JPH05117789A - 電子電気機器用基板のベース材 - Google Patents

電子電気機器用基板のベース材

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JPH05117789A
JPH05117789A JP30525091A JP30525091A JPH05117789A JP H05117789 A JPH05117789 A JP H05117789A JP 30525091 A JP30525091 A JP 30525091A JP 30525091 A JP30525091 A JP 30525091A JP H05117789 A JPH05117789 A JP H05117789A
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JP
Japan
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base material
substrate
electronic
electrical appliances
alloy
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Pending
Application number
JP30525091A
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English (en)
Inventor
Shuntaro Tatsuta
俊太郎 龍田
Hiroshi Imada
洋 今田
Tetsuya Ishikawa
哲也 石川
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Mitsubishi Shindoh Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Shindoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 各種電子電気機器用基板を構成するベース材
の強度を向上させる。 【構成】 各種電子電気機器用基板のベース材を、重量
%で、 Cr:0.1〜1%、を含有し、さらに必要に応じて、 (a) Zr:0.005〜0.2%、 (b) SiおよびMgのうちの1種または2種:0.
001〜0.5%、以上(a)および(b)のいずれ
か、または両方、を含有し、残りがCuと不可避不純物
からなる組成を有するCu合金で構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、高強度とすぐれた熱
伝導性を有し、したがって薄肉化および小型化した状態
での実用に際しても変形することなく、一段とすぐれた
放熱効果を発揮する電子電気機器用基板のベース材に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、一般に、電子電気機器用回路基板
や、高級通信機器および計測機器用回路基板、さらに高
密度ハイブリッドIC用基板などの各種の電子電気機器
用基板として、例えば金属ベース銅張積層板や穴開金属
芯銅張積層板が用いられ、これら銅張積層板が、例えば
無酸素銅からなるベースまたは穴開芯(これらを総称し
て「ベース材」という)に、絶縁樹脂層を介して銅箔を
接合したものからなることも知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】一方、近年の各種電子
電気機器の高性能化および高出力化、並びに軽量化およ
び小型化はめざましく、これに伴ない、これらの構造部
材である各種基板のベース材にも薄肉化が強く要求され
ているが、上記の通り無酸素銅からなる従来ベース材に
おいては、常温および高温強度が十分でなく、このため
薄肉化すると、絶縁樹脂層との200〜450℃に0.
5〜1.5時間保持の条件での接着後や、高集積化およ
び高出力化による大量の局部的発熱などで、基板に変形
が発生し易くなることから、薄肉化をはかることができ
ないのが現状である。
【0004】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者等は、
上述のような観点から、高強度を有する基板ベース材を
開発すべく、熱伝導性にすぐれたCu合金に着目し研究
を行なった結果、基板のベース材を、重量%(以下%は
重量%を示す)、 Cr:0.1〜1%、を含有し、さらに必要に応じて、 Zr:0.005〜0.2%、 SiおよびMgのうちの1種または2種:0.001〜
0.5%、のいずれか、または両方、を含有し、残りが
Cuと不可避不純物からなる組成を有するCu合金で構
成すると、この結果の基板ベース材は、特にCrの作用
で常温および高温強度が向上するようになるので、薄肉
化が可能となり、さらに製品とするために施される切断
加工や穴開加工に際してのバリ発生がきわめて僅かで、
したがってバリ取りの必要なく、支持体への密着取り付
けが可能になるという研究結果を得たのである。
【0005】この発明は、上記の研究結果にもとづいて
なされたものであって、 Cr:0.1〜1%、を含有し、さらに必要に応じて、 (a) Zr:0.005〜0.2%、 (b) SiおよびMgのうちの1種または2種:0.
001〜0.5%、以上(a)および(b)のうちのい
ずれか、または両方を含有し、残りがCuと不可避不純
物からなる組成を有するCu合金で構成してなる電子電
気機器用基板ベース材に特徴を有するものである。
【0006】つぎに、この発明の基板ベース材におい
て、これを構成するCu合金の成分組成を上記の通りに
