JPH04325670A - スパッタリング用ターゲットの製造方法及びスパッタリング用ターゲット - Google Patents
スパッタリング用ターゲットの製造方法及びスパッタリング用ターゲットInfo
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- JPH04325670A JPH04325670A JP9569591A JP9569591A JPH04325670A JP H04325670 A JPH04325670 A JP H04325670A JP 9569591 A JP9569591 A JP 9569591A JP 9569591 A JP9569591 A JP 9569591A JP H04325670 A JPH04325670 A JP H04325670A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気薄膜成膜用のスパ
ッタリング用ターゲットに関する。
ッタリング用ターゲットに関する。
【０００２】
【従来技術】光磁気記録膜あるいはその他の磁気薄膜成
膜用のスパッタリング用ターゲットの製造法としては、
従来より鋳造法、焼結法、特開昭６２−２０５５５６に
見られる半溶融ターゲット、１９８８年日本応用磁気学
会学術講演概要集２ａＢ−８に見られる含浸ターゲット
がある。
膜用のスパッタリング用ターゲットの製造法としては、
従来より鋳造法、焼結法、特開昭６２−２０５５５６に
見られる半溶融ターゲット、１９８８年日本応用磁気学
会学術講演概要集２ａＢ−８に見られる含浸ターゲット
がある。
【０００３】一般的に光磁気用スパッタリング用ターゲ
ットは、希土類金属、遷移金属（鉄、コバルト等）及び
少量の添加物により構成されている。従来粉末工程を経
るスパッタリング用ターゲットの製造法において、Ｆｅ
、Ｃｏを混合する場合は、Ｆｅ粉、Ｃｏ粉の単元素粉を
混合し所望組成を得ていた。また合金粉を使用する場合
は、同一組成を大量に使用する場合のみ調整・作成し使
用していた。また主に遷移金属と希土類から製作され粉
末工程を経過するスパッタリング用ターゲッは最大透磁
率は低減されていなかった。
ットは、希土類金属、遷移金属（鉄、コバルト等）及び
少量の添加物により構成されている。従来粉末工程を経
るスパッタリング用ターゲットの製造法において、Ｆｅ
、Ｃｏを混合する場合は、Ｆｅ粉、Ｃｏ粉の単元素粉を
混合し所望組成を得ていた。また合金粉を使用する場合
は、同一組成を大量に使用する場合のみ調整・作成し使
用していた。また主に遷移金属と希土類から製作され粉
末工程を経過するスパッタリング用ターゲッは最大透磁
率は低減されていなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし前記従来の方法
に於て制作されたスパッタリング用ターゲットは最大透
磁率が高い。マグネトロンスパッタを用いるとき最大透
磁率が大きいとエロージョン部分が狭くなり、ターゲッ
トの使用効率が悪くなる。従って透磁率の高いスパッタ
リング用ターゲットは使用効率が低く成膜時の生産効率
が著しく低くなるという問題点を有していた。
に於て制作されたスパッタリング用ターゲットは最大透
磁率が高い。マグネトロンスパッタを用いるとき最大透
磁率が大きいとエロージョン部分が狭くなり、ターゲッ
トの使用効率が悪くなる。従って透磁率の高いスパッタ
リング用ターゲットは使用効率が低く成膜時の生産効率
が著しく低くなるという問題点を有していた。
【０００５】そこで本発明は、このような問題点を解決
するもので、その目的とするところは、使用効率の高い
スパッタリング用ターゲットを提供するところにある。
するもので、その目的とするところは、使用効率の高い
スパッタリング用ターゲットを提供するところにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のスパッタリング
用ターゲットの製造方法及びスパッタリング用ターゲッ
トは、 （１） 遷移金属を使用し、粉末工程を用いて作られ
るスパッタリング用ターゲットの製造方法において、使
用する粉末中のの鉄とコバルト（以後Ｆｅ、Ｃｏと記す
）の所望原子比をＦｅｘＣｏ１００−ｘで表わしたとき
、
用ターゲットの製造方法及びスパッタリング用ターゲッ
トは、 （１） 遷移金属を使用し、粉末工程を用いて作られ
るスパッタリング用ターゲットの製造方法において、使
用する粉末中のの鉄とコバルト（以後Ｆｅ、Ｃｏと記す
）の所望原子比をＦｅｘＣｏ１００−ｘで表わしたとき
、
【０００７】
【数５】０≦ｘ≦３５
の場合に、ＦｅＡＣｏ１００−Ａ（１０≦Ａ≦３０）な
る組成の合金粉と純Ｃｏ粉を混合することにより上記所
望組成の粉末を得ることを特徴とする。
る組成の合金粉と純Ｃｏ粉を混合することにより上記所
