JP3117852B2 - Fe−Cu合金ICリードフレームおよびその製造方法 - Google Patents

Fe−Cu合金ICリードフレームおよびその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体実装用リードフ
レームとその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体実装用リードフレームは、一般に
鉄系合金のFe−42Ni系合金、Fe−Ni−Co合
金とCu基合金が用いられている。近年の電子機器の軽
薄短小化に伴い、ICの高集積化、小型化が進み、多ピ
ン化、狭ピッチ化およびパッケージの薄肉化が急速に進
展している。これらのニーズから、素材に要求される特
性は、高スティフネス性、高導電性(高熱放散
性)、エッチング特性(エッチングファクタ、直線
性、平滑性に優れていること)などが重要である。ここ
で、エッチングファクタとは、リードフレームのエッチ
ング後の板厚方向のエッチング深さ(D)と幅方向のエ
ッチング量(S)との比である。
【0003】特に、近年ICの薄手化に伴い、Fe−3
0Ni−Co系合金やCu−Ni−Si系合金が開発さ
れたが、前者は、導電率が低く(3〜4%IACS)、
エッチングファクタが小さい。また、後者は、スティフ
ネス特性とエッチングファクタに劣っていて、何れも全
ての特性を満たしていない。また、特公平4−1571
84号公報は、Fe−42Ni合金などのエッチング条
件としての比重、塩化第一鉄濃度および温度を規定した
ものであるが、本発明の意図するFeとCuの二相合
金におけるエッチング条件としての比重と温度の適正化
および、pHを0〜1.0の範囲に保つことによりエ
ッチングファクタとエッチングフレームコーナーの直線
性と平滑性に優れたファインピッチ型ICリードフレー
ムを提供するエッチング条件については開示していな
い。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】近年、半導体チップの
高集積化および薄型化の要求は目ざましく、リードフレ
ームにおいても一層の多ピン化や小型化が求められてい
る。一般に、リード幅は、ボンディングワイヤの直径の
約3倍が必要とされ、少なくとも100μm程度が必要
である。すなわち、さらなる多ピン化を図るためには、
リード間の間隔を狭めることが必要であり、リードフレ
ーム先端のリード間の間隔を200μm以下としなけれ
ばならない。そのためには、例えば100μmのリード
間隔の場合にはエッチングファクタを2.3以上にする
ことが必要となる。しかし、従来技術では、エッチング
条件の最適化を図っても2.0が限界であった。
【0005】本発明は、高スティフネスで電気伝導率が
10%以上有するFe−Cu合金ICリードフレームで
エッチングファクタが2.3以上で、リードフレームコ
ーナーの直線性、平滑性に優れたFe−Cu合金ICリ
ードフレームとその製造方法を提供することを目的とし
ている。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前述の目
的を達成するために鋭意検討した結果、スティフネス特
性に与える影響として、低曲げモーメント領域ではヤン
グ率が、また、高曲げモーメント領域では降伏強度が大
きく作用することを知見した。本発明者らは、この点を
考慮した、高ヤング率はCu中のFeの存在による二相
微細分散組織により達成でき、また、高降伏強度はFe
相中でのεCuとZrの微細分散強化により達成できる
ことを見出した。また、エッチングにおける、比重と温
度範囲およびpHの範囲から適正エッチング条件を見出
すことにより本発明を完成させるに至った。
【0007】本発明の要旨は、次の通りである。 重量%で、Cu:20〜60%、Cr:0.1〜1
0%、Ti:0.005〜3.5%、Zr:0.001
〜1.5%、Al:0.001〜1.1%、Mo:0.