限定した理由を説明する。 (a) Cr Cr成分には、高い熱伝導性を保持した上で、常温およ
び高温強度を向上させると共に、ハリ発生を抑制する作
用があるが、その含有量が0.1%未満では前記作用に
所望の効果が得られず、一方その含有量が1%を越える
と、熱伝導性の低下が著しくなり、導電率(%IAC
S)で80%以下となってしまうことから、その含有量
を0.1〜1%と定めた。
【0007】(b) Zr Zr成分には、Cr成分との共存において、Cr成分に
よってもたらされる上記作用、すなわち常温および高温
強度、並びにバリ発生抑制作用を一段と向上させる作用
があるので、必要に応じて含有されるが、その含有量が
0.005%未満では前記作用に所望の向上効果が得ら
れず、一方その含有量が、0.2%を越えても前記作用
により一段の向上効果は現われないことから、その含有
量を0.005〜0.2%と定めた。
【0008】(c) SiおよびMg これらの成分は、酸素との親和力が強く、強力な脱酸作
用を発揮し、もって靱性を向上させる作用をもつので、
必要に応じて含有されるが、その含有量が0.001%
未満では前記作用に所望の効果が得られず、一方その含
有量が0.5%を越えると導電率が急激に低下するよう
になることから、その含有量を0.001〜0.5%と
定めた。
【0009】
【実施例】つぎに、この発明の基板ベース材を実施例に
より具体的に説明する。通常の低周波溝型誘導炉を用
い、木炭粉で被覆した状態で、それぞれ第1表に示され
る組成をもったCu合金溶湯を調整し、半連続鋳造法に
て厚:150mm×幅:400mm×長さ:1500mmの寸
法をもった鋳塊とし、これに通常の条件で熱間圧延を施
して厚さ:11mmの熱延板とし、ついで両面面削後、冷
間圧延にて厚さ:3mmの冷延板とすることにより本発明
基板ベース材1〜12、および無酸素銅からなる従来基
板ベース材をそれぞれ製造した。
【0010】
【表1】
【0011】ついで、この結果得られた各種の基板ベー
ス材について、常温および絶縁樹脂層との接合に際して
とられる最高接着温度である450℃での引張強さを測
定して常温および高温強度を評価し、また熱伝導性を評
価するために導電率を測定し、さらにバリ発生状況を観
察するために、プレス打抜き加工により直径:10mmの
穴開加工を行ない、穴周辺に発生したバリの最高バリ高
さを隙間ゲージを用いて測定した。これらの測定結果を
表1に示した。
【0012】
【発明の効果】表1に示される結果から、本発明基板ベ
ース材1〜12は、いずれもすぐれた熱伝導性を保持し
た状態で、従来基板ベース材に比して一段と高い常温お
よび高温強度を有し、かつバリ発生も著しく小さいこと
が明らかである。
【0013】上述のように、この発明の基板ベース材
は、すぐれた熱伝導性を保持した状態で、高強度を有す
るので、基板ベース材自体の薄肉化が可能となり、軽量
化および小型化に大いに寄与するものであり、さらに切
断加工や穴開加工でのバリ発生がきわめて少ないので、
加工ままの状態で支持体への密着取り付けが可能となる
など工業上有用な特性を有するのである。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 重量%で、 Cr:0.1〜1%、を含有し、残りがCuと不可避不
    純物からなる組成を有するCu合金で構成したことを特
    徴とする電子電気機器用基板のベース材。
  2. 【請求項2】 重量%で、 Cr:0.1〜1%、 Zr:0.005〜0.2
    %、を含有し、残りがCuと不可避不純物からなる組成
    を有するCu合金で構成したことを特徴とする電子電気
    機器用基板のベース材。
  3. 【請求項3】 重量%で、 Cr:0.1〜1%、を含有し、さらに、SiおよびM
    gのうちの1種または2種:0.001〜0.5%、を
    含有し、残りがCuと不可避不純物からなる組成を有す
    るCu合金で構成したことを特徴とする電子電気機器用
    基板のベース材。
  4. 【請求項4】 Cr:0.1〜1%、 Zr:0.0
    05〜0.2%、を含有し、さらに、SiおよびMgの
    うちの1種または2種:0.001〜0.5%、を含有
    し、残りがCuと不可避不純物からなる組成を有するC
    u合金で構成したことを特徴とする電子電気機器用基板
    のベース材。
JP30525091A 1991-10-24 1991-10-24 電子電気機器用基板のベース材 Pending JPH05117789A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006005095A1 (de) * 2004-07-15 2006-01-19 Plansee Se Werkstoff für leitbahnen aus kupferlegierung
WO2006112063A1 (ja) 2005-04-15 2006-10-26 Jfe Precision Corporation 半導体装置放熱用合金材およびその製造方法
US7416620B2 (en) 1996-08-29 2008-08-26 Luvata Oy Copper alloy and method for its manufacture
JPWO2013153771A1 (ja) * 2012-04-13 2015-12-17 日本発條株式会社 銅ベース回路基板
CN115491542A (zh) * 2022-09-28 2022-12-20 中色奥博特铜铝业有限公司 一种蚀刻型均温板铜铬锆合金带材及其加工方法和应用

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