JP2007508409A - オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料の調製方法及びその調製装置 - Google Patents

オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料の調製方法及びその調製装置 Download PDF

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Abstract

電荷発生材料としてのオキシチタンフタロシアニンの調製のための方法及び装置をここに開示する。上記方法は、オキシチタンフタロシアニン粗原料と有機溶媒を均一に混合し、その間0.1〜100GHzの周波数及び10〜3000Wの電力を有するマイクロ波エネルギー及び1〜1000kHzの周波数及び10〜5000Wの電力を有する超音波エネルギーが、そこに適用される工程及び上記混合物を30〜100℃で、0.5〜5時間で反応させる工程を含む。上記装置は、0.1〜100GHzの周波数及び100〜3000Wの電力を発生できるマグネトロン1、マイクロ波容器2でマイクロ波の波長を均一にするモード撹拌機3、反応体の温度を正確に測定及び調節するためのPID型の温度調節器9、マイクロ波から遮蔽されたK-型熱電対4、コンデンサー5、攪拌器6であって、上記熱電対4、上記コンデンサー5及び上記攪拌器6は、上記マイクロ波容器2の頂部に形成された3つの開口部に挿入されているもの、マイクロ波容器2の底部に形成された開口部に挿入された超音波チップ7、上記反応体が導入されるパイレックス(登録商標)容器9、及び溶媒タンク10を含む。上記方法及び上記装置に従って、優れた熱安定性及び結晶安定性を有するオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料が、効率的な方法で調製され得る。

Description

発明の詳細な説明
(技術分野)
本発明は、電荷発生材料として好適なオキシチタンフタロシアニンの調製のための方法及び装置に関する。特に、本発明は、超音波及びマイクロ波を共に使用することによって優れた結晶安定性を有する電荷発生材料としてのオキシチタンフタロシアニンの調製方法及び上記方法を実施する装置に関する。
(背景)
光伝導体は、可視領域で非常に感光性であり、またコピー機、プリンターなどの種々の装置に広く使用される。ほとんど現在使用される光伝導体は、セレン、酸化亜鉛、硫化カドミウムなどから選択される無機電荷発生材料を主成分として含む感光性層を導電性支持体に適用することによって製造される。しかし、これらの無機電荷発生材料は、感光性、熱安定性、耐水性、耐久性及びコピー機及びプリンターに必要とされる他の物理特性においてまだ不十分である。例えば、硫化カドミウムを使用する光伝導体は、低い耐水性及び低い耐久性であり、また酸化亜鉛を使用する光伝導体は、低耐久性の点で問題がある。さらに、セレン及び硫化カドミウムを使用する光伝導体は、その製造及び処理において制限される。
上記無機電荷発生材料の問題を解決するために、多大の研究が、有機電荷発生材料において実施されてきた。もちろん、オキシチタンフタロシアニンは、その優れた感光性、耐久性、熱安定性などのために広く使用される。
オキシチタンフタロシアニンは、種々の結晶形で存在することが既知である。代表的な結晶形は、α-型(B-又はII-型)、β-型(A-又はI-型)、メタ-型(C-又はIII-型)、γ-型(D-又はIV-型)、等である。これらの中で、γ-型オキシチタンフタロシアニンが、他の型より良い電子写真特性(electrophotographic characteristics)を有するので、それは、電荷発生材料として広く使用される。オキシチタンフタロシアニンが、X-線回折パターンによって決まる種々の電子写真特性を示すので、そのX-線回折パターンを特徴とするオキシチタンフタロシアニンは、多くの製造会社に帰属される特許によって保護される。米国特許第5,132,197号明細書は、9.0°、14.2°、23.9°及び27.1°のブラッグ角でX-線回折特性ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。米国特許第5,194,354号明細書は、7.2°、14.2°、24.0°及び27.2°、7.4°、10.9°及び17.9°、7.6°、9.7°、12.7°、16.2°及び26.4°、又は8.5°及び10.2°のブラッグ角でのX-線回折ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。米国特許第5,298,353号明細書は、9.0°、14.2°、23.9°及び27.1°、又は7.4°、9.2°、10.4°、11.6°、13.0°、14.3°、15.0°、15.5°、23.4°、24.1°、26.2°及び27.2°のブラッグ角でのX-線回折ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。米国特許第5,593,805号明細書は、7.4°、10.2°、12.5°、15.0°、16.3°、18.3°、22.4°、24.2°、25.2°及び28.5°のブラッグ角でのX-線回折ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。米国特許第4,728,592は、7.6°、10.2°、12.6°、13.2°、15.1°、16.2°、17.2°、18.3°、22.5°、24.2°、25.3°、28.6°、29.3°、及び31.5°のブラッグ角でのX-線回折ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。米国特許第5,252,417号明細書は、9.5°、14.3°、18.0°、24.0°及び27.2°のブラッグ角でのX-線回折ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。米国特許第5,567,559号明細書は、7.5°、9.3°、13.6°、14.3°、17.9°、24.0°、27.2°及び29.1°、又は7.4°、9.5°、11.6°、13.6°、14.3°、17.9°、24.0°、27.2°及び29.1°のブラッグ角でのX-線回折ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。米国特許第6,284,420号明細書は、7.3°、9.4°、14.0°、24.1°、25.7°、27.2°、及び28.5°のブラッグ角でのX-線回折ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。米国特許第4,898,799号明細書は、9.5°、11.7°、15.0°、23.5°、24.1°及び27.3°のブラッグ角でのX-線回折ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。米国特許第4,994,339号明細書は、9.6°、11.7°、24.1°及び25.2°のブラッグ角でのX-線回折ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。米国特許第5,039,586号明細書は、6.8°、9.5°、11.5°、13.4°、18.0°、24.1°及び27.3°のブラッグ角でのX-線回折ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。