JP2008127588A - (CoFe)ZrNb/Ta/Hf系ターゲット材およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 Fe−Co系合金において、Fe:Coのat比が80:20〜0:100で合計80at%以上とし、Zr,Hf,NbおよびTaのいずれか1種または2種以上を20at%未満含有し、強磁性相であるCo−Fe相中に、該Zr,Hf,NbおよびTaのいずれか1種または2種以上を合計で0.5〜2at%固溶していることを特徴とする(CoFe)ZrNb/Ta/Hf系ターゲット材およびその製造方法。
【選択図】 なし
Description
(1)Fe−Co系合金において、Fe:Coのat比が80:20〜0:100で合計80at%以上とし、Zr,Hf,NbおよびTaのいずれか1種または2種以上を20at%未満含有し、強磁性相であるCo−Fe相中に、該Zr,Hf,NbおよびTaのいずれか1種または2種以上を合計で0.5〜2at%固溶していることを特徴とする(CoFe)ZrNb/Ta/Hf系ターゲット材。
(3)加熱温度800℃以上、成形圧500MPa以上で固化成形したことを特徴とする前記(2)に記載の(CoFe)ZrNb/Ta/Hf系ターゲット材の製造方法にある。
Fe:Coのat%比が80:20〜0:100で合計80at%以上
Fe:Co系合金は、飽和磁束密度の大きい合金系として、垂直磁気記録膜として使用される。また、Fe:Coのat%比が80:20〜0:100としたのは、Feに対して、Coが80%を超えると磁気特性が劣化するためである。しかも、FeとCoの合計が80%以上必要で、80%未満では磁気特性が劣化するためである。
Zr,Hf,NbおよびTaは、薄膜のアモルファス化を促進するためであり、これらの添加元素のトータルで20at%以上となると磁気特性が劣化することから、その上限を20at%未満とした。好ましくは5〜15at%とする。
表1に示すように、Fe−Co系合金をガスアトマイズ法によって作製した。ガスアトマイズ法の条件は、ガス種類がアルゴンガス、ノズル径が6mm、ガス圧が5MPaの条件で行った。作製した粉末を500μm以下に分級し、それぞれの粉末をV型混合機により1時間攪拌した。
HIP、アップセット材より20×20×20mmの試験片を採取し、アルキメデス法により測定した。これを相対密度で表した。(相対密度は、上記アルキメデス法の実測密度を、成分から算出した計算密度(それぞれの成分元素の密度を体積平均した数値で除したもの。)
(2)強磁性(Fe−Co相中のZr,Hf,Nb、およびTaの量)
HIP、アップセット材より採取した試験片を研磨し、EDX(微小領域の機器分析)により分析した。(n=10平均)
(3)透磁率測定
リング試験片作製:外径15mm、内径10mm、高さ5mm 装置:B−Hトレーサー
印加磁場:8kA/m
測定項目:透磁率
表1に示すように、No.1〜14は本発明例であり、No.15〜20は比較例である。比較例No.15は、成形温度が低いために、相対密度が低い。比較例No.16は、成形温度が[−294×〔Fe/(Fe+Co)〕+1076]℃より高く、かつ、Fe−Co相中のZr,Hf,Nb、およびTaの1種または2種以上での含有量が低いために、透磁率が高い。比較例No.17は、成形温度が低く、相対密度が低い。
これに対し、本発明例であるNo.1〜14は、いずれも条件を満たしていることから相対密度、透磁率の低いことが分かる。
特許出願人 山陽特殊製鋼株式会社
代理人 弁理士 椎 名 彊
Claims (3)
- Fe−Co系合金において、Fe:Coのat比が80:20〜0:100で合計80at%以上とし、Zr,Hf,NbおよびTaのいずれか1種または2種以上を20at%未満含有し、強磁性相であるCo−Fe相中に、該Zr,Hf,NbおよびTaのいずれか1種または2種以上を合計で0.5〜2at%固溶していることを特徴とする(CoFe)ZrNb/Ta/Hf系ターゲット材。
- 不活性ガスアトマイズ法によって作製された原料粉末を、800℃以上、[−294×〔Fe/(Fe+Co)〕+1076]℃以下の温度で固化成形したことにより、強磁性相であるCo−Fe相中にZr,Hf,NbおよびTaのいずれか1種または2種以上を合計で0.5〜2at%固溶させたことを特徴とする(CoFe)ZrNb/Ta/Hf系ターゲット材の製造方法。
- 加熱温度800℃以上、成形圧500MPa以上で固化成形したことを特徴とする請求項2に記載の(CoFe)ZrNb/Ta/Hf系ターゲット材の製造方法。
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008146574A1 (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-04 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金 |
WO2009104509A1 (ja) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | 日立金属株式会社 | 軟磁性膜形成用Fe-Co系合金スパッタリングターゲット材 |
JP2010059540A (ja) * | 2008-08-04 | 2010-03-18 | Hitachi Metals Ltd | Co−Fe系合金スパッタリングターゲット材の製造方法およびCo−Fe系合金スパッタリングターゲット材 |
