AlGaN層を形成するステップと、
前記p型AlGaN層上にp型GaN層を形成するステップとを含み、
第2の接点を形成するステップは、前記p型GaN層上に第2の接点を形成するステップを含むことを特徴とする請求項40に記載の方法。 - インジウムを含む窒化ガリウムベースの層を形成するステップは、
InxAlyGa1-x-yNの第1の層を形成するステップを含み、ここで0<x≦0.2であり、かつ0≦y≦0.4であり、さらに、
InwAlzGa1-w-zNの第2の層を形成するステップを含み、ここで0<w≦0.2であり、かつy≦z<1であることを特徴とする請求項42に記載の方法。 - 前記第1の層は、約10Åから約200Åの厚みを有し、前記第2の層は、約10Åから約120Åの厚みを有することを特徴とする請求項43に記載の方法。
- 前記第1の層は、約80Åの厚みを有し、x=0.1、およびy=0.25であり、前記第2の層は、約30Åの厚みを有し、w=0.05、およびz=0.55であることを特徴とする請求項44に記載の方法。
- 前記基板は、炭化シリコンを含み、第1の接点を形成するステップは、前記n型AlGaN層に対向する前記炭化シリコン基板上に第1の接点を形成するステップを含むことを特徴とする請求項42に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/899,791 US7692182B2 (en) | 2001-05-30 | 2004-07-27 | Group III nitride based quantum well light emitting device structures with an indium containing capping structure |
PCT/US2005/022597 WO2006023060A2 (en) | 2004-07-27 | 2005-06-24 | Group iii nitride based quantum well light emitting device structures with an indium containing capping structure |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011182184A Division JP2012015535A (ja) | 2004-07-27 | 2011-08-24 | インジウムを含むキャッピング構造を有する第iii属窒化物ベースの量子井戸発光デバイス構造 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008508720A true JP2008508720A (ja) | 2008-03-21 |
JP2008508720A5 JP2008508720A5 (ja) | 2010-08-05 |
Family
ID=35115753
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007523569A Pending JP2008508720A (ja) | 2004-07-27 | 2005-06-24 | インジウムを含むキャッピング構造を有する第iii属窒化物ベースの量子井戸発光デバイス構造 |
JP2011182184A Pending JP2012015535A (ja) | 2004-07-27 | 2011-08-24 | インジウムを含むキャッピング構造を有する第iii属窒化物ベースの量子井戸発光デバイス構造 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011182184A Pending JP2012015535A (ja) | 2004-07-27 | 2011-08-24 | インジウムを含むキャッピング構造を有する第iii属窒化物ベースの量子井戸発光デバイス構造 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7692182B2 (ja) |
EP (5) | EP2242117B1 (ja) |
JP (2) | JP2008508720A (ja) |
KR (4) | KR101388369B1 (ja) |
CN (1) | CN101006590A (ja) |
CA (1) | CA2567739C (ja) |
TW (2) | TWI394288B (ja) |
WO (1) | WO2006023060A2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012044194A (ja) * | 2011-09-15 | 2012-03-01 | Toshiba Corp | 半導体発光素子、ウェーハ、半導体発光素子の製造方法及びウェーハの製造方法 |
JP2012060170A (ja) * | 2011-12-16 | 2012-03-22 | Toshiba Corp | 半導体発光素子及びその製造方法 |
JP2012138626A (ja) * | 2005-04-29 | 2012-07-19 | Cree Inc | 開いたピット中に延びる能動層を有する発光デバイス及びその製造方法 |
JP2013021377A (ja) * | 2012-11-02 | 2013-01-31 | Toshiba Corp | 半導体発光素子 |
US8461606B2 (en) | 2010-03-08 | 2013-06-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor light-emitting device and method for manufacturing same |
Families Citing this family (93)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6958497B2 (en) * | 2001-05-30 | 2005-10-25 | Cree, Inc. | Group III nitride based light emitting diode structures with a quantum well and superlattice, group III nitride based quantum well structures and group III nitride based superlattice structures |
KR20050054482A (ko) * | 2002-06-26 | 2005-06-10 | 암모노 에스피. 제트오. 오. | 질화물 반도체 레이저 디바이스 및 그의 성능을향상시키기 위한 방법 |
US7557380B2 (en) * | 2004-07-27 | 2009-07-07 | Cree, Inc. | Light emitting devices having a reflective bond pad and methods of fabricating light emitting devices having reflective bond pads |
CN100511737C (zh) * | 2004-09-28 | 2009-07-08 | 住友化学株式会社 | Ⅲ-ⅴ族化合物半导体及其制备方法 |
KR101319512B1 (ko) * | 2005-05-02 | 2013-10-21 | 니치아 카가쿠 고교 가부시키가이샤 | 질화물계 반도체 소자 및 그 제조방법 |
DE102005037022A1 (de) * | 2005-06-28 | 2007-01-04 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Strahlungsemittierender optoelektronischer Halbleiterchip mit einer Diffusionsbarriere |