米国特許第4,664,997号明細書は、9.3°、10.6°、13.2°、15.1°、15.7°、16.1°、20.8°、23.3°、26.3°及び27.1°のブラッグ角でのX-線回折ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。米国特許第5,213,929号明細書は、7.4°、22.3°、24.1°、25.3°、27.3°及び28.5°のブラッグ角でのX-線回折ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。米国特許第5,972,551号明細書は、7.4°、9.4°、9.7°及び27.3°のブラッグ角でのX-線回折ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。米国特許第6,447,965号明細書は、7.3°、9.4°、9.6°、11.6°、13.3°、17.9°、24.1°及び27.2°のブラッグ角でのX-線回折ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。米国特許第5,350,844号明細書は、6.8°、9.2°、10.4°、12.3°、13.1°、15.0°、15.6°、16.0°、20.6°、23.2°、25.3°、26.2°、26.5°及び27.1°のブラッグ角でのX-線回折ピークを示すオキシチタンフタロシアニンを開示する。本発明の方法によって調製されるオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料は、7.2°、9.6°、11.7°、12.7°、13.4°、14.1°、14.8°、18.0°、18.4°、22.3°、24.1°及び27.2°のブラッグ角でのX-線回折特性ピーク、27.2°のブラッグ角での最強ピーク、9.6°のブラッグ角での二番目に強いピーク、9.6°及び24.1°のブラッグ角での分裂のない単一ピーク、及び26°〜28°のブラッグ角での非回折ピークを示すことを特徴とする。ここで使用されるブラッグ角は、2θ値であり、±0.2°の誤差範囲を有する。
オキシチタンフタロシアニンは、主材料として1,2-ジシアノベンゼン又は1,3-ジイミノイソインドリンをチタン源としてチタンテトラクロリド又はテトラアルコキシチタンを溶媒としてN-メチルピロリドン、1-クロロナフタレン又はキノリン中、160〜200℃で6〜12時間で反応させることによって、及び得られた反応生成物を精製することによって一般に合成される。この最終生成物は、「粗状態のオキシチタンフタロシアニン(以降、「オキシチタンフタロシアニン粗原料」と言及される)」と厳密に定義される。日本特許第62-256865号明細書は、1,2-ジシアノベンゼン及びチタンテトラクロリドを使用することによるオキシチタンフタロシアニンの調製方法を記載し、米国特許第4,971,877号明細書は、1,3-ジイミノイソインドリン及びテトラアルコキシチタンを使用することによるオキシチタンフタロシアニンの調製方法を開示し、またBull. Chem. Jpn., 68, 1001-1005, 1995は、1,2-ジシアノベンゼン及びテトラブトキシチタンを使用することによるオキシチタンフタロシアニンの調製方法を報告する。オキシチタンフタロシアニン粗原料は、その大きい粒径及び悪い電子写真特性のために、電荷発生材料として直接使用され得ないので、高い感光性の電荷発生材料として使用されるために適当な後処理工程を受けなくてはならない。
オキシチタンフタロシアニンの構造式は、式1
Figure 2007508409
によって示される。
オキシチタンフタロシアニン粗原料の代表的な後処理方法は、このオキシチタンフタロシアニン粗原料を濃硫酸又は過塩素処理されたカルボン酸に溶解し、種々の有機溶媒、例えば水から再結晶し、またハロゲン化芳香族溶媒、例えばハロベンゼン又はハロナフタレンで処理してオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料を調製する。米国特許第5,164,493号明細書は、濃硫酸及びクロロベンゼンを使用することによるオキシチタンフタロシアニンの調製方法を記載する。米国特許第5,252,417号明細書は、トリフルオロ酢酸とクロロベンゼンを使用することによるオキシチタンフタロシアニンの調製方法を記載する。米国特許第5,786,121号明細書は、ペンタフルオロプロピオン酸とクロロベンゼンを使用することによるオキシチタンフタロシアニンの調製方法を記載する。米国特許第6,521,387号明細書は、濃硫酸と1,2-ジクロロエタンを使用することによるオキシチタンフタロシアニンの調製方法を記載する。米国特許第5,773,184号明細書は、ジフルオロ酢酸又はジクロロ酢酸を使用することによるオキシチタンフタロシアニンの調製方法を記載する。
オキシチタンフタロシアニン粗原料の代表的な別の後処理工程は、このオキシチタンフタロシアニン粗原料を粉砕機、例えばボールミル、振動ミル又はアトリッターを使用して乾燥粉砕し、次いで有機溶媒で処理する工程である。米国特許第5,567,559号明細書は、ボールミル及びn-ブチルエーテルを使用するオキシチタンフタロシアニンの調製方法を記載し、また米国特許第5,059,355号明細書は、ペイントシェイカー(paint shaker)及び1,2-ジクロロベンゼンを使用することによるオキシチタンフタロシアニンの調製方法を記載する。
オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料は、その優れた電子写真特性の点で有利であるが、テトラヒドロフランなどの有機溶媒中に低い結晶不安定性の不利点を有する。この欠点のため、オキシチタンフタロシアニンを用いて電荷発生層の塗布溶液(coating solution)を調製する場合、保存安定性は、極めて低下し、結局保存寿命が短くなる。さらに、オキシチタンフタロシアニンが、有機溶媒での処理に続いて、酸に溶解し又は粉砕される場合、温度に非常に敏感であり、また有機溶媒での処理温度を制御するために特に注意をすべきである。オキシチタンフタロシアニンの結晶形がγ-型に完全に変化せずまた少量のβ-又はα-型結晶が残るので、前に形成したγ-型結晶は、より安定なβ-又はα-型結晶に容易に変化することが分かる。
(発明の開示)
従って、本発明は、上記問題、例えば、低結晶安定性及び温度敏感性から生じる複雑な方法を考慮してなされ、また本発明の目的は、マイクロ波及び超音波を共に使用することにより、27.2±0.2°のブラッグ角での一つのX-線回折ピークを示す新規な結晶形オキシチタンフタロシアニン粗原料を調製すること及びオキシチタンフタロシアニン粗原料を後処理に付すことによって、高品質な電荷発生材料としてオキシチタンフタロシアニンの調製方法を提供することである。
本発明の別の目的は、電荷発生材料としてのオキシチタンフタロシアニンの調製のための装置を提供することであって、この装置は、0.1〜100GHzの周波数及び100〜3000Wの電力を発生できるマグネトロン1、マイクロ波容器2でマイクロ波の波長を均一にするモード撹拌機3、反応体の温度を正確に測定及び調節するためのPID型の温度調節器8、マイクロ波から遮蔽されたK-型熱電対4、コンデンサー5、攪拌器6、ここで上記熱電対4、上記コンデンサー5及び上記攪拌器6は、上記マイクロ波容器2の頂部に形成された3つの開口部に挿入されているもの、マイクロ波容器2の底部に形成された開口部に挿入された超音波チップ7、上記反応体が導入されるパイレックス(登録商標)容器9、及び溶媒タンク10を含む。
本発明の別の目的は、上記方法で調製された高品質のオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料を提供することである。