望組成の粉末を得ることを特徴とする。
【０００８】（２） 上記請使用粉末中の所望原子比
ｘが
ｘが
【０００９】
【数６】２３≦ｘ≦７７
の場合、ＦｅＡＣｏ１００−Ａ（１５≦Ａ≦３０）なる
合金粉とＦｅＢＣｏ１００−Ｂ（７０≦Ｂ≦８０）なる
２種の合金粉を混合して前記所望組成粉末を得ることを
特徴とする。
合金粉とＦｅＢＣｏ１００−Ｂ（７０≦Ｂ≦８０）なる
２種の合金粉を混合して前記所望組成粉末を得ることを
特徴とする。
【００１０】（３） 上記請使用粉末中の所望原子比
ｘが
ｘが
【００１１】
【数７】７７≦ｘ≦１００
の場合、組成がＦｅｘＣｏ１００−ｘなる合金粉を製作
し、それを使用することを特徴とする。
し、それを使用することを特徴とする。
【００１２】（４） 上記請使用粉末中の所望原子比
ｘが
ｘが
【００１３】
【数８】７７≦ｘ≦１００
の場合、ＦｅＡＣｏ１００−Ａ（７０≦Ａ≦８０）なる
合金粉と純Ｆｅ粉の２種の合金粉を混合して前記所望組
成粉末を得ることを特徴とする製造方法。
合金粉と純Ｆｅ粉の２種の合金粉を混合して前記所望組
成粉末を得ることを特徴とする製造方法。
【００１４】また主に遷移金属と希土類からなり、最大
透磁率が２０以下であることを特徴とすることにより課
題を解決したスパッタリング用ターゲット。
透磁率が２０以下であることを特徴とすることにより課
題を解決したスパッタリング用ターゲット。
【００１５】
【作用】ＦｅとＣｏの合金は、その組成により最大透磁
率は大きく変わる。ＲＩＣＨＡＲＤ Ｍ．ＢＯＺＯＲＴ
Ｈ， ＦＥＲＲＯＭＡＧＮＥＴＩＳＭ，１９７（１９５
３）参照。ある組成領域においてはＦｅとＣｏの合金粉
は、ＦｅとＣｏの純金属の混合粉よりも最大透磁率が低
い。例えばＦｅ８０Ｃｏ２０の組成を持つ合金粉の最大
透磁率はＦｅ粉を８０％Ｃｏ粉を８０％混合した混合粉
体の最大透磁率より低い。
率は大きく変わる。ＲＩＣＨＡＲＤ Ｍ．ＢＯＺＯＲＴ
Ｈ， ＦＥＲＲＯＭＡＧＮＥＴＩＳＭ，１９７（１９５
３）参照。ある組成領域においてはＦｅとＣｏの合金粉
は、ＦｅとＣｏの純金属の混合粉よりも最大透磁率が低
い。例えばＦｅ８０Ｃｏ２０の組成を持つ合金粉の最大
透磁率はＦｅ粉を８０％Ｃｏ粉を８０％混合した混合粉
体の最大透磁率より低い。
【００１６】ターゲット中にＦｅとＣｏがある組成比で
所望される場合、その所望組成を最大透磁率の低い適当
な合金粉を混合することにより得、それを焼結・含浸等
に使用するとＦｅ、Ｃｏ純金属粉を使用した場合より作
成されたターゲットの最大透磁率は低くなる。
所望される場合、その所望組成を最大透磁率の低い適当
な合金粉を混合することにより得、それを焼結・含浸等
に使用するとＦｅ、Ｃｏ純金属粉を使用した場合より作
成されたターゲットの最大透磁率は低くなる。
【００１７】
【実施例】以下に実施例に基づき本発明を説明する。
【００１８】実施例としてＴｂＦｅＣｏの光磁気用スパ
ッタリングターゲットを焼結法あるいは含浸法等の粉末
工程を経る工程にて作成した。使用するＦｅ、Ｃｏ、Ｆ
ｅＣｏ合金粉はアトマイズ法により所望組成の合金ある
いは純金属（純元素）のものを作成した。
ッタリングターゲットを焼結法あるいは含浸法等の粉末
工程を経る工程にて作成した。使用するＦｅ、Ｃｏ、Ｆ
ｅＣｏ合金粉はアトマイズ法により所望組成の合金ある
いは純金属（純元素）のものを作成した。
【００１９】（実施例１） ｘが ０≦ｘ≦３５
で表わされる場合のターゲットを作成しその最大透磁
率及び使用効率を測定しそれを表１に示す。比較例とし
てＦｅ及びＣｏ粉を混合し使用した場合を示す。ＦｅＡ
Ｃｏ１００−Ａ（１０≦Ａ≦３０）なる組成の合金粉と
純Ｃｏ粉を混合し使用した方が最大透磁率が低く使用効
率が高いことがわかる。
で表わされる場合のターゲットを作成しその最大透磁
率及び使用効率を測定しそれを表１に示す。比較例とし
てＦｅ及びＣｏ粉を混合し使用した場合を示す。ＦｅＡ
Ｃｏ１００−Ａ（１０≦Ａ≦３０）なる組成の合金粉と
純Ｃｏ粉を混合し使用した方が最大透磁率が低く使用効
率が高いことがわかる。
【００２０】
【表１】
【００２１】（実施例２） ｘが ２３≦ｘ≦７７
の場合、ＦｅＡＣｏ１００−Ａ（１５≦Ａ≦３０）
なる合金粉とＦｅＢＣｏ１００−Ｂ（７０≦Ｂ≦８０）
なる２種の合金粉を混合しターゲットを作成しその最大
透磁率及び使用効率を測定しそれを表２に示す。比較例
としてＦｅ及びＣｏ粉を混合し使用した場合を示す。Ｆ
ｅＡＣｏ１００−Ａ（１５≦Ａ≦３０）なる合金粉とＦ
ｅＢＣｏ１００−Ｂ（７０≦Ｂ≦８０）なる２種の合金
粉を混合し使用した方が最大透磁率が低く使用効率が高
いことがわかる。
の場合、ＦｅＡＣｏ１００−Ａ（１５≦Ａ≦３０）
なる合金粉とＦｅＢＣｏ１００−Ｂ（７０≦Ｂ≦８０）
なる２種の合金粉を混合しターゲットを作成しその最大
透磁率及び使用効率を測定しそれを表２に示す。比較例
