JP2007043095A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2007043095A5
JP2007043095A5 JP2006153922A JP2006153922A JP2007043095A5 JP 2007043095 A5 JP2007043095 A5 JP 2007043095A5 JP 2006153922 A JP2006153922 A JP 2006153922A JP 2006153922 A JP2006153922 A JP 2006153922A JP 2007043095 A5 JP2007043095 A5 JP 2007043095A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
actuator device
thin film
substrate
single crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006153922A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP4793568B2 (ja
JP2007043095A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2006153922A external-priority patent/JP4793568B2/ja
Priority to JP2006153922A priority Critical patent/JP4793568B2/ja
Priority to KR20060063880A priority patent/KR100764355B1/ko
Priority to EP20060014159 priority patent/EP1741557B1/en
Priority to DE200660003477 priority patent/DE602006003477D1/de
Priority to US11/482,689 priority patent/US7589450B2/en
Publication of JP2007043095A publication Critical patent/JP2007043095A/ja
Publication of JP2007043095A5 publication Critical patent/JP2007043095A5/ja
Publication of JP4793568B2 publication Critical patent/JP4793568B2/ja
Application granted granted Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2006153922A 2005-07-08 2006-06-01 アクチュエータ装置、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 Expired - Fee Related JP4793568B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006153922A JP4793568B2 (ja) 2005-07-08 2006-06-01 アクチュエータ装置、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
KR20060063880A KR100764355B1 (ko) 2005-07-08 2006-07-07 액추에이터 장치, 액체 분사 헤드 및 액체 분사 장치
EP20060014159 EP1741557B1 (en) 2005-07-08 2006-07-07 Actuator device, liquid-jet head and liquid-jet apparatus
DE200660003477 DE602006003477D1 (de) 2005-07-08 2006-07-07 Aktuatorvorrichtung, Flüssigkeitsstrahlkopf und -vorrichtung
US11/482,689 US7589450B2 (en) 2005-07-08 2006-07-10 Actuator device, liquid-jet head and liquid-jet apparatus

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005200923 2005-07-08
JP2005200923 2005-07-08
JP2006153922A JP4793568B2 (ja) 2005-07-08 2006-06-01 アクチュエータ装置、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2007043095A JP2007043095A (ja) 2007-02-15
JP2007043095A5 true JP2007043095A5 (enExample) 2009-06-04
JP4793568B2 JP4793568B2 (ja) 2011-10-12