US20060289891A1 (en) * | 2005-06-28 | 2006-12-28 | Hutchins Edward L | Electronic and/or optoelectronic devices grown on free-standing GaN substrates with GaN spacer structures |
EP2034524A1 (en) * | 2006-05-26 | 2009-03-11 | Rohm Co., Ltd. | Nitride semiconductor light emitting element |
DE102006025964A1 (de) * | 2006-06-02 | 2007-12-06 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Mehrfachquantentopfstruktur, strahlungsemittierender Halbleiterkörper und strahlungsemittierendes Bauelement |
PL1883119T3 (pl) * | 2006-07-27 | 2016-04-29 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Półprzewodnikowa struktura warstwowa z supersiecią |
EP1883140B1 (de) * | 2006-07-27 | 2013-02-27 | OSRAM Opto Semiconductors GmbH | LD oder LED mit Übergitter-Mantelschicht und Dotierungsgradienten |
EP1883141B1 (de) * | 2006-07-27 | 2017-05-24 | OSRAM Opto Semiconductors GmbH | LD oder LED mit Übergitter-Mantelschicht |
JP4948134B2 (ja) * | 2006-11-22 | 2012-06-06 | シャープ株式会社 | 窒化物半導体発光素子 |
US7547908B2 (en) * | 2006-12-22 | 2009-06-16 | Philips Lumilieds Lighting Co, Llc | III-nitride light emitting devices grown on templates to reduce strain |
US8026517B2 (en) * | 2007-05-10 | 2011-09-27 | Industrial Technology Research Institute | Semiconductor structures |
DE102007031926A1 (de) | 2007-07-09 | 2009-01-15 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Strahlungsemittierender Halbleiterkörper |
KR100838196B1 (ko) * | 2007-07-20 | 2008-06-13 | 서울옵토디바이스주식회사 | 개선된 구조를 갖는 발광 다이오드 |
WO2009039402A1 (en) * | 2007-09-19 | 2009-03-26 | The Regents Of The University Of California | (al,in,ga,b)n device structures on a patterned substrate |
JP5437253B2 (ja) * | 2007-10-12 | 2014-03-12 | エイジェンシー フォア サイエンス テクノロジー アンド リサーチ | 蛍光体を含まない赤色及び白色窒化物ベースのledの作製 |
KR100961109B1 (ko) * | 2008-02-11 | 2010-06-07 | 삼성엘이디 주식회사 | GaN계 반도체 발광소자 |
KR101017396B1 (ko) * | 2008-08-20 | 2011-02-28 | 서울옵토디바이스주식회사 | 변조도핑층을 갖는 발광 다이오드 |
CN101488550B (zh) * | 2009-02-27 | 2010-10-13 | 上海蓝光科技有限公司 | 高In组分多InGaN/GaN量子阱结构的LED的制造方法 |
US8536615B1 (en) | 2009-12-16 | 2013-09-17 | Cree, Inc. | Semiconductor device structures with modulated and delta doping and related methods |
US8604461B2 (en) * | 2009-12-16 | 2013-12-10 | Cree, Inc. | Semiconductor device structures with modulated doping and related methods |
JP5709899B2 (ja) | 2010-01-05 | 2015-04-30 | ソウル バイオシス カンパニー リミテッドSeoul Viosys Co.,Ltd. | 発光ダイオード及びその製造方法 |
US8575592B2 (en) * | 2010-02-03 | 2013-11-05 | Cree, Inc. | Group III nitride based light emitting diode structures with multiple quantum well structures having varying well thicknesses |
CA2814119C (en) | 2010-10-12 | 2017-01-17 | Alliance For Sustainable Energy, Llc | High bandgap iii-v alloys for high efficiency optoelectronics |
US9496454B2 (en) | 2011-03-22 | 2016-11-15 | Micron Technology, Inc. | Solid state optoelectronic device with plated support substrate |
US9263636B2 (en) | 2011-05-04 | 2016-02-16 | Cree, Inc. | Light-emitting diode (LED) for achieving an asymmetric light output |
JP5598437B2 (ja) * | 2011-07-12 | 2014-10-01 | 豊田合成株式会社 | Iii族窒化物半導体発光素子の製造方法 |
US8648384B2 (en) * | 2011-07-25 | 2014-02-11 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device |
US8957440B2 (en) | 2011-10-04 | 2015-02-17 | Cree, Inc. | Light emitting devices with low packaging factor |
KR20130078345A (ko) * | 2011-12-30 | 2013-07-10 | 일진엘이디(주) | 스트레인 완충층을 이용하여 발광효율이 우수한 질화물계 발광소자 |
KR20130079873A (ko) * | 2012-01-03 | 2013-07-11 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광소자 및 이를 포함하는 조명시스템 |
WO2013170016A1 (en) * | 2012-05-09 | 2013-11-14 | The Regents Of The University Of California | Light-emitting diodes with low temperature dependence |