WO2010098290A1 (ja) * | 2009-02-25 | 2010-09-02 | 山陽特殊製鋼株式会社 | スパッタリングターゲット材およびその製造方法、ならびにそれらを用いて製造された薄膜 |
WO2013047328A1 (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-04 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層用合金およびスパッタリングターゲット材並びに軟磁性薄膜層を有する垂直磁気記録媒体 |
WO2013125259A1 (ja) * | 2012-02-23 | 2013-08-29 | Jx日鉱日石金属株式会社 | クロム酸化物を含有する強磁性材スパッタリングターゲット |
WO2013183546A1 (ja) * | 2012-06-06 | 2013-12-12 | 日立金属株式会社 | Fe-Co系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 |
WO2014027636A1 (ja) * | 2012-08-14 | 2014-02-20 | 山陽特殊製鋼株式会社 | Fe-Co系合金スパッタリングターゲット材及びその製造方法並びに軟磁性薄膜層及びそれを使用した垂直磁気記録媒体 |
WO2015022963A1 (ja) * | 2013-08-15 | 2015-02-19 | 山陽特殊製鋼株式会社 | Fe-Co系合金スパッタリングターゲット材および軟磁性薄膜層とそれを使用した垂直磁気記録媒体 |
CN110004421A (zh) * | 2019-03-31 | 2019-07-12 | 柳州呈奥科技有限公司 | 一种钴铁铌基靶材及其加工工艺 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4331182B2 (ja) * | 2006-04-14 | 2009-09-16 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 軟磁性ターゲット材 |
JP2008121071A (ja) * | 2006-11-13 | 2008-05-29 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 軟磁性FeCo系ターゲット材 |
JP5253781B2 (ja) * | 2007-09-18 | 2013-07-31 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03112114A (ja) * | 1989-09-27 | 1991-05-13 | Hitachi Ltd | 磁性膜の製造方法およびこれに用いる合金ターゲット |
JPH0766035A (ja) * | 1993-08-25 | 1995-03-10 | Canon Inc | 磁性薄膜 |
JP2002352408A (ja) * | 2001-05-23 | 2002-12-06 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置 |
JP2005320627A (ja) * | 2004-04-07 | 2005-11-17 | Hitachi Metals Ltd | Co合金ターゲット材の製造方法、Co合金ターゲット材および垂直磁気記録用軟磁性膜ならびに垂直磁気記録媒体 |
JP2007284741A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 軟磁性ターゲット材 |
JP2007297688A (ja) * | 2006-05-02 | 2007-11-15 | Sanyo Special Steel Co Ltd | FeCo系ターゲット材 |
JP2008121071A (ja) * | 2006-11-13 | 2008-05-29 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 軟磁性FeCo系ターゲット材 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0635654B2 (ja) | 1985-08-13 | 1994-05-11 | 住友特殊金属株式会社 | 雰囲気変動に対する薄膜磁気特性の安定度の高いタ−ゲツト材 |
DE3935698C2 (de) * | 1988-10-26 | 1995-06-22 | Sumitomo Metal Mining Co | Legierungstarget für die Herstellung eines magneto-optischen Aufzeichnungsmediums |
JPH04325670A (ja) | 1991-04-25 | 1992-11-16 | Seiko Epson Corp | スパッタリング用ターゲットの製造方法及びスパッタリング用ターゲット |
KR960002611B1 (ko) * | 1991-09-30 | 1996-02-23 | 가부시키가이샤 도시바 | 강 자성막 |
JPH08311642A (ja) * | 1995-03-10 | 1996-11-26 | Toshiba Corp | マグネトロンスパッタリング法及びスパッタリングターゲット |
US5780175A (en) * | 1996-02-02 | 1998-07-14 | Lucent Technologies Inc. | Articles comprising magnetically soft thin films and methods for making such articles |