Family

ID=37188952

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006153922A Expired - Fee Related JP4793568B2 (ja) 2005-07-08 2006-06-01 アクチュエータ装置、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7589450B2 (enExample)
EP (1) EP1741557B1 (enExample)
JP (1) JP4793568B2 (enExample)
KR (1) KR100764355B1 (enExample)
DE (1) DE602006003477D1 (enExample)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7235917B2 (en) * 2004-08-10 2007-06-26 Canon Kabushiki Kaisha Piezoelectric member element and liquid discharge head comprising element thereof
JP5289710B2 (ja) * 2007-01-18 2013-09-11 富士フイルム株式会社 圧電素子及びインクジェットヘッド
JP4314498B2 (ja) * 2007-02-28 2009-08-19 セイコーエプソン株式会社 圧電素子、液体噴射ヘッド、およびプリンタ
JP5228158B2 (ja) * 2007-06-08 2013-07-03 国立大学法人豊橋技術科学大学 半導体基板上の積層構造
US8183594B2 (en) 2007-03-15 2012-05-22 National University Corporation Toyohashi University Of Technology Laminar structure on a semiconductor substrate
JP2009064859A (ja) * 2007-09-05 2009-03-26 Fujifilm Corp ペロブスカイト型酸化物、強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置
JP2009255530A (ja) * 2008-03-27 2009-11-05 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びにアクチュエータ
JP5061990B2 (ja) * 2008-03-27 2012-10-31 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びにアクチュエータ
JP2009255529A (ja) * 2008-03-27 2009-11-05 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びにアクチュエータ
JP2009255532A (ja) * 2008-03-27 2009-11-05 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びにアクチュエータ
JP5329863B2 (ja) * 2008-07-31 2013-10-30 富士フイルム株式会社 圧電素子及び圧電素子の製造方法、液体吐出装置
JP4636292B2 (ja) * 2008-08-27 2011-02-23 株式会社村田製作所 電子部品及び電子部品の製造方法
JP5471612B2 (ja) * 2009-06-22 2014-04-16 日立金属株式会社 圧電性薄膜素子の製造方法及び圧電薄膜デバイスの製造方法
JP2011032111A (ja) * 2009-07-30 2011-02-17 Seiko Epson Corp セラミックス組成物およびその製造方法、圧電アクチュエーター、液体噴射ヘッドならびに液体噴射装置
JP2011088369A (ja) * 2009-10-23 2011-05-06 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子
JP5540654B2 (ja) * 2009-11-03 2014-07-02 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子
JP5641185B2 (ja) 2010-01-05 2014-12-17 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子
JP5556182B2 (ja) 2010-01-05 2014-07-23 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子
JP5660274B2 (ja) 2010-01-05 2015-01-28 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッドの製造方法、圧電素子の製造方法、液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子
JP5660288B2 (ja) * 2010-01-05 2015-01-28 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子並びに液体噴射ヘッドの製造方法
JP5854183B2 (ja) * 2010-03-02 2016-02-09 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、圧電素子、超音波センサー及び赤外センサー
JP2011211143A (ja) 2010-03-12 2011-10-20 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子
JP2011255604A (ja) * 2010-06-10 2011-12-22 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置
JP5696424B2 (ja) * 2010-10-13 2015-04-08 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子
JP2012139920A (ja) * 2010-12-28 2012-07-26 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置、並びに圧電素子
JP2012253161A (ja) * 2011-06-01 2012-12-20 Seiko Epson Corp 圧電素子及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置
US8866367B2 (en) 2011-10-17 2014-10-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Thermally oxidized seed layers for the production of {001} textured electrodes and PZT devices and method of making
US9761785B2 (en) 2011-10-17 2017-09-12 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Stylo-epitaxial piezoelectric and ferroelectric devices and method of manufacturing
JP2014005197A (ja) * 2013-08-05 2014-01-16 Seiko Epson Corp セラミックス組成物およびその製造方法、液体噴射ヘッドならびに液体噴射装置
CN104772988B (zh) * 2014-01-10 2017-04-05 珠海赛纳打印科技股份有限公司 液体喷头制造方法、液体喷头及打印设备
JP6367331B2 (ja) * 2014-06-20 2018-08-01 株式会社アルバック 多層膜及びその製造方法
JP2017092097A (ja) * 2015-11-04 2017-05-25 セイコーエプソン株式会社 圧電素子、超音波プローブ、超音波測定装置及び圧電素子の製造方法
TWI717498B (zh) * 2016-06-21 2021-02-01 日商前進材料科技股份有限公司 膜構造體及其製造方法
JP6427157B2 (ja) * 2016-11-04 2018-11-21 ローム株式会社 インクノズルおよびそれを備えたインクジェットプリンタヘッド
JP7011760B2 (ja) * 2016-11-15 2022-01-27 アドバンストマテリアルテクノロジーズ株式会社 膜構造体の製造方法
US11121139B2 (en) * 2017-11-16 2021-09-14 International Business Machines Corporation Hafnium oxide and zirconium oxide based ferroelectric devices with textured iridium bottom electrodes
WO2020027138A1 (ja) * 2018-07-30 2020-02-06 株式会社村田製作所 Ｍｅｍｓデバイス