US8814376B2 (en) | 2012-09-26 | 2014-08-26 | Apogee Translite, Inc. | Lighting devices |
KR101936312B1 (ko) * | 2012-10-09 | 2019-01-08 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광소자 |
JP5991176B2 (ja) * | 2012-12-04 | 2016-09-14 | 豊田合成株式会社 | Iii族窒化物半導体発光素子の製造方法 |
US8882298B2 (en) | 2012-12-14 | 2014-11-11 | Remphos Technologies Llc | LED module for light distribution |
US9182091B2 (en) | 2012-12-14 | 2015-11-10 | Remphos Technologies Llc | LED panel light fixture |
CN103107256B (zh) * | 2012-12-21 | 2016-03-30 | 湘能华磊光电股份有限公司 | 一种led外延片 |
CN103187497B (zh) * | 2013-01-28 | 2015-11-25 | 上海博恩世通光电股份有限公司 | 一种提高大尺寸芯片光效的外延结构及其生长方法 |
JP5928366B2 (ja) * | 2013-02-13 | 2016-06-01 | 豊田合成株式会社 | Iii族窒化物半導体の製造方法 |
CN103236477B (zh) * | 2013-04-19 | 2015-08-12 | 安徽三安光电有限公司 | 一种led外延结构及其制备方法 |
US10139059B2 (en) | 2014-02-18 | 2018-11-27 | DMF, Inc. | Adjustable compact recessed lighting assembly with hangar bars |
US10563850B2 (en) | 2015-04-22 | 2020-02-18 | DMF, Inc. | Outer casing for a recessed lighting fixture |
US11255497B2 (en) | 2013-07-05 | 2022-02-22 | DMF, Inc. | Adjustable electrical apparatus with hangar bars for installation in a building |
US10551044B2 (en) | 2015-11-16 | 2020-02-04 | DMF, Inc. | Recessed lighting assembly |
US11060705B1 (en) | 2013-07-05 | 2021-07-13 | DMF, Inc. | Compact lighting apparatus with AC to DC converter and integrated electrical connector |
US11435064B1 (en) | 2013-07-05 | 2022-09-06 | DMF, Inc. | Integrated lighting module |
US9964266B2 (en) | 2013-07-05 | 2018-05-08 | DMF, Inc. | Unified driver and light source assembly for recessed lighting |
US10753558B2 (en) | 2013-07-05 | 2020-08-25 | DMF, Inc. | Lighting apparatus and methods |
KR20160060749A (ko) | 2013-09-23 | 2016-05-30 | 센서 일렉트로닉 테크놀로지, 인크 | 광전자 디바이스를 위한 iii 족 질화물 헤테로구조체 |
JP6010869B2 (ja) | 2013-09-25 | 2016-10-19 | 豊田合成株式会社 | Iii 族窒化物半導体発光素子 |
CN103872197B (zh) * | 2014-03-20 | 2017-07-11 | 西安神光皓瑞光电科技有限公司 | 一种提升GaN基LED芯片抗静电能力的外延生长方法 |
TWI550902B (zh) * | 2014-04-02 | 2016-09-21 | 國立交通大學 | 發光二極體元件 |
US10797204B2 (en) | 2014-05-30 | 2020-10-06 | Cree, Inc. | Submount based light emitter components and methods |
TW201603315A (zh) * | 2014-07-14 | 2016-01-16 | 晶元光電股份有限公司 | 發光元件 |
KR102237111B1 (ko) * | 2014-07-28 | 2021-04-08 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광소자 및 조명시스템 |
CN104319321B (zh) * | 2014-10-27 | 2017-02-08 | 苏州新纳晶光电有限公司 | 间断式退火同温生长多量子阱led外延结构及制作方法 |
US9985168B1 (en) | 2014-11-18 | 2018-05-29 | Cree, Inc. | Group III nitride based LED structures including multiple quantum wells with barrier-well unit interface layers |
KR101622097B1 (ko) * | 2014-12-01 | 2016-05-18 | 전북대학교산학협력단 | 질화물계 반도체 발광소자 및 이의 제조 방법 |
CN104659170B (zh) * | 2015-01-29 | 2019-01-18 | 华灿光电(苏州)有限公司 | 一种发光二极管外延片及其制备方法 |
EP3289281A1 (en) | 2015-04-30 | 2018-03-07 | Cree, Inc. | Solid state lighting components |
JP2016219547A (ja) * | 2015-05-18 | 2016-12-22 | ローム株式会社 | 半導体発光素子 |
CA3102022C (en) | 2015-05-29 | 2023-04-25 | DMF, Inc. | Lighting module for recessed lighting systems |
KR101713426B1 (ko) * | 2015-07-24 | 2017-03-08 | 전남대학교산학협력단 | 발광 다이오드 및 이의 제조방법 |
USD851046S1 (en) | 2015-10-05 | 2019-06-11 | DMF, Inc. | Electrical Junction Box |
DE102016117477A1 (de) * | 2016-09-16 | 2018-03-22 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Halbleiterschichtenfolge |
KR101996424B1 (ko) * | 2017-04-24 | 2019-07-04 | 아주대학교산학협력단 | 레이저 다이오드 및 그 제조 방법 |
WO2018237294A2 (en) | 2017-06-22 | 2018-12-27 | DMF, Inc. | THIN-PROFILE SURFACE MOUNTING LIGHTING DEVICE |
USD905327S1 (en) | 2018-05-17 | 2020-12-15 | DMF, Inc. | Light fixture |
