JP2006196521A - 積層配線膜 - Google Patents
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Abstract
【課題】 充分な耐熱性や耐食性を有した低抵抗なAg合金膜と、そのAg合金膜の基板に対する密着性を高いレベルで確保できる新規な積層配線膜を提供する。
【解決手段】 基板上に形成される積層配線膜であって、0.1〜0.5原子%のSiおよび/またはZr、0.1〜0.5原子%のCuを含有し、残部実質的にAgからなるAg合金膜と該Ag合金膜を覆う被覆膜からなり、該被覆膜はMoあるいはMoを50原子%以上含有するMo系膜である積層配線膜である。
【選択図】 図1
【解決手段】 基板上に形成される積層配線膜であって、0.1〜0.5原子%のSiおよび/またはZr、0.1〜0.5原子%のCuを含有し、残部実質的にAgからなるAg合金膜と該Ag合金膜を覆う被覆膜からなり、該被覆膜はMoあるいはMoを50原子%以上含有するMo系膜である積層配線膜である。
【選択図】 図1
Description
本発明は、基板上に薄膜を形成して製造される平面表示装置(Flat Panel Display、以下、FPDという)等に用いられる積層配線膜に関するものである。
例えば、ガラス基板またはSiウェハー上に薄膜を積層して製造されるFPDには、液晶ディスプレイ(以下、LCDという)、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPという)、フィールドエミッションディスプレイ(以下、FEDという)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(以下、ELDという)、電子ペーパー等の種々の新規製品が活発に研究、開発がされている。
FPDの配線膜には、基板との密着性や耐熱性が考慮され高融点金属のCr、Mo等の膜あるいはその合金膜が用いられている。また、さらに低抵抗が要求される場合には、これらの高融点金属膜とAlやAl合金といったより低抵抗な膜とを積層した積層配線膜が用いられている。
近時、FPDの高精細化や大型化が進むに従って、低抵抗の配線材料を用いる要求が高まっている。そのため、配線材料としては、AlやAl合金よりも低抵抗の材料、例えば、AgやAg合金を採用することが検討されている。
その際に、Al系膜と同様にAgやAg合金膜の採用にあたっても、ITO等との接触抵抗等の問題からAgやAg合金膜を高融点金属等の金属膜でクラッドした構造とすることが検討されている。例えば、AgまたはAgを主成分とする合金とAgよりも溶解反応の標準電極電位の低い金属元素またはその合金との積層構造を有するLCDの配線構造が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2001−242483号公報
その際に、Al系膜と同様にAgやAg合金膜の採用にあたっても、ITO等との接触抵抗等の問題からAgやAg合金膜を高融点金属等の金属膜でクラッドした構造とすることが検討されている。例えば、AgまたはAgを主成分とする合金とAgよりも溶解反応の標準電極電位の低い金属元素またはその合金との積層構造を有するLCDの配線構造が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
上述の特許文献1では、配線パターンの形成のためのフォトリソグラフィー効率化の観点から、AgまたはAg合金膜と標準電極電位の低い金属元素またはその合金との積層配線構造とすることで、一括エッチングが可能となるため低コストでLCDの配線構造を形成することが可能となることが提案されている。
ところで、LCD等のFPDの製造においては、純Agでは配線構造の作製プロセスにおいて要求される耐熱性、耐食性に問題があることが指摘されており、電気抵抗を極力増加させずに添加元素を含むAg合金化を図ることが課題とされている。また、純Agは凝集しやすいために基板等との密着力が低いという問題もある。
本発明の目的は、特に、充分な耐熱性や耐食性を有した低抵抗なAg合金膜と、そのAg合金膜の基板に対する密着性を高いレベルで確保できる新規な積層配線膜を提供することである。
ところで、LCD等のFPDの製造においては、純Agでは配線構造の作製プロセスにおいて要求される耐熱性、耐食性に問題があることが指摘されており、電気抵抗を極力増加させずに添加元素を含むAg合金化を図ることが課題とされている。また、純Agは凝集しやすいために基板等との密着力が低いという問題もある。