001〜1.5%、残部Fe及び不可避的不純物からな
るFeとCuの二相合金であって、リードフレームのピ
ン間隔100μmの場合のエッチングファクタが2.3
以上であることを特徴とするFe−Cu合金ICリード
フレーム。 Fe中のCr含有量(重量%)がCr等量(Cr+
3.3Mo+3.3Al/Fe)として、10〜13で
あることを特徴とする前記に記載のFe−Cu合金I
Cリードフレーム。 合金成分として、さらにSi、Ni、Zn、Sn、
Nb、P、La、Ce、Y、V、Ca、Be、Mg、H
fの一種または二種以上を合計で0.005〜8重量%
およびCまたはBの一種または二種を合計で0.005
〜2重量%含有することを特徴とする前記、に記載
のFe−Cu合金ICリードフレーム。
【0008】 重量%で、Cu:20〜60%、C
r:0.1〜10%、Ti:0.005〜3.5%、Z
r:0.001〜1.5%、Al:0.001〜1.1
%、Mo:0.001〜1.5%、残部Fe及び不可避
的不純物からなる溶融金属を100℃/秒の凝固冷却速
度で板厚0.1〜8mmの金属薄板に鋳造して、該金属
板を圧延率50〜95%で一次冷間圧延を行い、次いで
800〜1000℃の温度範囲で焼鈍した後、圧下率1
〜70%で二次冷間圧延を行い、続いて350〜650
℃の温度範囲で時効処理を行った金属板をエッチング原
板とし、比重が1.40〜1.60でpHが0〜1であ
る塩化第二鉄水溶液を45℃〜65℃にしたエッチング
液でエッチングして、リードフレームに加工することに
よりリードフレームのピン間隔100μmの場合のエッ
チングファクタが2.3以上であることを特徴とするF
e−Cu合金ICリードフレームの製造方法。 Fe
中のCr含有量(重量%)がCr等量(Cr+3.3M
o+3.3Al/Fe)として、10〜13であること
を特徴とする前記に記載のFe−Cu合金ICリード
フレームの製造方法。 合金成分として、さらにS
i、Ni、Zn、Sn、Nb、P、La、Ce、Y、
V、Ca、Be、Mg、Hfの一種または二種以上を合
計で0.005〜8重量%、CまたはBの一種または二
種を合計で0.005〜2重量%含有することを特徴と
する前記、に記載のFe−Cu合金ICリードフレ
ームの製造方法。 塩化第二鉄水溶液によりエッチン
グしてリードフレームに加工する際、耐酸化性のレジス
トを用いることを特徴とする前記〜の何れか1項
記載のFe−Cu合金ICリードフレームの製造方法。
【0009】以下に、本発明を詳細に説明する。先ず、
合金の化学組成の限定理由について述べる。Feは、ヤ
ング率を向上させるためには高い程好ましいが、リード
フレーム材料としての電気伝導性(熱放散性)の要求に
対しては、Cuの含有量を制御して目標とするヤング率
と電気伝導性のバランスを得ることが必要である。Cu
は、20重量%未満では、10%IACS以上の電気伝
導性が得られずヤング率の効果しか得られないのでこれ
を下限とする。また、上限を60重量%としたのは、F
eを主とするCu以外の元素の総含有量が40重量%未
満では、本発明合金の特徴とする高ヤング率、高降伏強
度から得られる優れたスティフネス特性が得られなくな
るからである。
【0010】CrとMoおよびAlの耐食性への寄与を
Fe中の重量比すなわちCr等量(Cr+3.3Mo+
3.3Al/Fe)として10〜13に規定するのは、
耐食性と半田濡れ性およびAgメッキ性の関係より10
以下では耐食性が十分得られず、13を超えても耐食性
は飽和して半田濡れ性およびAgメッキ性を劣化させる
のでこの範囲に規定した。Alは、0.001重量%未
満では、組織の均一化への効果が少なく、1.1重量%
超では組織の均一化効果が飽和する上に導電性の低下が
大きくなることや耐食性とAgメッキ性を劣化させるの
でこの範囲に限定した。
【0011】Tiは0.005〜3.5重量%の範囲に
規定する。これは、0.005重量%以下では導電性へ
の効果が小さく、また3.5重量%超では導電性への効
果が飽和する上に鋳造や冷間加工性などの製造性を阻害
するためである。Zrは0.001〜1.5重量%の範
囲が適性である。これは、0.001重量%未満では降
伏強度向上効果が少なく、また1.5重量%超では降伏
強度への効果が飽和する上に冷間加工性を低下させるた
めである。
【0012】また、鋳造組織制御や降伏強度向上、加工
性、半田耐候性(半田付けした後の150℃で1000