US10488000B2 (en) | 2017-06-22 | 2019-11-26 | DMF, Inc. | Thin profile surface mount lighting apparatus |
US11067231B2 (en) | 2017-08-28 | 2021-07-20 | DMF, Inc. | Alternate junction box and arrangement for lighting apparatus |
CN111670322B (zh) | 2017-11-28 | 2022-04-26 | Dmf股份有限公司 | 可调整的吊架杆组合件 |
WO2019133669A1 (en) | 2017-12-27 | 2019-07-04 | DMF, Inc. | Methods and apparatus for adjusting a luminaire |
FR3078442B1 (fr) * | 2018-02-26 | 2023-02-10 | Valeo Vision | Source lumineuse electroluminescente destinee a etre alimentee par une source de tension |
USD877957S1 (en) | 2018-05-24 | 2020-03-10 | DMF Inc. | Light fixture |
WO2019241198A1 (en) | 2018-06-11 | 2019-12-19 | DMF, Inc. | A polymer housing for a recessed lighting system and methods for using same |
USD903605S1 (en) | 2018-06-12 | 2020-12-01 | DMF, Inc. | Plastic deep electrical junction box |
US11393948B2 (en) | 2018-08-31 | 2022-07-19 | Creeled, Inc. | Group III nitride LED structures with improved electrical performance |
WO2020072592A1 (en) | 2018-10-02 | 2020-04-09 | Ver Lighting Llc | A bar hanger assembly with mating telescoping bars |
USD1012864S1 (en) | 2019-01-29 | 2024-01-30 | DMF, Inc. | Portion of a plastic deep electrical junction box |
USD901398S1 (en) | 2019-01-29 | 2020-11-10 | DMF, Inc. | Plastic deep electrical junction box |
USD864877S1 (en) | 2019-01-29 | 2019-10-29 | DMF, Inc. | Plastic deep electrical junction box with a lighting module mounting yoke |
USD966877S1 (en) | 2019-03-14 | 2022-10-18 | Ver Lighting Llc | Hanger bar for a hanger bar assembly |
WO2021051101A1 (en) | 2019-09-12 | 2021-03-18 | DMF, Inc. | Miniature lighting module and lighting fixtures using same |
US11557695B2 (en) | 2020-02-04 | 2023-01-17 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Single chip multi band LED |
US20210328100A1 (en) * | 2020-04-16 | 2021-10-21 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Single chip multi band led |
US11621370B2 (en) * | 2020-06-19 | 2023-04-04 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Single chip multi band led and application thereof |
USD990030S1 (en) | 2020-07-17 | 2023-06-20 | DMF, Inc. | Housing for a lighting system |
CA3124976A1 (en) | 2020-07-17 | 2022-01-17 | DMF, Inc. | Polymer housing for a lighting system and methods for using same |
US11585517B2 (en) | 2020-07-23 | 2023-02-21 | DMF, Inc. | Lighting module having field-replaceable optics, improved cooling, and tool-less mounting features |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09266326A (ja) * | 1996-03-27 | 1997-10-07 | Toyoda Gosei Co Ltd | 3族窒化物化合物半導体発光素子 |
JPH09331116A (ja) * | 1996-04-11 | 1997-12-22 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体発光素子 |
JP2002374043A (ja) * | 2001-04-12 | 2002-12-26 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化ガリウム系化合物半導体素子 |
JP2004186708A (ja) * | 2004-03-17 | 2004-07-02 | Sharp Corp | 窒化ガリウム系半導体レーザ素子 |
Family Cites Families (84)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US615389A (en) * | 1898-12-06 | Wristlet | ||
US604646A (en) * | 1898-05-24 | Liams | ||
JPH0614564B2 (ja) * | 1987-07-13 | 1994-02-23 | 日本電信電話株式会社 | 半導体発光素子 |
US5818072A (en) * | 1992-05-12 | 1998-10-06 | North Carolina State University | Integrated heterostructure of group II-VI semiconductor materials including epitaxial ohmic contact and method of fabricating same |
US5351255A (en) * | 1992-05-12 | 1994-09-27 | North Carolina State University Of Raleigh | Inverted integrated heterostructure of group II-VI semiconductor materials including epitaxial ohmic contact and method of fabricating same |