本発明の目的は、特に、充分な耐熱性や耐食性を有した低抵抗なAg合金膜と、そのAg合金膜の基板に対する密着性を高いレベルで確保できる新規な積層配線膜を提供することである。
本発明者は、検討の結果、Agに、SiまたはZrとCuとを微量で複合添加したAg合金膜とすることで、充分な耐食性、耐熱性を有したより低抵抗な配線膜とすることができるとともに、そのAg合金膜にMoをベースとする膜を被覆することで基板に対する密着性を高いレベルで確保できることを見出した。
すなわち、本発明は、基板上に形成される積層配線膜であって、0.1〜0.5原子%のSiおよび/またはZr、0.1〜0.5原子%のCuを含有し、残部実質的にAgからなるAg合金膜と該Ag合金膜を覆う被覆膜からなり、該被覆膜はMoあるいはMoを50原子%以上含有するMo系膜である積層配線膜である。
好ましくは、本発明は、前記被覆膜が、(Ti、Zr、Hf)から選択される1種または2種以上の添加元素を2〜50原子%含有し、残部が実質的にMoからなるMo系膜である積層配線膜である。さらに好ましくは、前記被覆膜が、Tiを2〜50原子%含有し、残部が実質的にMoからなるMo系膜である積層配線膜である。
すなわち、本発明は、基板上に形成される積層配線膜であって、0.1〜0.5原子%のSiおよび/またはZr、0.1〜0.5原子%のCuを含有し、残部実質的にAgからなるAg合金膜と該Ag合金膜を覆う被覆膜からなり、該被覆膜はMoあるいはMoを50原子%以上含有するMo系膜である積層配線膜である。
好ましくは、本発明は、前記被覆膜が、(Ti、Zr、Hf)から選択される1種または2種以上の添加元素を2〜50原子%含有し、残部が実質的にMoからなるMo系膜である積層配線膜である。さらに好ましくは、前記被覆膜が、Tiを2〜50原子%含有し、残部が実質的にMoからなるMo系膜である積層配線膜である。
本発明の積層配線膜は、充分な耐熱性、耐食性を有し、かつ低抵抗であるとともに、基板への高い密着性を有するためFPD等の配線膜として極めて有効なものとなる。
本発明の重要な特徴は、充分な耐熱性、耐食性を有した上でより低抵抗なAg合金膜の最適な成分組成の構成を発見した上に、さらに、そのAg合金膜がFPD等の配線形成プロセスにおいて基板への高い密着性を確保するためにMo系膜を被覆膜として形成したことにある。
以下に、まず、Ag合金膜の選定について説明する。
以下に、まず、Ag合金膜の選定について説明する。
通常、純Ag膜を作製すると、膜としての電気抵抗は低いが、電子部品であるLCD等のFPDを製造する際のプロセスにおいては、加熱によって膜成長や凝集等が起こるため、膜表面はより凹凸のある形状となったり、ボイドが発生する等耐熱性が低い。また、大気中に放置するだけで、硫化や塩化等の影響で変色する等耐食性が劣る。
そこで、本発明者は、様々存在する元素から、Siおよび/またはZrとCuとをAgに対して複合添加することが、低い電気抵抗を維持した上で、耐熱性、耐食性、基板等への密着性をAg膜に比べて向上させるのに最も効果が高いことを見出した。そして、耐熱性、耐食性を有した上で、現状使用されるAl合金よりも明確に低抵抗な4μΩcm以下の低い比抵抗を維持するためには、Agへの添加量はSiおよび/またはZrを0.1〜0.5原子%、Cuを0.1〜0.5原子%となるように制御して複合添加することが必要である。
そこで、本発明者は、様々存在する元素から、Siおよび/またはZrとCuとをAgに対して複合添加することが、低い電気抵抗を維持した上で、耐熱性、耐食性、基板等への密着性をAg膜に比べて向上させるのに最も効果が高いことを見出した。そして、耐熱性、耐食性を有した上で、現状使用されるAl合金よりも明確に低抵抗な4μΩcm以下の低い比抵抗を維持するためには、Agへの添加量はSiおよび/またはZrを0.1〜0.5原子%、Cuを0.1〜0.5原子%となるように制御して複合添加することが必要である。
SiはAgの耐食性改善に効果のある元素である。また、ZrはSiと同様にAgの耐食性の改善とさらに耐熱性の改善効果を有する。そして、SiやZrと、耐食性の改善効果があり、Agに添加した際に抵抗値の増加の少ないCuとをAgに複合添加することで低抵抗を維持した上で、耐熱性、耐食性を有するAg合金とすることが可能となる。これらの元素の組合せによる膜特性の改善効果の理由は明確ではないが次のように推測される。通常、スパッタリング等で形成される膜においては、その添加される元素がマトリクス中に過飽和で固溶し、原子の移動を抑制するので微細な結晶粒を有する膜にすることが可能となる。Cuは高温でAgに固溶し易く、低温でAgと分離する元素である。また、SiやZrとは化合物を形成する元素でもある。このため、両者を組み合わせることで、膜の結晶粒を微細化させ、空隙の少ない密度の高いAg合金膜とするとともに、加熱時に膜表面や膜の結晶粒界に添加元素を濃化させて膜の結晶粒の成長を抑制し、耐熱性と耐食性を改善させていると推測される。