本発明のさらに別の目的は、オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料を使用して製造された光伝導体を提供することである。
本発明の一つの特徴に従って、電荷発生材料としてのオキシチタンフタロシアニンの調製方法が提供され、この方法は、オキシチタンフタロシアニン粗原料と有機溶媒を均一に混合し、その間0.1〜100GHzの周波数及び10〜3000Wの電力を有するマイクロ波エネルギー及び1〜1000kHzの周波数及び10〜5000Wの電力を有する超音波エネルギーが、そこに適用される工程及び上記混合物を30〜100℃で、0.5〜5時間で反応させる工程を含む。
本発明の別の特徴に従えば、電荷発生材料としてのオキシチタンフタロシアニンの調製装置を提供し、この装置は、0.1〜100GHzの周波数及び100〜3000Wの電力を発生できるマグネトロン1、マイクロ波容器2でマイクロ波の波長を均一にするモード撹拌機3、反応体の温度を正確に測定及び調節するためのPID型の温度調節器8、マイクロ波から遮蔽されたK-型熱電対4、コンデンサー5、攪拌器6であって、上記熱電対4、上記コンデンサー5及び上記攪拌器6は、上記マイクロ波容器2の頂部に形成された3つの開口部に挿入されているもの、マイクロ波容器2の底部に形成された開口部に挿入された超音波チップ7、上記反応体が導入されるパイレックス(登録商標)容器9、及び溶媒タンク10を含み、ここでオキシチタンフタロシアニン粗原料をパイレックス(登録商標)容器9中で、有機溶媒と均一に混合し、その間0.1〜100GHzの周波数及び10〜3000Wの電力を有するマイクロ波エネルギー及び1〜1000kHzの周波数及び10〜5000Wの電力を有する超音波エネルギーが、そこに適用され、またこの反応体を互いに30〜100℃で、0.5〜5時間で反応させ、この間、この反応体の温度は、K-型熱電対4及びPID型の温度調節器8によって正確に調節される。
本発明の別の特徴に従えば、この方法によって調製されるオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料を提供する。
本発明のさらに別の特徴に従えば、上記オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料を使用して製造された光伝導体を提供する。
本発明の上記及び他の目的、特徴及び他の有利点は、付随の図と併せて以下の詳細な説明より明らかに理解されるだろう。
(発明を実施するための最良の形態)
以降、本発明をより詳細に説明する。
本発明は、マイクロ波及び超音波を共に使用することにより、電荷発生材料としてのオキシチタンフタロシアニンの調製方法を提供する。
具体的には、オキシチタンフタロシアニン粗原料を有機溶媒と均一に混合し、その間マイクロ波をそこに適用し、次いで上記混合物を加熱によって反応させる。
ここで使用されるオキシチタンフタロシアニン粗原料は、当業界で一般的に既知の種々の方法によって得られ得る。米国特許第4,971,877号明細書は、1,3-ジイミノイソインドリンとテトラアルコキシチタンを使用することによるオキシチタンフタロシアニン粗原料を調製する方法を記載し、Bull. Chem. Soc. Jpn., 68, 1001-1005, 1995は、1,2-ジシアノベンゼン及びテトラブトキシチタンを使用することによるオキシチタンフタロシアニン粗原料の調製方法を報告する。前者の方法は、一般的な合成装置を使用するが、後者の方法は、マイクロ波と超音波の両方を使用する合成装置を使用する(韓国特許出願番号10-2003-0030726を参照されたい)。具体的には、オキシチタンチタン粗原料は、主材料としての1,2-ジシアノベンゼン又は1,3-ジイミノイソインドリンとチタン源としてのチタンテトラクロリド又はテトラアルコキシチタンとを、溶媒としてのN-メチルピロリドン、1-クロロナフタレン又はキノリン中、160〜200℃で0.1〜12時間で反応させ、及び得られた反応生成物を精製することによって合成され得る。このとき、この反応は、従来の合成装置又はマイクロ波合成装置を使用してなされ得る。
オキシチタンフタロシアニン粗原料を、好ましくは酸に、室温以上で溶解して、かつ再結晶して、又は使用前に乾式又は湿式粉砕する。このとき、酸は、好ましくは、硫酸、リン酸又はハロゲン化カルボン酸である。再結晶に使用される好ましい溶媒の例としては、水、脂肪族アルコール及び芳香族アルコール、ケトン、エーテル、エステル及びその混合溶媒が挙げられる。好ましい脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、及びイソブタノールが挙げられ得る。好ましい芳香族アルコールの例としては、ベンジルアルコール等が挙げられる。好ましいケトンの例としては、アセトン、メチルエチルケトン、N-メチルピロリドン、及びテトラヒドロフランが挙げられる。好ましいエーテルの例としては、エチルエーテル、及びn-ブチルエーテルが挙げられる。好ましいエステルの例としては、メチルアセテート及びエチルアセテートが挙げられる。
好ましい有機溶媒としては、ハロゲン化ベンゼン、ハロゲン化ナフタレン、及びそれらの水溶液が使用され得る。ハロゲン化ベンゼン及びハロゲン化ナフタレンの水溶液が、より好ましい。このとき、水対ハロゲン化ベンゼン又はナフタレンの混合比は、1:1〜10:1の範囲である。「ハロゲン化ベンゼン又はナフタレン」の語は、少なくとも1個のハロゲン原子、例えば塩素、フッ素、臭素、又はヨウ素で置換されたベンゼン又はナフタレンをいう。この置換基の数は、好ましくは1〜4個である。
有機溶媒とオキシチタンフタロシアニン粗原料の混合比は、特に限定的でないが、好ましくは、1:1〜10:1の範囲である。
マイクロ波は、好ましくは、0.1〜100GHzの周波数及び10〜3000Wの電力で適用される。上記マイクロ波が、これらの範囲外である場合、正確な温度調節が困難であり、マイクロ波の特徴である均一な加熱及び容積加熱(volume heating)が適切に使用され得ない。反応温度は、30〜100℃の範囲内である。反応温度が、この範囲外の場合、オキシチタンフタロシアニンの結晶形は、完全にはγ-型に変化せず、また特定量のβ-又はα-型結晶が残り、これによって高温で有機溶媒で前に形成したγ-型結晶が、より安定なβ-又はα-型結晶に容易に変化するという問題が生じる。従って、この反応は、好ましくは、50〜70℃の温度で0.5〜5時間でなされる。反応時間が、0.5時間未満の場合、γ-型への結晶の変化が不十分である。一方で、反応時間が、5時間を超える場合、前に形成したγ-型結晶は、再びより安定なβ-又はα-型結晶に変化し得る。好ましくは、反応時間は、10分〜5時間の範囲である。
本発明の方法に従い、オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料は、以下の手順によって調製される。
先ず、オキシチタンフタロシアニン粗原料を濃硫酸に溶解して2時間攪拌する。その後、この硫酸溶液を氷水から再結晶する。この再結晶したオキシチタンフタロシアニン粗原料を濾過によって分離し、濾液が中和されるまで水で洗浄する。得られたオキシチタンフタロシアニンケークを水及びクロロベンゼンの混合溶液中で分散させ、次いでマイクロ波発生装置内で60℃で1時間処理する。