US5323022A (en) * | 1992-09-10 | 1994-06-21 | North Carolina State University | Platinum ohmic contact to p-type silicon carbide |
JP2932467B2 (ja) | 1993-03-12 | 1999-08-09 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 |
JP2932468B2 (ja) | 1993-12-10 | 1999-08-09 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 |
US5393993A (en) * | 1993-12-13 | 1995-02-28 | Cree Research, Inc. | Buffer structure between silicon carbide and gallium nitride and resulting semiconductor devices |
JP2800666B2 (ja) | 1993-12-17 | 1998-09-21 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化ガリウム系化合物半導体レーザ素子 |
US5679152A (en) * | 1994-01-27 | 1997-10-21 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method of making a single crystals Ga*N article |
US6005258A (en) * | 1994-03-22 | 1999-12-21 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Light-emitting semiconductor device using group III Nitrogen compound having emission layer doped with donor and acceptor impurities |
JP2956489B2 (ja) | 1994-06-24 | 1999-10-04 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化ガリウム系化合物半導体の結晶成長方法 |
JP2890390B2 (ja) | 1994-07-06 | 1999-05-10 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 |
US5523589A (en) * | 1994-09-20 | 1996-06-04 | Cree Research, Inc. | Vertical geometry light emitting diode with group III nitride active layer and extended lifetime |
JP2790242B2 (ja) | 1994-10-07 | 1998-08-27 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体発光ダイオード |
US5777350A (en) * | 1994-12-02 | 1998-07-07 | Nichia Chemical Industries, Ltd. | Nitride semiconductor light-emitting device |
JP2921746B2 (ja) | 1995-01-31 | 1999-07-19 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体レーザ素子 |
US5661074A (en) * | 1995-02-03 | 1997-08-26 | Advanced Technology Materials, Inc. | High brightness electroluminescent device emitting in the green to ultraviolet spectrum and method of making the same |
US5585648A (en) * | 1995-02-03 | 1996-12-17 | Tischler; Michael A. | High brightness electroluminescent device, emitting in the green to ultraviolet spectrum, and method of making the same |
JP2890396B2 (ja) | 1995-03-27 | 1999-05-10 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体発光素子 |
US5670798A (en) * | 1995-03-29 | 1997-09-23 | North Carolina State University | Integrated heterostructures of Group III-V nitride semiconductor materials including epitaxial ohmic contact non-nitride buffer layer and methods of fabricating same |
US5679965A (en) * | 1995-03-29 | 1997-10-21 | North Carolina State University | Integrated heterostructures of Group III-V nitride semiconductor materials including epitaxial ohmic contact, non-nitride buffer layer and methods of fabricating same |
JP3135041B2 (ja) | 1995-09-29 | 2001-02-13 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体発光素子 |
JP2891348B2 (ja) | 1995-11-24 | 1999-05-17 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体レーザ素子 |
JP2900990B2 (ja) | 1995-11-24 | 1999-06-02 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体発光素子 |
JP3371830B2 (ja) | 1995-11-24 | 2003-01-27 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体発光素子 |
JP3298390B2 (ja) | 1995-12-11 | 2002-07-02 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体多色発光素子の製造方法 |
JP3635757B2 (ja) * | 1995-12-28 | 2005-04-06 | 昭和電工株式会社 | AlGaInP発光ダイオード |
US5874747A (en) * | 1996-02-05 | 1999-02-23 | Advanced Technology Materials, Inc. | High brightness electroluminescent device emitting in the green to ultraviolet spectrum and method of making the same |
JP3366188B2 (ja) | 1996-05-21 | 2003-01-14 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体素子 |
JPH1012969A (ja) | 1996-06-19 | 1998-01-16 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体レーザ素子 |