膜特性の改善効果はSi、Zr、Cuのどの元素でも添加量0.1原子%から顕著に現れるが、Si、Zrでは0.5原子%を超えると耐食性は向上するものの、比抵抗で4μΩcmを超えてしまう可能性があり、抵抗値が増加し過ぎてしまう。また、Cuは0.5原子%以下であれば耐熱性、耐食性の改善効果はあるが、その添加量を越えて添加すると純Agより耐食性が低下してしまう。このため、添加量の総和の最少量は0.2原子%であり、最大量で1.0原子%以下である。より低い電気抵抗とするためには、Siの添加量を0.3原子%以下、Zrは0.2原子%以下とすることが望ましい。
上述した本発明のAg合金膜においても、基板との密着性が不十分な場合があり、例えばFPD製造時に成膜した薄膜を配線に加工するパタニング工程等での剥がれをより防止するには、基板とAg合金との、あるいは酸化珪素や窒化珪素等の保護膜との密着性を改善できる下地層やカバ−層等の被覆膜を形成することが必要である。本発明者の検討の結果、本発明のAg合金膜の被覆膜としては、MoあるいはMoを50原子%以上含有するMo系膜が最適である。
MoあるいはMoを50原子%以上含有するMo系膜は、ガラスやSiウェハ−等の基板との密着性に優れるとともに本発明のAg合金膜とも密着性を有する。このため、配線膜として要求される耐熱性、耐食性と低抵抗を両立した本発明のAg合金膜の被覆膜としてMo系膜が最適である。Ag合金とMo系膜の密着性が優れている理由は明確ではないが、以下のように考えられる。ガラスやSiウェハ−等の基板との密着性に優れる膜としてはCr、Ta、Mo等があるが、Cr、Taの膜ではAg系膜と十分な密着性が得られない。これらの元素はAgと分離しやすい元素であるととともに膜表面に強固な不導体膜が生成しやすい事が起因していると考えられる。一方、Moの場合は表面酸化物が昇華し易いため、スパッタリング等の真空装置中で揮発しやすく、Agとの密着性を得やすいと考えられる。また、本発明のAg合金が含有する添加元素であるSi、Zr、Cuは、Moと化合物や固溶域を発現する元素であるため、Moとの親和力が高いことも密着性の改善に関与していると考えられる。
MoあるいはMoを50原子%以上含有するMo系膜は、ガラスやSiウェハ−等の基板との密着性に優れるとともに本発明のAg合金膜とも密着性を有する。このため、配線膜として要求される耐熱性、耐食性と低抵抗を両立した本発明のAg合金膜の被覆膜としてMo系膜が最適である。Ag合金とMo系膜の密着性が優れている理由は明確ではないが、以下のように考えられる。ガラスやSiウェハ−等の基板との密着性に優れる膜としてはCr、Ta、Mo等があるが、Cr、Taの膜ではAg系膜と十分な密着性が得られない。これらの元素はAgと分離しやすい元素であるととともに膜表面に強固な不導体膜が生成しやすい事が起因していると考えられる。一方、Moの場合は表面酸化物が昇華し易いため、スパッタリング等の真空装置中で揮発しやすく、Agとの密着性を得やすいと考えられる。また、本発明のAg合金が含有する添加元素であるSi、Zr、Cuは、Moと化合物や固溶域を発現する元素であるため、Moとの親和力が高いことも密着性の改善に関与していると考えられる。
また、本発明のAg合金膜の被腹膜としては、MoにTi、Zr、Hfを加えたMo合金が望ましい。これらの元素を含んだMo合金膜はAg合金との密着性の改善にさらに高い効果を有するためである。その理由としてはTi、Zr、HfはMoと固溶域を有するとともに、Agとも化合物を形成するために、AgとMo膜界面での原子の拡散や化合物形成等により、両者の親和力を高めると考えられるためである。これらの元素のMoへの添加量は2〜50原子%が望ましい。2原子%以下では密着性の改善効果が少なく、50原子%を越えると積層配線とした際の加熱工程により、Ag合金層に拡散し、Ag合金膜の抵抗値が大きく増加してしまうためである。
また、これらの元素の中ではTiが最も望ましい。Zr、HfはTiと比較してMoに加えた場合の抵抗値の増加が大きく積層した場合の抵抗値の増加が大きくなってしまう。また、Zr、Hfは工業的に高価な元素でもある。このため、最も抵抗値の増加の少ないTiが適している。
また、これらの元素の中ではTiが最も望ましい。Zr、HfはTiと比較してMoに加えた場合の抵抗値の増加が大きく積層した場合の抵抗値の増加が大きくなってしまう。また、Zr、Hfは工業的に高価な元素でもある。このため、最も抵抗値の増加の少ないTiが適している。