KR100348920B1 (ko) * | 1998-09-03 | 2002-08-14 | 마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤 | 자성막과 그 제조 방법 |
US20020058159A1 (en) * | 2000-11-15 | 2002-05-16 | Yukiko Kubota | Soft magnetic underlayer (SUL) for perpendicular recording medium |
JP2002309353A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-10-23 | Fujitsu Ltd | 軟磁性膜及びこれを用いる記録用の磁気ヘッド |
US7141208B2 (en) * | 2003-04-30 | 2006-11-28 | Hitachi Metals, Ltd. | Fe-Co-B alloy target and its production method, and soft magnetic film produced by using such target, and magnetic recording medium and TMR device |
JP4016399B2 (ja) | 2003-04-30 | 2007-12-05 | 日立金属株式会社 | Fe−Co−B合金ターゲット材の製造方法 |
JP2005025890A (ja) * | 2003-07-04 | 2005-01-27 | Fujitsu Ltd | 磁気ヘッド用磁性膜 |
US20060042938A1 (en) * | 2004-09-01 | 2006-03-02 | Heraeus, Inc. | Sputter target material for improved magnetic layer |
US7566508B2 (en) * | 2005-03-02 | 2009-07-28 | Seagate Technology Llc | Perpendicular media with Cr-doped Fe-alloy-containing soft underlayer (SUL) for improved corrosion performance |
US20070017803A1 (en) * | 2005-07-22 | 2007-01-25 | Heraeus, Inc. | Enhanced sputter target manufacturing method |
US20080083616A1 (en) * | 2006-10-10 | 2008-04-10 | Hitachi Metals, Ltd. | Co-Fe-Zr BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF |
-
2006
- 2006-11-17 JP JP2006311129A patent/JP5111835B2/ja active Active
-
2007
- 2007-11-15 SG SG200717849-4A patent/SG143177A1/en unknown
- 2007-11-16 US US11/941,504 patent/US8066825B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03112114A (ja) * | 1989-09-27 | 1991-05-13 | Hitachi Ltd | 磁性膜の製造方法およびこれに用いる合金ターゲット |
JPH0766035A (ja) * | 1993-08-25 | 1995-03-10 | Canon Inc | 磁性薄膜 |
JP2002352408A (ja) * | 2001-05-23 | 2002-12-06 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置 |
JP2005320627A (ja) * | 2004-04-07 | 2005-11-17 | Hitachi Metals Ltd | Co合金ターゲット材の製造方法、Co合金ターゲット材および垂直磁気記録用軟磁性膜ならびに垂直磁気記録媒体 |
JP2007284741A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 軟磁性ターゲット材 |
JP2007297688A (ja) * | 2006-05-02 | 2007-11-15 | Sanyo Special Steel Co Ltd | FeCo系ターゲット材 |
JP2008121071A (ja) * | 2006-11-13 | 2008-05-29 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 軟磁性FeCo系ターゲット材 |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7942985B2 (en) | 2007-05-29 | 2011-05-17 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | Alloy for soft magnetic layer in perpendicular magnetic recording medium |