US5684309A (en) * | 1996-07-11 | 1997-11-04 | North Carolina State University | Stacked quantum well aluminum indium gallium nitride light emitting diodes |
JPH1065271A (ja) | 1996-08-13 | 1998-03-06 | Toshiba Corp | 窒化ガリウム系半導体光発光素子 |
JP3660446B2 (ja) | 1996-11-07 | 2005-06-15 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体素子及びその製造方法 |
JP3424465B2 (ja) | 1996-11-15 | 2003-07-07 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体素子及び窒化物半導体の成長方法 |
CA2276335C (en) | 1997-01-09 | 2006-04-11 | Nichia Chemical Industries, Ltd. | Nitride semiconductor device |
JP3374737B2 (ja) | 1997-01-09 | 2003-02-10 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体素子 |
JPH10209569A (ja) * | 1997-01-16 | 1998-08-07 | Hewlett Packard Co <Hp> | p型窒化物半導体装置とその製造方法 |
ATE550461T1 (de) * | 1997-04-11 | 2012-04-15 | Nichia Corp | Wachstumsmethode für einen nitrid-halbleiter |
JP3642157B2 (ja) | 1997-05-26 | 2005-04-27 | ソニー株式会社 | p型III族ナイトライド化合物半導体、発光ダイオードおよび半導体レーザ |
JPH1174562A (ja) | 1997-06-30 | 1999-03-16 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体素子 |
JP3606015B2 (ja) | 1997-07-23 | 2005-01-05 | 豊田合成株式会社 | 3族窒化物半導体素子の製造方法 |
JP3744211B2 (ja) | 1997-09-01 | 2006-02-08 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体素子 |
AU747260B2 (en) | 1997-07-25 | 2002-05-09 | Nichia Chemical Industries, Ltd. | Nitride semiconductor device |
JP3651260B2 (ja) | 1997-10-01 | 2005-05-25 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体素子 |
US6201262B1 (en) * | 1997-10-07 | 2001-03-13 | Cree, Inc. | Group III nitride photonic devices on silicon carbide substrates with conductive buffer interlay structure |
JPH11238945A (ja) | 1997-12-18 | 1999-08-31 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体発光素子 |
JP3647236B2 (ja) | 1997-12-22 | 2005-05-11 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体レーザ素子 |
JP3468082B2 (ja) | 1998-02-26 | 2003-11-17 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体素子 |
KR100611352B1 (ko) | 1998-03-12 | 2006-09-27 | 니치아 카가쿠 고교 가부시키가이샤 | 질화물 반도체 소자 |
JPH11298090A (ja) | 1998-04-09 | 1999-10-29 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体素子 |
JPH11330552A (ja) | 1998-05-18 | 1999-11-30 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体発光素子及び発光装置 |
US6657300B2 (en) * | 1998-06-05 | 2003-12-02 | Lumileds Lighting U.S., Llc | Formation of ohmic contacts in III-nitride light emitting devices |
JP3279266B2 (ja) * | 1998-09-11 | 2002-04-30 | 日本電気株式会社 | 窒化ガリウム系半導体発光素子 |
US6459100B1 (en) * | 1998-09-16 | 2002-10-01 | Cree, Inc. | Vertical geometry ingan LED |
US6608330B1 (en) * | 1998-09-21 | 2003-08-19 | Nichia Corporation | Light emitting device |
WO2000021143A1 (de) | 1998-10-05 | 2000-04-13 | Osram Opto Semiconductors Gmbh & Co. Ohg | Strahlungsemittierender halbleiterchip |
JP3063756B1 (ja) | 1998-10-06 | 2000-07-12 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体素子 |
JP2000133883A (ja) | 1998-10-22 | 2000-05-12 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体素子 |
US6153894A (en) * | 1998-11-12 | 2000-11-28 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Group-III nitride semiconductor light-emitting device |
JP3470622B2 (ja) | 1998-11-18 | 2003-11-25 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体発光素子 |
JP3705047B2 (ja) | 1998-12-15 | 2005-10-12 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体発光素子 |
US6614059B1 (en) | 1999-01-07 | 2003-09-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor light-emitting device with quantum well |
US6838705B1 (en) * | 1999-03-29 | 2005-01-04 | Nichia Corporation | Nitride semiconductor device |