本発明の積層配線膜を形成する基板は、特に限定されるものではなく、シリコン基板、ガラス基板、樹脂基板等に適用できる。特に、ガラス基板に対する積層配線膜とする場合、密着性を高める効果により好適である。
また、本発明の積層配線膜におけるAg合金膜、Mo系膜は、各膜と実質的に同一の成分組成を有するターゲット材を用いたスパッタリング法により形成することができる。
また、本発明の積層配線膜におけるAg合金膜、Mo系膜は、各膜と実質的に同一の成分組成を有するターゲット材を用いたスパッタリング法により形成することができる。
また、本発明のおける積層配線膜として典型的な形態は、図1に示すように基板1上に形成した被覆膜としての下地層4と、下地層4上に形成したAg合金膜2であるが、図2に示すように、さらにAg合金膜2上に形成した被覆膜としてのカバー層3を形成してもよい。カバー層として被覆膜を形成することで、配線膜のさらに上層となる保護膜として用いられる酸化珪素や窒化珪素等との密着性も改善される。
また、本発明の積層配線膜は、反射率の高いAg合金膜を有しているため、反射特性を利用して反射電極にも利用できる。
純度99.5%以上のAgに、所定量のSi、Zr、Cuを加えて、真空誘導溶解炉にて溶解して、厚み50mm、幅200mm、高さ300mmの金属製鋳型に鋳造して表1に示すAg系組成のインゴットを作製した。その後、Ag系インゴットを圧延により板状にし、さらに機械加工を施して所定のサイズとして、種々Ag系組成のタ−ゲット材を作製した。また、Mo合金は、純度99.9%以上のMoに純度99%以上のTi、Zr、Hfの原料粉末を所定の組成となるようにロッキングミキサ−で混合した後、内径250mm、高さ35mmの軟鋼製の缶に充填し、缶内を真空排気して封止した後に、熱間静水圧プレス(HIP)によって加圧焼結した。その後、缶を除去したMo系焼結体に機械加工を施して所定のサイズとして、種々のMo系組成のタ−ゲット材を作製した。
上記で作製したタ−ゲット材をマグネトロンスパッタ装置を使用して、アルゴン圧力0.5Pa、投入電力は500Wの条件で、0.7mm(t)×100mm×100mmのコーニング社製1737ガラス基板上に、膜厚30nmのMo系膜、膜厚200nmの純Ag膜およびAg合金膜を順に成膜した試料を作製した。
また、比較例として同様の条件で、ガラス基板上に膜厚200nmの純Ag膜およびAg合金膜のみを成膜した試料も作製した。
また、比較例として同様の条件で、ガラス基板上に膜厚200nmの純Ag膜およびAg合金膜のみを成膜した試料も作製した。
これらの作製した試料を用いて以下の特性試験を行った。
まず、導電性に関与する比抵抗値(μΩcm)は、4端子薄膜抵抗率計(三菱油化製、MCP−T400)を用いて測定したシート抵抗値(μΩ/□)と試料の膜厚から評価した。
耐熱性試験としては、各試料をクリーンオーブン中で温度250℃、1時間の大気加熱を行った。また、耐湿性試験としては、各試料を温度85℃、相対湿度85%の環境下に250時間放置した。耐熱性試験及び耐食性試験後の各試料の比抵抗値(μΩcm)を上記と同様に評価した。また、耐熱性試験及び耐食性試験後の各試料の外観を目視により観察した。
また、膜の密着性に関しては、ガラス基板上に形成した直後の純Ag膜、Ag合金膜、積層膜に2mm間隔で碁盤の目状に切れ目を入れた後、膜表面にテープを貼り、テープを引き剥がした際にガラス基板上に残った膜の桝目を面積率(%)で表わし密着性として評価した。以上、各試料の特性試験結果を表1に示す。
まず、導電性に関与する比抵抗値(μΩcm)は、4端子薄膜抵抗率計(三菱油化製、MCP−T400)を用いて測定したシート抵抗値(μΩ/□)と試料の膜厚から評価した。
耐熱性試験としては、各試料をクリーンオーブン中で温度250℃、1時間の大気加熱を行った。また、耐湿性試験としては、各試料を温度85℃、相対湿度85%の環境下に250時間放置した。耐熱性試験及び耐食性試験後の各試料の比抵抗値(μΩcm)を上記と同様に評価した。また、耐熱性試験及び耐食性試験後の各試料の外観を目視により観察した。
また、膜の密着性に関しては、ガラス基板上に形成した直後の純Ag膜、Ag合金膜、積層膜に2mm間隔で碁盤の目状に切れ目を入れた後、膜表面にテープを貼り、テープを引き剥がした際にガラス基板上に残った膜の桝目を面積率(%)で表わし密着性として評価した。以上、各試料の特性試験結果を表1に示す。
表1に示すように、純Ag膜(試料No.1)は、成膜時には3μΩcm以下の低い比抵抗を有しており、大気加熱処理を行うと比抵抗は減少するが膜表面は白濁化してしまうことがわかる。また密着性が低く、パタニングすると膜が剥がれてしまい、耐食性試験後には比抵抗が増加するとともに変色して黄化することが分かる。