時間以上の長時間加熱剥離性)などの改善に、必要に応
じてSi、Ni、Zn、Sn、Nb、P、La、Ce、
Y、V、Ca、Be、Mg、Hfの一種または2種以上
を合計で0.005〜2重量%添加する。
【0013】次に、本発明のリードフレーム用薄板を製
造する方法について説明する。本発明合金は、熱間加工
が工業的に難しいために、例えば溶融金属を急冷凝固的
手段である双ロール式鋳造装置の湯だまり部に注入し
て、冷却ロールの回転によって溶融金属を急速に冷却し
て、板厚0.5〜8mmの金属板を鋳造する。この時の
凝固冷却速度を100℃/秒以上に限定するのは、10
0℃/秒以下の冷却速度では目標とする優れたスティフ
ネスとエッチング後のリードフレームコーナーの直線
性、平滑性を得るためのFeとCuの二相微細分散組織
が得られないためである。また、この鋳造法によれば、
熱間加工工程が省略できるだけでなく、さらに急速凝固
の効果によりFe相中のCu、Cu相中のZrおよびF
eの過飽和度が向上し、その後の時効処理により降伏強
度の向上効果が得られる。
【0014】溶解、鋳造後、冷間加工性付与のため、軟
化焼鈍を施す。この条件は、500〜1000℃で15
〜300分の条件が好ましい。また、鋳造ロール通過後
鋳片の表面温度を500℃まで10℃/分以下の徐冷却
処理でも同様の効果が得られる。引き続いて、圧延率5
0〜95%の一次冷間圧延を行う。この狙いは、リード
フレームとしての必要板厚を得るためであり、また、そ
の後の焼鈍処理による加工性の付与を行うためである。
【0015】上記焼鈍方法は、一次冷間圧延で蓄積した
歪みを開放させて再結晶を行うもので、条件としては6
00〜1050℃で30〜1000秒の範囲が適してい
る。500℃以下では再結晶が不十分であり、1050
℃超では材料が軟化して通板性が劣化する。時間は焼鈍
温度との関係で適正条件として前記範囲に規定される。
【0016】その後、二次冷間圧延を0.5〜20%の
範囲で行い、さらに時効処理を行うことが必要である。
二次冷間圧延率が、0.5%未満では時効析出に必要な
転位密度が不十分であり、20%を超えても時効析出に
対する効果は飽和して、加工性が劣化する。従って、二
次冷間圧延の圧延率を上記範囲に規定する。また、時効
処理は、降伏強度と電気伝導性を向上させるために、製
造工程上必須のものであり、化学組成と前工程条件によ
り適正な条件を選定すべきである。その条件としては、
降伏強度向上と導電性の関係および加工性の観点から最
適条件を選択すべきであり、350℃未満では析出物の
周りに歪みが過剰に生じて導電性や伸びの低下が生じ
る。また、650℃を超えるとCu中のFeとZrの平
衡固容量がCu中に残存して理想的な導電性が得られな
いことや、降伏強度が低下するのでこの範囲に規定す
る。
【0017】次に、前記素材のエッチング条件の限定範
囲について説明するエッチング液は塩化第二鉄水溶液を
用いて行う。適正条件として比重を1.40〜1.60
に限定するのは1.40以下の比重では温度を100℃
近傍まで上昇させてもエッチング速度が小さく、1.6
0以上ではエッチング速度の制御が困難なため、この範
囲に規定する。処理温度は、前記比重との関係から45
℃以下ではエッチングの速度が小さく、65℃では速度
制御が困難であるために前記条件に規定した。さらに、
pHを規定するのは、前記比重と温度条件との組み合わ
せでエッチングファクタを2.3以上に可能ならしめる
ためと、リードフレームコーナーの直線性、平滑性を良
好にすることおよびエッチング液の能力を安定して得る
ために必要で有り、この範囲に規定することにより工場
的生産が容易になるからである。
【0018】以下、本発明を実施例に基いてさらに説明
する。実施例1 表1に示す成分を含有する合金を溶解して、双ロール鋳
造機で板厚2.2mmの鋳片を製造した後、800℃で
1時間の軟化焼鈍を行った。次いで、全圧下率93%で
冷間圧延後、板厚0.15mmの冷間圧延板を得た。さ
らに、1000℃で60秒の焼鈍を行った後、3%の二
次冷間圧延を行い、600℃で6時間の時効処理を施し
た。
【0019】
【表1】
【0020】得られた材料のヤング率、0.2%耐力、
引張り強さ、導電性、耐食性、半田濡れ性、Agメッキ
性および冷間加工性について測定した。その結果を、表
2に示した。また、表2には比較例として、Fe−42
Ni合金、Fe−30Ni−Co合金およびCu−1.