JP3567790B2 (ja) * | 1999-03-31 | 2004-09-22 | 豊田合成株式会社 | Iii族窒化物系化合物半導体発光素子 |
JP3656456B2 (ja) * | 1999-04-21 | 2005-06-08 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体素子 |
JP3719047B2 (ja) | 1999-06-07 | 2005-11-24 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体素子 |
US6133589A (en) * | 1999-06-08 | 2000-10-17 | Lumileds Lighting, U.S., Llc | AlGaInN-based LED having thick epitaxial layer for improved light extraction |
JP3624794B2 (ja) | 2000-05-24 | 2005-03-02 | 豊田合成株式会社 | Iii族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法 |
US6586762B2 (en) * | 2000-07-07 | 2003-07-01 | Nichia Corporation | Nitride semiconductor device with improved lifetime and high output power |
JP2002190621A (ja) * | 2000-10-12 | 2002-07-05 | Sharp Corp | 半導体発光素子およびその製造方法 |
US6534797B1 (en) * | 2000-11-03 | 2003-03-18 | Cree, Inc. | Group III nitride light emitting devices with gallium-free layers |
US6906352B2 (en) * | 2001-01-16 | 2005-06-14 | Cree, Inc. | Group III nitride LED with undoped cladding layer and multiple quantum well |
US6794684B2 (en) | 2001-02-01 | 2004-09-21 | Cree, Inc. | Reflective ohmic contacts for silicon carbide including a layer consisting essentially of nickel, methods of fabricating same, and light emitting devices including the same |
US6958497B2 (en) * | 2001-05-30 | 2005-10-25 | Cree, Inc. | Group III nitride based light emitting diode structures with a quantum well and superlattice, group III nitride based quantum well structures and group III nitride based superlattice structures |
JP3876649B2 (ja) * | 2001-06-05 | 2007-02-07 | ソニー株式会社 | 窒化物半導体レーザ及びその製造方法 |
CN1505843B (zh) * | 2001-06-15 | 2010-05-05 | 克里公司 | 在SiC衬底上形成的GaN基LED |
US6833564B2 (en) * | 2001-11-02 | 2004-12-21 | Lumileds Lighting U.S., Llc | Indium gallium nitride separate confinement heterostructure light emitting devices |
MY139533A (en) * | 2001-11-05 | 2009-10-30 | Nichia Corp | Nitride semiconductor device |
US6618413B2 (en) * | 2001-12-21 | 2003-09-09 | Xerox Corporation | Graded semiconductor layers for reducing threshold voltage for a nitride-based laser diode structure |
TW549767U (en) | 2001-12-28 | 2003-08-21 | Veutron Corp | L-type reflection mirror set |
JP2003298192A (ja) * | 2002-02-04 | 2003-10-17 | Sanyo Electric Co Ltd | 窒化物系半導体レーザ素子 |
US6943381B2 (en) * | 2004-01-30 | 2005-09-13 | Lumileds Lighting U.S., Llc | III-nitride light-emitting devices with improved high-current efficiency |
-
2004
- 2004-07-27 US US10/899,791 patent/US7692182B2/en active Active
-
2005
- 2005-06-24 EP EP10169579.9A patent/EP2242117B1/en active Active
- 2005-06-24 KR KR1020117021897A patent/KR101388369B1/ko active IP Right Grant
- 2005-06-24 EP EP10180319.5A patent/EP2259340B1/en active Active
- 2005-06-24 KR KR1020127003236A patent/KR20120017473A/ko not_active Application Discontinuation
- 2005-06-24 EP EP10180328.6A patent/EP2259342B1/en active Active
- 2005-06-24 CN CNA2005800253273A patent/CN101006590A/zh active Pending
- 2005-06-24 JP JP2007523569A patent/JP2008508720A/ja active Pending
- 2005-06-24 EP EP05784977A patent/EP1771894B1/en active Active
- 2005-06-24 CA CA2567739A patent/CA2567739C/en active Active
- 2005-06-24 KR KR1020137005591A patent/KR101363826B1/ko active IP Right Grant
- 2005-06-24 KR KR1020077001904A patent/KR101236063B1/ko active IP Right Grant
- 2005-06-24 WO PCT/US2005/022597 patent/WO2006023060A2/en active Application Filing
- 2005-06-24 EP EP10180325.2A patent/EP2259341B1/en active Active
- 2005-07-05 TW TW094122647A patent/TWI394288B/zh active
- 2005-07-05 TW TW102102712A patent/TWI474505B/zh active
-
2011