本発明で使用されるマイクロ波発生装置は、図3に示される。このマイクロは発生装置は、2.45GHzの周波数及び3000Wの電力を発生できるマグネトロン1、マイクロ波容器2でマイクロ波の波長を均一にするモード撹拌機3、マイクロ波から遮蔽されたK-型熱電対4及び反応体の温度を正確に測定及び調節するためのステンレス製のPID型の温度調節器8、マイクロ波容器2の中央に配置され及び上記反応体のより良い熱効率のためにガラス繊維で断熱した分離型三口パイレックス(登録商標)容器9、コンデンサー5、攪拌器6であって、上記熱電対4、上記コンデンサー5及び上記攪拌器6は、上記マイクロ波容器2の頂部に形成された3つの開口部(直径:約1cm)に挿入されているもの、マイクロ波容器2の底部に形成された開口部(直径:約1cm)に挿入された超音波チップ7、及び超音波エネルギーをいかなるマイクロ波による反応を生じさせずに上記反応体に移すことができるデカヒドロナフタレン(デカリン)で充填された溶媒タンク10を含む。
本発明の合成装置を使用して、オキシチタンフタロシアニン粗原料をパイレックス(登録商標)容器9内で有機溶媒と均一に混合し、その間、0.1〜100GHzの周波数及び10〜3000Wの電力を有するマイクロ波及び1〜1000kHzの周波数及び10〜5000Wの電力を有する超音波を、そこに適用し、次いで得られた混合物を30〜100℃で、0.5〜5時間で反応させ、その間温度を、マイクロ波から遮蔽されたK-型熱電対4及びPID型温度調節器8を使用して正確に調節してオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料を調製する。マイクロ波での処理の後、この混合物を濾過し、メタノールで洗浄し、ドライヤーで乾燥する。
マイクロ波及び超音波を共に使用して調製されたオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料のX-線回折パターンから分かるように、非回折ピークが、26.1±0.2°のブラッグ角で観察される(図4〜6及び12を参照されたい)。この観察は、この結晶が完全にγ-型に変化されることを示す。走査型電子顕微鏡写真は、マイクロ波と超音波を共に使用する場合、粒径が、かなり小さくまた均一であることを示す。従って、オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料が、電荷発生層に対する塗布溶液を調製するために使用される場合、分散時間が短縮され得、またオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料の生産性が高まる(図14及び15を参照されたい)。
本発明の方法で調製されるオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料は、7.2±0.2°、9.6±0.2°、11.7±0.2°、12.7±0.2°、13.4±0.2°、14.1±0.2°、14.8±0.2°、18.0±0.2°、18.4±0.2°、22.3±0.2°、23.4±0.2°、24.1±0.2°、24.5±0.2°、及び27.2±0.2°のブラッグ角でX-線回折特性ピークを有する。
オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料が、光伝導体、特に有機光伝導体の製造に有効に使用され得る。
本発明は、以下の実施例及び比較例に関連してより詳細に記載されるだろう。しかし、これらの実施例は、本発明の限定としては解釈されない。
(実施例1(オキシチタンフタロシアニン粗原料の合成))
(合成1)
51.26gの1,2-ジシアノベンゼン、12.14gの尿素、34.38gのテトラブトキシベンゼン、及び100gのノナノールを図3で示される本発明の合成装置のパイレックス(登録商標)容器9に装入した。次いで、上記反応体を160〜170℃で0.1〜6時間均一に攪拌し、その間28kHz及び250Wでのマイクロ波及び超音波をそこに適用して、オキシチタンフタロシアニン粗原料を調製した。この反応の間、反応体の温度を±1℃の誤差範囲内のPID型温度調節器8を使用して正確に調節した。このとき、マイクロ波電力は、10〜3000Wの範囲で調節した。マイクロ波エネルギー及び超音波エネルギーは、この反応の初期段階から同時に使用された。オキシチタンフタロシアニン粗原料のX-線回折パターンを図1に示す。
(合成2)
12.5gの1,3-ジイミノイソインドリン、29.31gのテトラブトキシベンゼン、及び100gのキノリンを従来の合成装置のパイレックス(登録商標)容器に装入し、次いでこの反応体を170〜180℃で0.1〜6時間で均一に攪拌してオキシチタンフタロシアニン粗原料を調製した。このオキシチタンフタロシアニン粗原料のX-線回折パターンを図1に示す。
(実施例2)
300gの97%硫酸をビーカーに入れて攪拌した。この硫酸の温度を10℃以下に維持しながら、実施例1の合成2で調製したオキシチタンフタロシアニン粗原料の10gをゆっくりと溶解させて2時間攪拌した。この硫酸溶液をゆっくりと氷水に注ぎ、このオキシチタンフタロシアニン粗原料を再結晶した後、このオキシチタンフタロシアニン粗原料を濾過して分離し、濾液のpHが7.0になるまで、水で洗浄した。得られたオキシチタンフタロシアニンケークをクロロベンゼン(100ml)と水(100ml、ケーク中の水を含む)の混合溶液に添加し、マイクロ波発生装置に入れた。この反応体をPID型温度調節器で30分間50℃まで加熱し、1時間50℃で攪拌し、室温まで冷却した。この冷却した反応体を濾過してオキシチタンフタロシアニンを分離し、メタノールで洗浄した。このオキシチタンフタロシアニンを乾燥器で乾燥し、9.8gのオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料を得た。オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料のX-線回折パターンを以下の条件、
X-線バルブ:Cu
Cu K-α波長(Å):1.54056
電圧(kV):40.0
電流(mA):100.0
初期角度(°2θ):5.00
停止角度(°2θ):45.00
ステップ角度(°2θ):0.020
で得た。
オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料は、図4に示す。
オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料の走査型電子顕微鏡写真(30,000倍)を図14に示す。
(実施例3)
オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料9.8gを、マイクロ波処理を60℃で行うことを除いて実施例2と同一の手順で調製した。オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料のX-線回折パターンを図5に示す。
(実施例4)
オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料9.8gを、マイクロ波処理を70℃で行うことを除いて実施例2と同一の手順で調製した。オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料のX-線回折パターンを図6に示す。
(比較例1)
オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料9.8gを、マイクロ波処理の代わりに磁気加熱攪拌機を従来の熱源として使用したことを除いて実施例2と同一の手順で調製した。オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料のX-線回折パターンを図7に示す。オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料の走査型電子顕微鏡写真(30,000倍)を図15に示す。