としてＦｅ及びＣｏ粉を混合し使用した場合を示す。Ｆ
ｅＡＣｏ１００−Ａ（１５≦Ａ≦３０）なる合金粉とＦ
ｅＢＣｏ１００−Ｂ（７０≦Ｂ≦８０）なる２種の合金
粉を混合し使用した方が最大透磁率が低く使用効率が高
いことがわかる。
【００２２】
【表２】
【００２３】（実施例３） ｘが ７７≦ｘ≦１０
０ の場合、組成がＦｅｘＣｏ１００−ｘなる合金粉
を製作し、それを使用しターゲットを作成しその最大透
磁率及び使用効率を測定しそれを表３に示す。比較例と
してＦｅ及びＣｏ粉を混合し使用した場合を示す。合金
粉を使用した方が最大透磁率が低く使用効率が高いこと
がわかる。
０ の場合、組成がＦｅｘＣｏ１００−ｘなる合金粉
を製作し、それを使用しターゲットを作成しその最大透
磁率及び使用効率を測定しそれを表３に示す。比較例と
してＦｅ及びＣｏ粉を混合し使用した場合を示す。合金
粉を使用した方が最大透磁率が低く使用効率が高いこと
がわかる。
【００２４】
【表３】
【００２５】（実施例４） ｘが ７７≦ｘ≦１０
０ の場合、ＦｅＡＣｏ１００−Ａ（７０≦Ａ≦８０
）なる合金粉と純Ｆｅ粉の２種の合金粉を混合しターゲ
ットを作成しその最大透磁率及び使用効率を測定しそれ
を表４に示す。比較例としてＦｅ及びＣｏ粉を混合し使
用した場合を示す。ＦｅＡＣｏ１００−Ａ（７０≦Ａ≦
８０）なる合金粉と純Ｆｅ粉の２種の合金粉を混合し使
用した方が最大透磁率が低く使用効率が高いことがわか
る。
０ の場合、ＦｅＡＣｏ１００−Ａ（７０≦Ａ≦８０
）なる合金粉と純Ｆｅ粉の２種の合金粉を混合しターゲ
ットを作成しその最大透磁率及び使用効率を測定しそれ
を表４に示す。比較例としてＦｅ及びＣｏ粉を混合し使
用した場合を示す。ＦｅＡＣｏ１００−Ａ（７０≦Ａ≦
８０）なる合金粉と純Ｆｅ粉の２種の合金粉を混合し使
用した方が最大透磁率が低く使用効率が高いことがわか
る。
【００２６】
【表４】
【００２７】また最大透磁率が２０を越えると使用効率
が著しく低下する事がわかる。
が著しく低下する事がわかる。
【００２８】本実施例においてはＴｂＦｅＣｏ系のみを
示したがＤｙ、Ｎｄ、Ｇｄあるいは少量の添加物を加え
ても同様な効果が得られる。また光磁気記録媒体用のタ
ーゲットのみでなく、ＦｅＣｏを粉末工程にて使用する
ターゲットにおいて同様な効果が得られる。
示したがＤｙ、Ｎｄ、Ｇｄあるいは少量の添加物を加え
ても同様な効果が得られる。また光磁気記録媒体用のタ
ーゲットのみでなく、ＦｅＣｏを粉末工程にて使用する
ターゲットにおいて同様な効果が得られる。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したような本発明のスパッタリ
ング用ターゲットの製造方法及びスパッタリング用ター
ゲットを使用することにより透磁率が低く使用効率がよ
くなるという効果を有する。
ング用ターゲットの製造方法及びスパッタリング用ター
ゲットを使用することにより透磁率が低く使用効率がよ
くなるという効果を有する。
Claims (5)
- 【請求項１】 遷移金属を使用し、粉末工程を用いて
作られるスパッタリング用ターゲットの製造方法におい
て、使用する粉末中のの鉄とコバルト（以後Ｆｅ、Ｃｏ
と記す）の所望原子比をＦｅｘＣｏ１００−ｘで表わし
たとき、 【数１】０≦ｘ≦３５ の場合に、ＦｅＡＣｏ１００−Ａ（１０≦Ａ≦３０）な
る組成の合金粉と純Ｃｏ粉を混合することにより上記所
望組成の粉末を得ることを特徴とするスパッタリング用
ターゲットの製造方法。 - 【請求項２】 上記請使用粉末中の所望原子比ｘが【
数２】２３≦ｘ≦７７ の場合、ＦｅＡＣｏ１００−Ａ（１５≦Ａ≦３０）なる
合金粉とＦｅＢＣｏ１００−Ｂ（７０≦Ｂ≦８０）なる
２種の合金粉を混合して前記所望組成粉末を得ることを
特徴とする請求項１記載のスパッタリング用ターゲット
の製造方法。 - 【請求項３】 上記請使用粉末中の所望原子比ｘが【
数３】７７≦ｘ≦１００ の場合、組成がＦｅｘＣｏ１００−ｘなる合金粉を製作
し、それを使用することを特徴とする請求項１記載のス
パッタリング用ターゲットの製造方法。 - 【請求項４】 上記請使用粉末中の所望原子比ｘが【
数４】７７≦ｘ≦１００ の場合、ＦｅＡＣｏ１００−Ａ（７０≦Ａ≦８０）なる
合金粉と純Ｆｅ粉の２種の合金粉を混合して前記所望組
成粉末を得ることを特徴とする請求項１記載のスパッタ
リング用ターゲットの製造方法。 - 【請求項５】 主に遷移金属と希土類からなり、最大
透磁率が２０以下であることを特徴とするスパッタリン