AgにZr、SiとCuとを複合添加したAg合金膜(試料No.2〜4)は加熱処理や耐食試験後も良好な外観を有し、耐熱性、耐食性が高いことがわかる。また密着性に関しても純Ag膜に対して改善されているが十分ではない。また、純Ag膜の被覆膜としての下地層としてMoやMo合金を形成した場合(試料No.5〜6)は、密着性は改善されているが耐熱性、耐食性の改善効果は得られない。
AgにZr、SiとCuとを複合添加したAg合金膜(試料No.2〜4)は加熱処理や耐食試験後も良好な外観を有し、耐熱性、耐食性が高いことがわかる。また密着性に関しても純Ag膜に対して改善されているが十分ではない。また、純Ag膜の被覆膜としての下地層としてMoやMo合金を形成した場合(試料No.5〜6)は、密着性は改善されているが耐熱性、耐食性の改善効果は得られない。
それに対して本発明であるAgにZr、SiとCuとを複合添加したAg合金膜に、MoやMo合金膜を被覆膜としての下地層として形成した試料(試料No.7〜14)は、低い抵抗値と高い密着性を有し、さらに加熱処理や耐食試験後も白濁や変色等が起こらず良好な外観を有し、耐熱性、耐食性が高いことがわかる。特にMoに対してTi、Zr、Hfを加えたMo合金はAg合金膜との密着性が高い。また、これらの元素の中ではTiが加熱処理後の抵抗値の減少が大きい。また、Tiの添加量の増加とともに比抵抗は増加するとともに、加熱処理後の抵抗値の減少幅が少なくなり、50%を越えると加熱処理後に抵抗値が増加することがわかる。
また、基板としてはガラス基板以外のSiウェハ−、樹脂基板等においても同様の結果が得られることを確認した。
1.基板、2.Ag合金膜、3.カバー層、4.下地層
Claims (3)
- 基板上に形成される積層配線膜であって、0.1〜0.5原子%のSiおよび/またはZr、0.1〜0.5原子%のCuを含有し、残部実質的にAgからなるAg合金膜と該Ag合金膜とを覆う被覆膜からなり、該被覆膜はMoあるいはMoを50原子%以上含有するMo系膜であることを特徴とする積層配線膜。
- 前記被覆膜は、(Ti、Zr、Hf)から選択される1種または2種以上の添加元素を2〜50原子%含有し、残部が実質的にMoからなるMo系膜であることを特徴とする請求項1に記載の積層配線膜。
- 前記被覆膜は、Tiを2〜50原子%含有し、残部が実質的にMoからなるMo系膜であることを特徴とする請求項1に記載の積層配線膜。
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Cited By (2)
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WO2010101904A2 (en) * | 2009-03-05 | 2010-09-10 | Applied Materials, Inc. | Improve adhesion between azo and ag for the back contact in tandem junction cell by metal alloy |
JP2011018464A (ja) * | 2009-07-07 | 2011-01-27 | Toyota Central R&D Labs Inc | 電極材料、電極及び素子 |
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2005
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Cited By (3)
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WO2010101904A2 (en) * | 2009-03-05 | 2010-09-10 | Applied Materials, Inc. | Improve adhesion between azo and ag for the back contact in tandem junction cell by metal alloy |
WO2010101904A3 (en) * | 2009-03-05 | 2011-01-13 | Applied Materials, Inc. | Improve adhesion between azo and ag for the back contact in tandem junction cell by metal alloy |
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