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04259380A (ja) * 1991-02-13 1992-09-14 Mitsubishi Materials Corp Ｐｚｔ強誘電体薄膜の結晶配向性制御方法
JP3473608B2 (ja) * 1992-04-23 2003-12-08 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド
JP3890634B2 (ja) 1995-09-19 2007-03-07 セイコーエプソン株式会社 圧電体薄膜素子及びインクジェット式記録ヘッド
US5798903A (en) * 1995-12-26 1998-08-25 Bell Communications Research, Inc. Electrode structure for ferroelectric capacitor integrated on silicon
US6327120B1 (en) * 1997-04-17 2001-12-04 Fujitsu Limited Actuator using piezoelectric element and head-positioning mechanism using the actuator
US6307214B1 (en) * 1997-06-06 2001-10-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor thin film and semiconductor device
DE19857247C1 (de) * 1998-12-11 2000-01-27 Bosch Gmbh Robert Piezoelektrischer Aktor
JP3127245B1 (ja) * 1999-09-03 2001-01-22 工業技術院長 多層型電子材料、その製造方法、それを用いたセンサー及び記憶デバイス
JP4516166B2 (ja) * 1999-09-07 2010-08-04 セイコーエプソン株式会社 インクジェット式記録ヘッドの製造方法
DE19951012A1 (de) * 1999-10-22 2001-04-26 Bosch Gmbh Robert Aktor
JP3401558B2 (ja) * 1999-12-14 2003-04-28 独立行政法人産業技術総合研究所 エピタキシャル複合構造体およびこのものを利用した素子
US6494567B2 (en) * 2000-03-24 2002-12-17 Seiko Epson Corporation Piezoelectric element and manufacturing method and manufacturing device thereof
JP3567977B2 (ja) 2000-03-24 2004-09-22 セイコーエプソン株式会社 圧電体素子、インクジェット式記録ヘッド、プリンタ、及び圧電体素子の製造方法
US6717337B2 (en) * 2001-05-23 2004-04-06 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Piezoelectric acoustic actuator
US6707230B2 (en) * 2001-05-29 2004-03-16 University Of North Carolina At Charlotte Closed loop control systems employing relaxor ferroelectric actuators
US20030016895A1 (en) * 2001-07-23 2003-01-23 Motorola, Inc. Structure and method for fabricating semiconductor structures and devices utilizing photonic crystals
US20030026515A1 (en) * 2001-08-01 2003-02-06 Motorola, Inc. Monolithic tunable wavelength multiplexers and demultiplexers and methods for fabricating same
DE10156137B4 (de) * 2001-11-15 2004-08-19 Wacker-Chemie Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Kieselglastiegels mit kristallinen Bereichen aus einem porösen Kieselglasgrünkörper
JP3902023B2 (ja) * 2002-02-19 2007-04-04 セイコーエプソン株式会社 圧電アクチュエータ、液滴噴射ヘッド、およびそれを用いた液滴噴射装置
JP4432776B2 (ja) * 2002-05-15 2010-03-17 セイコーエプソン株式会社 圧電アクチュエータ及び液体噴射ヘッド
US7083270B2 (en) * 2002-06-20 2006-08-01 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Piezoelectric element, ink jet head, angular velocity sensor, method for manufacturing the same, and ink jet recording apparatus
JP2004066600A (ja) 2002-08-05 2004-03-04 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
JP2004107179A (ja) * 2002-09-20 2004-04-08 Canon Inc 圧電体前駆体ゾル、圧電体膜の製造方法、圧電体素子およびインクジェット記録ヘッド
JP4165347B2 (ja) * 2003-06-25 2008-10-15 セイコーエプソン株式会社 圧電素子の製造方法
JP3965579B2 (ja) * 2003-07-03 2007-08-29 セイコーエプソン株式会社 圧電体層の形成方法
JP4776154B2 (ja) * 2003-09-03 2011-09-21 キヤノン株式会社 圧電体素子、インクジェット記録ヘッド、圧電体素子の製造方法
JP4717344B2 (ja) * 2003-12-10 2011-07-06 キヤノン株式会社 誘電体薄膜素子、圧電アクチュエータおよび液体吐出ヘッド
JP4471668B2 (ja) 2004-01-16 2010-06-02 株式会社アルバック コンデンサ、そのコンデンサを用いた不揮発性記憶装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007043095A5 (enExample)
JP5041765B2 (ja) エピタキシャル酸化物膜、圧電膜、圧電膜素子、圧電膜素子を用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置
CN100590902C (zh) 压电元件
JP4793568B2 (ja) アクチュエータ装置、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
JP5300184B2 (ja) 圧電体、圧電体素子、圧電体素子を用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置
JP5472549B1 (ja) 圧電素子、圧電デバイス、インクジェットヘッドおよびインクジェットプリンタ
JP2005175099A5 (enExample)
JP2005175099A (ja) 誘電体薄膜素子、圧電アクチュエータおよび液体吐出ヘッドならびにその製造方法
EP1560279A3 (en) Piezoelectric element and method for manufacturing the same, and ink jet head and ink jet recording apparatus using the piezoelectric element
JP2010067756A (ja) 圧電体膜、圧電素子、及び液体吐出装置
JP6699662B2 (ja) 圧電薄膜、圧電アクチュエータ、インクジェットヘッド、インクジェットプリンタおよび圧電アクチュエータの製造方法
JP3828116B2 (ja) 圧電体素子
JP5394765B2 (ja) ペロブスカイト型酸化物膜、強誘電体、圧電素子、液体吐出装置
JP2007273976A5 (enExample)
JP2019522902A (ja) 優先電界駆動方向における圧電薄膜素子の分極
JP2016072571A (ja) 電気機械変換素子、液滴吐出ヘッドおよび画像形成装置
JP2004260994A (ja) 強誘電体薄膜素子、圧電アクチュエーター、液体吐出ヘッド
JP5194463B2 (ja) 圧電体薄膜素子の製造方法
JP6221270B2 (ja) 電気−機械変換素子の製造装置、電気−機械変換素子の製造方法
JP2011173387A (ja) 圧電素子、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
JP2009267363A (ja) ペロブスカイト型酸化物膜、強誘電体、圧電素子、液体吐出装置
JP2012169400A (ja) 強誘電体膜の製造方法とそれを用いた強誘電体素子
JP2006278562A5 (enExample)
WO2007023985A1 (ja) 圧電体素子、それを用いた液体吐出ヘッド、および液体吐出装置
JP2012243837A (ja) セラミックス膜の製造方法、圧電素子の製造方法、液体噴射ヘッドの製造方法、及び液体噴射装置の製造方法