(比較例2)
オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料9.8gを、マイクロ波処理の代わりに磁気加熱攪拌機を従来の熱源として使用したことを除いて実施例3と同一の手順で調製した。オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料のX-線回折パターンを図8に示す。
(比較例3)
オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料9.8gを、マイクロ波処理の代わりに磁気加熱攪拌機を従来の熱源として使用したことを除いて実施例4と同一の手順で調製した。オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料のX-線回折パターンを図9に示す。
(実施例5)
実施例3で調製したオキシチタンフタロシアニン5gを20gのテトラヒドロフランに分散し、5日間かけて放置し、濾過し、乾燥した。乾燥したオキシチタンフタロシアニンのX-線回折パターンを図10に示した。このパターンは、オキシチタンフタロシアニンのγ-型結晶が維持されたことを示す。
(比較例4)
比較例2で調製したオキシチタンフタロシアニン5gをテトラフドロフラン20gに分散させ、5日間かけて放置し、濾過し、乾燥した。乾燥したオキシチタンフタロシアニンのX-線回折パターンを図11に示した。このパターンは、γ-型結晶が、完全にβ-型に変化したことを示す。
(実施例6)
オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料9.8gを、実施例1の合成2で調製する代わりに、実施例1の合成1で調製したオキシチタンフタロシアニン粗原料を使用したことを除いて実施例2と同一の手順で調製した。オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料のX-線回折パターンを図12に示す。
(実施例7)
実施例6で調製したオキシチタンフタロシアニン5gをテトラフドロフラン20gに分散させ、5日間かけて放置し、濾過し、乾燥した。乾燥したオキシチタンフタロシアニンのX-線回折パターンを図13に示す。このパターンは、γ-型結晶が、維持されていたことを示す。
(X-線回折パターンの分析結果)
本発明の装置を使用して、実施例1の合成1で調製されるオキシチタンフタロシアニン粗原料のX-線回折パターンから明白なように、一つのX-線パターンピークを27.2±0.2°のブラッグ角(2θ)で観測した(図1を参照のこと)。この観察は、この粗原料が、新規な結晶形を有することを示す。対照的に、従来の合成装置を使用した実施例1の合成2で調製されるオキシチタンフタロシアニン粗原料のX-線回折パターンから明らかなように、β-型の典型的なピークを観測した(図2を参照のこと)。これらの結果は、本発明の装置を使用して調製されたオキシチタンフタロシアニン粗原料が、従来の合成装置を使用して調製したものと異なる結晶形を有する。本発明の装置を使用して調製されたオキシチタンフタロシアニン粗原料が、γ-型結晶の特性ピークである27.2±0.2°のブラッグ角(2θ)での1本のX-線回折パターンピークを示し、また処理後のβ型結晶に固有の回折ピークを示さないので、これは、優れた結晶安定性を有する。本発明の装置を使用して調製したオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料のX-線回折パターンから分かるように、回折ピークを26.1±0.2°のブラッグ角で観察した(図4〜6及び12)。X-線回折パターンの観察は、すべての結晶をγ-型結晶に完全に変化させたことを示す。対照的に、従来の装置を使用したオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料のX-線回折から明らかなように、独特な回折ピークを26.1±0.2°のブラッグ角で観測した(図7〜9、この円は、β型の固有な特性ピークを示す)。この結果は、結晶が、γ-及びβ-型の両方を有することを示す。温度が高いほど、β-型ピーク強度が強くなる。従って、従来の熱源を使用して調製されたオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料が、温度に非常に敏感であることが明らかである。さらに、β型の特性ピークが、50℃以下の温度で観測された。対照的に、マイクロ波を使用して調製されたオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料は、β-型特性ピークを示さないγ-型であり、温度に敏感でない。さらに、マイクロ波を使用して調製されたオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料は、従来の熱源を使用して調製されるオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料より大きいピーク強度を有した。さらに、マイクロ波を使用して調製されたオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料が、β-型の特性ピークを示さないγ-型であるので、有機溶媒に対して、優れた結晶安定性を示す。しかし、従来の熱源を使用して調製されたオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料は、β型結晶を有するので、有機溶媒や温度に対して低い結晶安定性を有し、それらのγ-型結晶は、より安定なβ-型結晶に容易に変化する。
(光伝導体ドラムの電子写真特性の測定)
(試験例1)
実施例2で調製されたオキシチタンフタロシアニン2.0g、ポリビニルブチラール1.0g、テトラヒドロフラン40g、及びガラスビーズ(直径:1mm)をペイントシャーカー(paint shaker)中で5時間分散させ、その後150gのテトラヒドロフランをそこに加えた。さらにこの混合物を10分間分散させて、電荷発生層用の塗布溶液を調製した。この塗布溶液を酸化物フィルムコートしたアルミニウムドラムの表面に0.2μmの厚さで塗布し、また120℃で5分間ドライヤーで乾燥した。
別々に、25gのN,N'-ビス(3-メチルフェニル)-N,N'-ジフェニルベンジジン(式2)及び25gのポリ(4,4-シクロヘキシリジンジフェニレンカーボネート)(式3)を200gのモノクロロベンゼンに溶解して、電荷移動層用の塗布溶液を調製した。
Figure 2007508409
電荷移動層用の塗布溶液を電荷発生層被覆されたアルミニウムドラム上に塗布し、また120℃で30分間ドライヤーで乾燥して、20μmの厚さの電荷移動層を形成し、それによって、光伝導体ドラムを製造する。
光伝導体ドラムの電子写真特性を検光子PDP-2000(Quality Engineering Associates Inc., USA)を使用して以下の手順に従って、決定した。
(1)初期表面ポテンシャル(VDDP)
光伝導体ドラムが、-60kVでのコロナ放電によって充電される場合、光伝導体ドラムの表面上に発生したポテンシャルを測定した。
(2)暗失活(DD5)
この光伝導体ドラムの表面が、-700Vの電圧で充電された3秒後、ドラムの表面ポテンシャル上の電荷を測定した。暗失活(DD5)を初期表面ポテンシャルに対する百分率で示した。
DD5(%)=(充電後3秒間の表面ポテンシャル/初期表面ポテンシャル)×100
(3)感度(E50%)
光伝導体ドラムの表面を-700Vの電圧で充電し、その後750nmの波長の単色光に曝した後、ドラムの初期表面ポテンシャルの半分に対するドラムの表面ポテンシャルを減少させるのに必要な単色光の強度を測定した。