- 2011-08-24 JP JP2011182184A patent/JP2012015535A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09266326A (ja) * | 1996-03-27 | 1997-10-07 | Toyoda Gosei Co Ltd | 3族窒化物化合物半導体発光素子 |
JPH09331116A (ja) * | 1996-04-11 | 1997-12-22 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体発光素子 |
JP2002374043A (ja) * | 2001-04-12 | 2002-12-26 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化ガリウム系化合物半導体素子 |
JP2004186708A (ja) * | 2004-03-17 | 2004-07-02 | Sharp Corp | 窒化ガリウム系半導体レーザ素子 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012138626A (ja) * | 2005-04-29 | 2012-07-19 | Cree Inc | 開いたピット中に延びる能動層を有する発光デバイス及びその製造方法 |
US8461606B2 (en) | 2010-03-08 | 2013-06-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor light-emitting device and method for manufacturing same |
US8963176B2 (en) | 2010-03-08 | 2015-02-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor light-emitting device and method for manufacturing same |
JP2012044194A (ja) * | 2011-09-15 | 2012-03-01 | Toshiba Corp | 半導体発光素子、ウェーハ、半導体発光素子の製造方法及びウェーハの製造方法 |
JP2012060170A (ja) * | 2011-12-16 | 2012-03-22 | Toshiba Corp | 半導体発光素子及びその製造方法 |
JP2013021377A (ja) * | 2012-11-02 | 2013-01-31 | Toshiba Corp | 半導体発光素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1771894A2 (en) | 2007-04-11 |
KR20110110868A (ko) | 2011-10-07 |
CA2567739C (en) | 2014-09-16 |
TW200625679A (en) | 2006-07-16 |
TWI474505B (zh) | 2015-02-21 |
EP2259342A2 (en) | 2010-12-08 |
CA2567739A1 (en) | 2006-03-02 |
KR20070042983A (ko) | 2007-04-24 |
WO2006023060A3 (en) | 2006-04-13 |
JP2012015535A (ja) | 2012-01-19 |
TW201338193A (zh) | 2013-09-16 |
KR101363826B1 (ko) | 2014-02-17 |
EP2259340B1 (en) | 2016-12-21 |
EP2259340A3 (en) | 2011-01-05 |
KR20130038415A (ko) | 2013-04-17 |
WO2006023060A2 (en) | 2006-03-02 |
CN101006590A (zh) | 2007-07-25 |
EP2242117A3 (en) | 2011-01-05 |
EP2242117A2 (en) | 2010-10-20 |
KR20120017473A (ko) | 2012-02-28 |
US7692182B2 (en) | 2010-04-06 |
EP2259341B1 (en) | 2020-08-26 |
KR101236063B1 (ko) | 2013-02-22 |
TWI394288B (zh) | 2013-04-21 |
EP2259342A3 (en) | 2017-11-22 |
US20050056824A1 (en) | 2005-03-17 |
KR101388369B1 (ko) | 2014-04-23 |
EP2259342B1 (en) | 2021-03-10 |
EP2242117B1 (en) | 2018-05-30 |
EP1771894B1 (en) | 2013-04-03 |
EP2259341A3 (en) | 2017-11-22 |
EP2259341A2 (en) | 2010-12-08 |
EP2259340A2 (en) | 2010-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2259340B1 (en) | Group III nitride based quantum well light emitting device structures with an indium containing capping structure | |
US8546787B2 (en) | Group III nitride based quantum well light emitting device structures with an indium containing capping structure | |
EP1401027A1 (en) | Group III nitride based light emitting diode with a superlattice structure |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080606 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100618 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20101207 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20110303 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110524 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110525 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110824 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120417 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120717 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20121204 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130404 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130516 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20130705 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20131029 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20131101 |