5Ni−0.5Si合金の特性を同一の方法で測定して
併記した。表2中のヤング率は、共振法により、0.2
%耐力と引張り強さは、JIS13号引張り試験片によ
り(引張り速度:10mm/min)、また、導電率
は、4端子法によりそれぞれ求めた。さらに、耐食性
は、JIS−Z2371に準じて塩水噴霧試験を96時
間行って、赤錆の発生率で判定した。半田濡れ性につい
ては、Pb:40、Sn:60の半田を230℃に加熱
して、WWロジンのフラックスで浸漬試験により、濡れ
面積で95%以上を合格とした。また、Agメッキ性
は、5μmメッキ後の耐熱テストにより膨れの発生で判
定した。さらに、冷間加工性は、93%圧延までの割れ
の発生で評価した。
【0021】
【表2】
【0022】表2に示すように、本発明の材料は、特に
ヤング率に優れ、0.2%耐力および引張り強さと導電
性のバランスに優れ、また耐食性、半田濡れ性、Agメ
ッキ性の信頼性についても既存材料と同等である。
【0023】実施例2 実施例1で製造したB材を用いて、塩化第二鉄エッチン
グ液の比重を1.38〜1.70の範囲と、温度を38
〜70℃について、およびpHを−1.0、0.55お
よび1.6の場合について、エッチングファクタとエッ
チング直線性および平滑性について測定を行った。その
結果を、表3に示す。表3より明らかなように、本請求
範囲内でのエッチング条件が本合金のエッチング特性に
優れている。
【0024】
【表3】
【0025】
【発明の効果】本発明によれば、良好なヤング率、降伏
強度、導電性および高エッチングファクタおよび直線
性、平滑性を有すると共に信頼性にも優れている多ピン
型ファインピッチICリードフレーム材料が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−214465(JP,A) 特開 平6−100983(JP,A) 特開 平7−94659(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/48 - 23/50 C22C 9/00 C22C 38/00 302 C22C 38/16

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】重量%で、Cu:20〜60%、Cr:
    0.1〜10%、Ti:0.005〜3.5%、Zr:
    0.001〜1.5%、Al:0.001〜1.1%、
    Mo:0.001〜1.5%、残部Fe及び不可避的不
    純物からなるFeとCuの二相合金であって、リードフ
    レームのピン間隔100μmの場合のエッチングファク
    タが2.3以上であることを特徴とするFe−Cu合金
    ICリードフレーム。
  2. 【請求項2】Fe中のCr含有量(重量%)がCr等量
    (Cr+3.3Mo+3.3Al/Fe)として、10
    〜13であることを特徴とする請求項1に記載のFe−
    Cu合金ICリードフレーム。
  3. 【請求項3】合金成分として、さらにSi、Ni、Z
    n、Sn、Nb、P、La、Ce、Y、V、Ca、B
    e、Mg、Hfの一種または二種以上を合計で0.00
    5〜8重量%およびCまたはBの一種または二種を合計
    で0.005〜2重量%含有することを特徴とする請求
    項1または2に記載のFe−Cu合金ICリードフレー
    ム。
  4. 【請求項4】重量%で、Cu:20〜60%、Cr:
    0.1〜10%、Ti:0.005〜3.5%、Zr:
    0.001〜1.5%、Al:0.001〜1.1%、
    Mo:0.001〜1.5%、残部Fe及び不可避的不
    純物からなるFe−Cu合金の溶融金属を100℃/秒
    の凝固冷却速度で板厚0.1〜8mmの金属薄板に鋳造
    して、該金属板を圧延率50〜95%で一次冷間圧延を
    行い、次いで800〜1000℃の温度範囲で焼鈍した
    後、圧下率1〜70%で二次冷間圧延を行い、続いて3
    50〜650℃の温度範囲で時効処理を行った金属板を
    エッチング原板とし、比重が1.40〜1.60、pH
    が0〜1である塩化第二鉄水溶液を45℃〜65℃にし
    たエッチング液でエッチングしてリードフレームに加工
    することによりリードフレームのピン間隔100μmの
    場合のエッチングファクタが2.3以上であることを特
    徴とするFe−Cu合金ICリードフレームの製造方
    法。
  5. 【請求項5】Fe中のCr含有量(重量%)がCr等量
    (Cr+3.3Mo+3.3Al/Fe)として、10
    〜13であることを特徴とする請求項4に記載のFe−
    Cu合金ICリードフレームの製造方法。
  6. 【請求項6】合金成分として、さらにSi、Ni、Z
    n、Sn、Nb、P、La、Ce、Y、V、Ca、B
    e、Mg、Hfの一種または二種以上を合計で0.00
    5〜8重量%、CまたはBの一種または二種を合計で
    0.005〜2重量%含有することを特徴とする請求項
    4または5に記載のFe−Cu合金ICリードフレーム
    の製造方法。
  7. 【請求項7】塩化第二鉄水溶液によりエッチングしてリ
    ードフレームに加工する際、耐酸化性のレジストを用い
    ることを特徴とする請求項4ないし6の何れか1項に記
    載のFe−Cu合金ICリードフレームの製造方法。
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