(4)最終ポテンシャル(VF)
ドラムの表面を、-700Vの電圧で充電し、780nmの波長かつ13J/cm2の強度の単色光に曝した後、表面ポテンシャルを測定した。
得られた結果を表1にまとめた。
(試験例2及び6)
実施例3〜7で調製されるオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料が使用されたことを除いて試験例1の手順を繰り返した。結果を表1にまとめた。
(実施例7〜10)
比較例1〜4で調製されたオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料が使用されたことを除いて試験例1の手順を繰り返した。結果を表1にまとめた。
(表1)
電子写真特性の測定結果
Figure 2007508409
(工業的適用)
先述から明らかなように、本発明は、新規な結晶形を有するオキシチタンフタロシアニン粗原料を合成して、かつマイクロ波及び超音波の両方を上記オキシチタンフタロシアニン粗原料に適用することによる電荷発生材料としてのオキシチタンフタロシアニンの調製方法を提供する。本発明の方法は、オキシチタンフタロシアニン粗原料が27.2±0.2°のブラッグ角での一つのX-線回折ピークを示し、上記オキシチタンフタロシアニンは、完全にγ-型である。さらに、オキシチタンフタロシアニン電荷発生材料が、有機溶媒及び温度に対する結晶安定性を改良するので、本発明の方法は、電荷発生層用の塗布溶液の調製の後、生じる縮まった保存寿命のための従来の欠点を解決し得る。さらに、本発明の方法に従い、小さくかつ均一の粒子が、得られ得るので、電荷発生層用の塗布溶液の調製に必要とされる時間が、減少し得、その生産性を大いに改良した。
本発明の好ましい態様が、説明の目的で開示されているが、当業者であれば、添付の特許請求の範囲に開示されるように本発明の範囲及び意図から離れずに、種々の変更、追加及び置換が可能であることを理解するだろう。
本発明の実施例1(合成1)で調製されるオキシチタンフタロシアニン粗原料のX線回折パターンを示すグラフである。 本発明の実施例1(合成2)で調製されるオキシチタンフタロシアニン粗原料のX線回折パターンを示すグラフである。 本発明で使用されるマイクロ波発生装置の構造を図解的に示す図である。 本発明の実施例2で調製されるオキシチタンフタロシアニンのX線回折パターンを示すグラフである。 本発明の実施例3で調製されるオキシチタンフタロシアニンのX線回折パターンを示すグラフである。 本発明の実施例4で調製されるオキシチタンフタロシアニンのX線回折パターンを示すグラフである。 本発明の比較例1で調製されるオキシチタンフタロシアニンのX線回折パターンを示すグラフである(円は、β型オキシチタンフタロシアニンの特性ピークを示す)。 本発明の比較例2で調製されるオキシチタンフタロシアニンのX線回折パターンを示すグラフである(円は、β型オキシチタンフタロシアニンの特性ピークを示す)。 本発明の比較例3で調製されるオキシチタンフタロシアニンのX線回折パターンを示すグラフである(円は、β型オキシチタンフタロシアニンの特性ピークを示す)。 本発明の実施例5で調製されるオキシチタンフタロシアニンのX線回折パターンを示すグラフである。 本発明の比較例4で調製されるオキシチタンフタロシアニンのX線回折パターンを示すグラフである。 本発明の実施例6で調製されるオキシチタンフタロシアニンのX線回折パターンを示すグラフである。 本発明の実施例7で調製されるオキシチタンフタロシアニンのX線回折パターンを示すグラフである。 本発明の実施例2で調製されるオキシチタンフタロシアニンの走査型電子顕微鏡写真(SEM、30,000倍)である。 本発明の比較例2で調製されるオキシチタンフタロシアニンの走査型電子顕微鏡写真(SEM、30,000倍)である。 本発明のオキシチタンフタロシアニンの電子特性の測定に使用される光伝導体ドラムの断面図である。

Claims (20)

  1. 電荷発生材料としてのオキシチタンフタロシアニンの調製方法であって、以下の工程、
    (1)オキシチタンフタロシアニン粗原料を有機溶媒と均一に混合し、その間0.1〜100GHzの周波数及び10〜3000Wの電力を有するマイクロ波エネルギー及び1〜1000kHzの周波数及び10〜5000Wの電力を有する超音波エネルギーが、そこに適用される工程、及び
    (2)前記混合物を30〜100℃で、0.5〜5時間で反応させる工程、
    を含むことを特徴とする方法。
  2. 前記オキシチタンフタロシアニン粗原料を、室温以上で酸に溶解しかつ再結晶し、又は使用前に乾式又は湿式粉砕する請求項1に記載の方法。
  3. 前記酸が、硫酸、リン酸、又はハロゲン化カルボン酸である請求項2に記載の方法。
  4. 前記再結晶に使用される溶媒が、水、脂肪族アルコール又は芳香族アルコール、ケトン、エーテル、エステル、又はその混合溶液である請求項2に記載の方法。
  5. 前記有機溶媒が、ハロゲン化ベンゼン、ハロゲン化ナフタレン、又はその水溶液である請求項1に記載の方法。
  6. 前記ハロゲン化ベンゼン又はハロゲン化ナフタレンが、塩素、フッ素、臭素及びヨウ素から選択される1〜4個のハロゲン原子で置換されたベンゼン又はナフタレンである請求項5に記載の方法。
  7. 前記反応が、50〜70℃の温度でなされる請求項1に記載の方法。
  8. 前記反応時間が、10分〜5時間の範囲である請求項1に記載の方法。
  9. 前記オキシチタンフタロシアニン粗原料が、27.2±0.2°のブラッグ角において、1つのX線回折ピークを示す請求項1に記載の方法。
  10. 電荷発生材料としてのオキシチタンフタロシアニンの調製装置であって、
    (1)0.1〜100GHzの周波数及び100〜3000Wの電力を発生できるマグネトロン、
    (2)マイクロ波容器内でマイクロ波の波長を均一にするためのモード撹拌機、
    (3)反応体の温度を正確に測定及び調節するためのPID型の温度調節器、
    (4)マイクロ波から遮蔽されたK-型熱電対、コンデンサー及び攪拌器であって、前記熱電対、前記コンデンサー及び前記攪拌器は、前記マイクロ波容器の頂部に形成された3つの開口部に挿入されているもの、
    (5)マイクロ波容器の底部に形成された開口部に挿入された超音波チップ、
    (6)前記反応体が導入されるパイレックス(登録商標)容器、及び
    (7)溶媒タンク、
    を含み、オキシチタンフタロシアニン粗原料を、前記パイレックス(登録商標)容器内で有機溶媒と混合し、その間0.1〜100GHzの周波数及び10〜3000Wの電力を有するマイクロ波エネルギー及び1〜1000kHzの周波数及び10〜5000Wの電力を有する超音波エネルギーが、そこに適用され、また前記反応体が、30〜100℃で、0.5〜5時間でそれぞれ反応する間、前記反応体の温度が、K-型熱電対及びPID型温度調節器によって正確に調節されることを特徴とする装置。
  11. 前記オキシチタンフタロシアニン粗原料を、室温以上で酸に溶解しかつ再結晶し、又は使用前に乾式又は湿式粉砕する請求項10に記載の装置。
  12. 前記酸が、硫酸、リン酸、又はハロゲン化カルボン酸である請求項11に記載の装置。
  13. 前記再結晶に使用される溶媒が、水、脂肪族アルコール又は芳香族アルコール、ケトン、エーテル、エステル、又はその混合溶媒である請求項11に記載の装置。
  14. 前記有機溶媒が、ハロゲン化ベンゼン、ハロゲン化ナフタレン、又はその水溶液である請求項10に記載の装置。