グ用ターゲット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9569591A JPH04325670A (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | スパッタリング用ターゲットの製造方法及びスパッタリング用ターゲット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9569591A JPH04325670A (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | スパッタリング用ターゲットの製造方法及びスパッタリング用ターゲット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04325670A true JPH04325670A (ja) | 1992-11-16 |
Family
ID=14144636
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9569591A Pending JPH04325670A (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | スパッタリング用ターゲットの製造方法及びスパッタリング用ターゲット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04325670A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0640964A1 (en) * | 1993-07-30 | 1995-03-01 | Hitachi Metals, Ltd. | Target for magneto-optical recording medium and process for production therefof |
| US5576100A (en) * | 1993-07-01 | 1996-11-19 | U.S. Philips Corporation | Magneto-optical recording medium |
| JP2009203537A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-10 | Hitachi Metals Ltd | Ｃｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 |
| US8057650B2 (en) | 2006-11-13 | 2011-11-15 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | Soft magnetic FeCo based target material |
| US8066825B2 (en) | 2006-11-17 | 2011-11-29 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | (CoFe)Zr/Nb/Ta/Hf based target material |
-
1991
- 1991-04-25 JP JP9569591A patent/JPH04325670A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5576100A (en) * | 1993-07-01 | 1996-11-19 | U.S. Philips Corporation | Magneto-optical recording medium |
| EP0640964A1 (en) * | 1993-07-30 | 1995-03-01 | Hitachi Metals, Ltd. | Target for magneto-optical recording medium and process for production therefof |
| US8057650B2 (en) | 2006-11-13 | 2011-11-15 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | Soft magnetic FeCo based target material |
| US8066825B2 (en) | 2006-11-17 | 2011-11-29 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | (CoFe)Zr/Nb/Ta/Hf based target material |
| JP2009203537A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-10 | Hitachi Metals Ltd | Ｃｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 |
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