WO2008146574A1 (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-04 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金 |
WO2009104509A1 (ja) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | 日立金属株式会社 | 軟磁性膜形成用Fe-Co系合金スパッタリングターゲット材 |
JP5359890B2 (ja) * | 2008-02-18 | 2013-12-04 | 日立金属株式会社 | 軟磁性膜形成用Fe−Co系合金スパッタリングターゲット材 |
JP2010059540A (ja) * | 2008-08-04 | 2010-03-18 | Hitachi Metals Ltd | Co−Fe系合金スパッタリングターゲット材の製造方法およびCo−Fe系合金スパッタリングターゲット材 |
WO2010098290A1 (ja) * | 2009-02-25 | 2010-09-02 | 山陽特殊製鋼株式会社 | スパッタリングターゲット材およびその製造方法、ならびにそれらを用いて製造された薄膜 |
JP2010196110A (ja) * | 2009-02-25 | 2010-09-09 | Sanyo Special Steel Co Ltd | スパッタリングターゲット材およびこれを用いて製造した薄膜 |
WO2013047328A1 (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-04 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層用合金およびスパッタリングターゲット材並びに軟磁性薄膜層を有する垂直磁気記録媒体 |
JP2013072114A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-22 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層用合金およびスパッタリングターゲット材並びに軟磁性薄膜層を有する垂直磁気記録媒体。 |
CN103842549A (zh) * | 2011-09-28 | 2014-06-04 | 山阳特殊制钢株式会社 | 在垂直磁记录介质上的软磁性薄膜层中使用的合金,溅射靶材,以及具有软磁性薄膜层的垂直磁记录介质 |
WO2013125259A1 (ja) * | 2012-02-23 | 2013-08-29 | Jx日鉱日石金属株式会社 | クロム酸化物を含有する強磁性材スパッタリングターゲット |
JP2014240525A (ja) * | 2012-02-23 | 2014-12-25 | Jx日鉱日石金属株式会社 | クロム酸化物を含有する強磁性材スパッタリングターゲット |
JPWO2013125259A1 (ja) * | 2012-02-23 | 2015-07-30 | Jx日鉱日石金属株式会社 | クロム酸化物を含有する強磁性材スパッタリングターゲット |
WO2013183546A1 (ja) * | 2012-06-06 | 2013-12-12 | 日立金属株式会社 | Fe-Co系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 |
US9773654B2 (en) | 2012-06-06 | 2017-09-26 | Hitachi Metals, Ltd. | Fe-Co-based alloy sputtering target material, and method of producing same |
WO2014027636A1 (ja) * | 2012-08-14 | 2014-02-20 | 山陽特殊製鋼株式会社 | Fe-Co系合金スパッタリングターゲット材及びその製造方法並びに軟磁性薄膜層及びそれを使用した垂直磁気記録媒体 |
WO2015022963A1 (ja) * | 2013-08-15 | 2015-02-19 | 山陽特殊製鋼株式会社 | Fe-Co系合金スパッタリングターゲット材および軟磁性薄膜層とそれを使用した垂直磁気記録媒体 |
JP2015036453A (ja) * | 2013-08-15 | 2015-02-23 | 山陽特殊製鋼株式会社 | Fe−Co系合金スパッタリングターゲット材および軟磁性薄膜層とそれを使用した垂直磁気記録媒体 |
CN105473759A (zh) * | 2013-08-15 | 2016-04-06 | 山阳特殊制钢株式会社 | Fe-Co系合金溅射靶材和软磁性薄膜层、以及使用它的垂直磁记录介质 |
TWI621718B (zh) * | 2013-08-15 | 2018-04-21 | Sanyo Special Steel Co Ltd | Fe-Co alloy sputtering target material and soft magnetic film layer and perpendicular magnetic recording medium using same |
CN110004421A (zh) * | 2019-03-31 | 2019-07-12 | 柳州呈奥科技有限公司 | 一种钴铁铌基靶材及其加工工艺 |
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