  15. 前記ハロゲン化ベンゼン又はハロゲン化ナフタレンが、塩素、フッ素、臭素、及びヨウ素から選択される1〜4個のハロゲン原子で置換されたベンゼン又はナフタレンである請求項14に記載の装置。
  16. 前記反応が、50〜70℃の温度でなされる請求項10に記載の装置。
  17. 前記反応時間が、10分〜5時間の範囲である請求項10に記載の装置。
  18. 前記オキシチタンフタロシアニン粗原料が、27.2±0.2°のブラッグ角において、1つのX線回折ピークを示す請求項10に記載の装置。
  19. 7.2°±0.2°、9.6°±0.2°、11.7°±0.2°、12.7°±0.2°、13.4°±0.2°、14.1°±0.2°、14.8°±0.2°、18.0°±0.2°、18.4°±0.2°、22.3°±0.2°、23.4°±0.2°、24.1°±0.2°、24.5°±0.2°、及び27.2°±0.2°のブラッグ角においてX線回折ピークを示す、請求項1に記載の方法によって調製されたオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料。
  20. 請求項19に記載のオキシチタンフタロシアニン電荷発生材料を使用して製造される光伝導体。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016193962A (ja) * 2015-03-31 2016-11-17 Dic株式会社 所望の結晶型を有する有機顔料の製造方法
JP7430112B2 (ja) 2020-05-22 2024-02-09 シャープ株式会社 電子写真感光体およびそれを備えた画像形成装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100528734B1 (ko) 2003-10-08 2006-01-10 (주)프탈로스 옥시티타늄 프탈로시아닌 전하발생물질의 제조방법 및이로부터 제조된 새로운 결정형의 옥시티타늄프탈로시아닌 전하발생물질
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EP2285909A4 (en) * 2008-04-01 2012-01-04 New Jersey Tech Inst PERFLUOROPHTALOCYANINE MOLECULES AND METHODS OF SYNTHESIS
WO2011028994A1 (en) 2009-09-03 2011-03-10 Duncan Linden L Enhanced flash chamber
KR101005183B1 (ko) * 2010-06-15 2011-01-04 김삼중 고무 정량 절단 제어장치 및 이를 포함하는 고무 정량 절단기
JP5047343B2 (ja) * 2010-08-30 2012-10-10 シャープ株式会社 電子写真感光体及びそれを用いた画像形成装置、並びに電子写真感光体下引き層用塗布液
US20140001176A1 (en) * 2012-06-29 2014-01-02 Nissan North America, Inc. Apparatus for rapid synthesis of fuel cell catalyst using controlled microwave heating
CN112213340B (zh) * 2020-10-16 2023-07-21 郑州大学 在线测定晶体结构的样品台及其测定方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01299874A (ja) * 1988-05-26 1989-12-04 Toyo Ink Mfg Co Ltd r型チタニウムフタロシアニン化合物,その製造方法およびそれを用いた電子写真感光体
JPH02289658A (ja) * 1989-02-23 1990-11-29 Mitsubishi Kasei Corp オキシチタニウムフタロシアニン結晶を製造する方法
JPH04189873A (ja) * 1990-11-22 1992-07-08 Fuji Xerox Co Ltd オキシチタニウムフタロシアニン水和物結晶及びそれを用いた電子写真感光体
JPH08209023A (ja) * 1994-11-24 1996-08-13 Fuji Electric Co Ltd チタニルオキシフタロシアニン結晶とその製法及び電子写真感光体
JP2001019871A (ja) * 1999-05-06 2001-01-23 Ricoh Co Ltd 電子写真感光体及び電子写真方法、電子写真装置ならびに電子写真装置用プロセスカートリッジ
JP2003048892A (ja) * 2001-07-13 2003-02-21 Shinrikibi Kagi Kofun Yugenkoshi マイクロウエーブ利用のフタロシアニン合成方法

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61171771A (ja) 1985-01-25 1986-08-02 Mitsubishi Chem Ind Ltd 電子写真用感光体の製造方法
JPH075846B2 (ja) 1986-04-30 1995-01-25 三菱化学株式会社 A型オキシチタニウムフタロシアニンの製造方法
US4728592A (en) 1986-07-17 1988-03-01 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Electrophotoconductor with light-sensitive layer containing alpha-type titanyl phthalocyanine
US4898799A (en) * 1987-07-10 1990-02-06 Konica Corporation Photoreceptor
US4971877A (en) 1987-10-26 1990-11-20 Mita Industrial Co., Ltd. α-type titanyl phthalocyanine composition, method for production thereof, and electrophotographic sensitive material using same
GB8802484D0 (en) 1988-02-04 1988-03-02 Ici Plc Process
JP2657836B2 (ja) 1988-11-11 1997-09-30 コニカ株式会社 電子写真感光体
JP2714838B2 (ja) 1989-01-09 1998-02-16 コニカ株式会社 電子写真感光体
US5059355A (en) * 1989-02-23 1991-10-22 Mitsubishi Kasei Corporation Process for preparation of crystalline oxytitanium phthalocyanine
JP2754739B2 (ja) 1989-06-06 1998-05-20 日本電気株式会社 フタロシアニン結晶とその製造方法及びこれを用いた電子写真感光体
JPH0715067B2 (ja) 1989-07-21 1995-02-22 キヤノン株式会社 オキシチタニウムフタロシアニン、その製造方法およびそれを用いた電子写真感光体
JP2502404B2 (ja) 1989-07-21 1996-05-29 キヤノン株式会社 オキシチタニウムフタロシアニン,その製造方法,それを用いた電子写真感光体,該電子写真感光体を有する装置ユニットおよび電子写真装置
