JP2008506040A - 銅合金から製造した導電線のための材料 - Google Patents
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Abstract
【選択図】 なし
Description
結晶粒サイズが130μmの銅の粉末を、拡散ミキサーで合金化すべき各粉末と混合した。粉末混合物を純鉄製の容器内に入れ、脱ガス処理を実施してから、容器を真空にし、気密が保てるように密封した。
Claims (15)
- Cuが90原子%より大である銅合金から製造した導電線のための材料であって、該材料は0.5〜10原子%のCa、Sr、Ba、Sc、Y、ランタニド、Cr、Ti、Zr、Hf、Siからなる群から選択した1種又は複数の元素と、0〜5原子%のMg、V、Nb、Ta、Mo、W、Ag、Au、Fe、Bからなる群から選択した1種又は複数の元素とを含むことを特徴とする材料。
- 0.5〜10原子%のSc、Y、ランタニド、CrおよびSiからなる群から選択した1種又は複数の元素を含むことを特徴とする請求項1記載の材料。
- 1〜7原子%の、Sc、Y、ランタニド、CrおよびSiからなる群から選択した1種又は複数の元素を含むことを特徴とする請求項2記載の材料。
- 0.5〜5原子%のSc、Y、ランタニドからなる群から選択した1種又は複数の元素と、0.5〜5原子%のCrおよび/又はSiとを含むことを特徴とする請求項1〜3の1つに記載の材料。
- 1〜4原子%のSc、Y、ランタニドからなる群から選択した1種又は複数の元素と、0.5〜3原子%のCrとを含むことを特徴とする請求項1〜4の1つに記載の材料。
- 0.1〜3原子%のAg、AuおよびMgからなる群から選択した1種又は複数の元素を含むことを特徴とする請求項2〜5の1つに記載の材料。
- ターゲットが粉末冶金法により製造されたことを特徴とする請求項1〜6の1つに記載の導電線を堆積させるためのスパッタリングターゲット。
- スプレー圧密化法により製造されたことを特徴とする請求項7記載のスパッタリングターゲット。
- 97%より高い密度を有することを特徴とする請求項7又は8記載のスパッタリングターゲット。
- 500μmより小の結晶粒サイズを有することを特徴とする請求項7〜9の1つに記載のスパッタリングターゲット。
- 圧延法により変形されたことを特徴とする請求項7又は8記載のスパッタリングターゲット。
- 99.8%より高い密度を有することを特徴とする請求項11記載のスパッタリングターゲット。
- 200μmより小の結晶粒サイズを有することを特徴とする請求項11又は12記載のスパッタリングターゲット。
- フラットスクリーンのための導電線を堆積させるための請求項7〜13の1つに記載のスパッタリングターゲット。
- LCDTFTフラットスクリーンのための導電線を堆積させるための請求項14記載のスパッタリングターゲット。
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