EP0433172B1 (en) 1989-12-13 1996-03-06 Canon Kabushiki Kaisha Electrophotographic photosensitive member
JP2584682B2 (ja) 1990-03-20 1997-02-26 富士ゼロックス株式会社 チタニルフタロシアニン結晶を用いた電子写真感光体
US5164493A (en) 1991-02-28 1992-11-17 Xerox Corporation Processes for the preparation of titanyl phthalocyanines type I with phthalonitrile
JP2801426B2 (ja) 1991-04-24 1998-09-21 キヤノン株式会社 オキシチタニウムフタロシアニン、その製造方法およびそれを用いた電子写真感光体
US5350844A (en) 1993-03-01 1994-09-27 Xerox Corporation Processes for the preparation of titanyl phthalocyanines
DE19505784A1 (de) 1995-02-08 1996-08-14 Syntec Ges Fuer Chemie Und Tec Verfahren zur Herstellung von elektrofotografisch aktivem Titanylphthalocyanin
US5567559A (en) 1995-04-11 1996-10-22 Sinonar Corp. Electrophotographic photoreceptors containing titanyl phthalocyanine processed through ammoniated complex, and method for production thereof
AU717269B2 (en) 1996-09-25 2000-03-23 Lexmark International Inc. Processing which enhances photoconductivity to type I titanyl phthalocyanine
JP3569422B2 (ja) 1996-12-26 2004-09-22 シャープ株式会社 結晶型オキソチタニルフタロシアニン及びそれを用いた電子写真感光体並びに画像形成方法
US6225015B1 (en) * 1998-06-04 2001-05-01 Mitsubishi Paper Mills Ltd. Oxytitanium phthalocyanine process for the production thereof and electrophotographic photoreceptor to which the oxytitanium phthalocyanine is applied
US6485658B1 (en) * 1999-04-28 2002-11-26 Mitsubishi Paper Mills, Limited Phthalocyanine, process for producing the same and electrophotographic photoreceptor using the same
JP3453330B2 (ja) 1999-09-01 2003-10-06 シャープ株式会社 電子写真感光体
US6284420B1 (en) 2000-01-26 2001-09-04 Industrial Technology Research Institute Titanyl phthalocyanine, method for production thereof and electrophotographic photoreceptor containing the same
JP4212784B2 (ja) 2000-05-09 2009-01-21 株式会社リコー 電子写真感光体とその製造方法および電子写真方法、電子写真装置ならびに電子写真装置用プロセスカートリッジ
KR20030022179A (ko) 2003-01-27 2003-03-15 권종호 마이크로파 에너지를 이용한 금속 및 무금속 프탈로시아닌의 합성법
KR20030022831A (ko) 2003-02-03 2003-03-17 권종호 마이크로파 에너지를 이용한 금속 및 무금속 프탈로시아닌의 무용매 합성법
KR100544390B1 (ko) 2003-05-14 2006-01-23 (주)프탈로스 안료용 프탈로시아닌의 무용매 합성 방법 및 이를 위한 장치
EP1625131B1 (en) 2003-05-14 2009-03-18 Daehan Specialty Chemicals Co., Ltd. Process and apparatus for preparing metal or nonmetal phthalocyanine
KR100525803B1 (ko) * 2003-05-14 2005-12-27 (주)프탈로스 프탈로시아닌의 제조방법 및 이를 위한 장치
KR100528734B1 (ko) 2003-10-08 2006-01-10 (주)프탈로스 옥시티타늄 프탈로시아닌 전하발생물질의 제조방법 및이로부터 제조된 새로운 결정형의 옥시티타늄프탈로시아닌 전하발생물질
KR100528735B1 (ko) 2003-10-08 2005-12-27 (주)프탈로스 옥시티타늄 프탈로시아닌 전하발생물질의 제조 방법 및이를 위한 장치

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01299874A (ja) * 1988-05-26 1989-12-04 Toyo Ink Mfg Co Ltd r型チタニウムフタロシアニン化合物,その製造方法およびそれを用いた電子写真感光体
JPH02289658A (ja) * 1989-02-23 1990-11-29 Mitsubishi Kasei Corp オキシチタニウムフタロシアニン結晶を製造する方法
JPH04189873A (ja) * 1990-11-22 1992-07-08 Fuji Xerox Co Ltd オキシチタニウムフタロシアニン水和物結晶及びそれを用いた電子写真感光体
JPH08209023A (ja) * 1994-11-24 1996-08-13 Fuji Electric Co Ltd チタニルオキシフタロシアニン結晶とその製法及び電子写真感光体
JP2001019871A (ja) * 1999-05-06 2001-01-23 Ricoh Co Ltd 電子写真感光体及び電子写真方法、電子写真装置ならびに電子写真装置用プロセスカートリッジ
JP2003048892A (ja) * 2001-07-13 2003-02-21 Shinrikibi Kagi Kofun Yugenkoshi マイクロウエーブ利用のフタロシアニン合成方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016193962A (ja) * 2015-03-31 2016-11-17 Dic株式会社 所望の結晶型を有する有機顔料の製造方法
JP7430112B2 (ja) 2020-05-22 2024-02-09 シャープ株式会社 電子写真感光体およびそれを備えた画像形成装置

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