JP2006292350A - 廃棄物処理方法及び廃棄物処理システム - Google Patents

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Abstract

【課題】ダイオキシン類等の有害物質を排出させることなく,有価金属を含む残渣物を効率的に得ることができる廃棄物処理方法及び廃棄物処理システムを提供する。
【解決手段】廃棄物から有価金属を回収する廃棄物処理方法において,廃棄物を燃焼させ,有価金属を含有した残渣物を回収し,前記燃焼によって発生したガスを完全燃焼させ,前記完全燃焼させたガスをダイオキシン類の再合成が生じない冷却速度で冷却することとした。かかる方法によれば,廃棄物を燃焼させることにより,廃棄物中の樹脂成分を効率良くガス化させることができ,有価金属を含む残渣物を短時間で得ることができる。
【選択図】図1

Description

本発明は,廃棄物から有価金属を含有した残渣物を回収する廃棄物処理方法及び廃棄物処理システムに関する。
プリント基板(プリント回路板)は,ガラス繊維を樹脂で固めた基板上に導電体からなるプリント配線を形成し,コンデンサやコネクタ等の電子部品を取り付け,電子部品間をプリント配線によって接続して電子回路を形成した構造になっている。かかるプリント配線には,金や,銅に金メッキを施したもの等の有価金属が使用されている。また,電子部品にも,金,銀,銅,プラチナ等の有価金属が使用されている。このような有価金属を廃プリント基板から回収するため,従来,廃プリント基板を焼却炉によって焼却処理し,焼却後の有価金属を含む残渣物を回収して,残渣物を鉱石等の製錬所において製錬処理し,有価金属を取り出していた。しかしながら,廃プリント基板を燃焼させると,PCDD(ポリ塩素化ジベンゾダイオキシン),PCDF(ポリ塩素化ジベンゾフラン)等のダイオキシン類が発生する問題がある。そこで,廃プリント基板を無酸素状態の水蒸気雰囲気中で加熱し,樹脂を燃焼させることなく熱分解してガス化させることにより,有価金属を含む残渣物を得る方法が提案されている(例えば,特許文献1参照)。
特開2003−290755号公報
しかしながら,従来の廃棄物処理方法にあっては,樹脂成分を熱分解するために長時間を要する問題があった。また,廃プリント基板を炉内に投入する際に炉を開放させるので,炉内温度を降温させる必要があり,炉内温度の降温,廃棄物を炉内に投入した後の炉内温度の昇温のために,長時間を要する問題があった。また,廃プリント基板はコンテナに入れて炉内に投入するようにしているが,コンテナの内部側では熱分解が進行し難く,熱分解達成度にばらつきが生じることがあった。
本発明の目的は,ダイオキシン類等の有害物質を排出させることなく,有価金属を含む残渣物を効率的に得ることができる廃棄物処理方法及び廃棄物処理システムを提供することにある。
上記課題を解決するため,本発明によれば,廃棄物から有価金属を回収する廃棄物処理方法であって,廃棄物を燃焼させ,有価金属を含有した残渣物を回収し,前記燃焼によって発生したガスを燃焼させ,前記燃焼させたガスをダイオキシン類の再合成が生じない冷却速度で冷却することを特徴とする,廃棄物処理方法が提供される。かかる方法によれば,廃棄物を燃焼させる際に発生したダイオキシン類を燃焼させることにより,ダイオキシン類を分解できる。また,燃焼させたガスを急冷させることにより,ダイオキシン類の再合成を防止できる。なお,有価金属とは,例えば金(Au),銀(Ag),銅(Cu),プラチナ(Pt)等の貴金属又は重金属等である。
この廃棄物処理方法にあっては,前記ガスの燃焼を900℃以上で行い,前記ガスを900℃以上から180℃以下まで,ダイオキシン類の再合成が生じない冷却速度で冷却することが好ましい。また,前記ガスの燃焼において,前記ガスを風速10m/s以上で供給した空気によって攪拌させるようにしても良い。前記残渣物は水洗しても良い。前記廃棄物は電子廃棄物であっても良い。
また,本発明によれば,廃棄物から有価金属を含有した残渣物を回収する廃棄物処理システムであって,廃棄物を燃焼させる一次燃焼装置と,前記一次燃焼装置において発生したガスを燃焼させる二次燃焼装置と,前記二次燃焼装置において燃焼させたガスをダイオキシン類の再合成が生じないように急冷させる急冷装置とを備えたことを特徴とする,廃棄物処理システムが提供される。
前記一次燃焼装置は,回転するキルン本体を備えたロータリーキルン装置とし,前記キルン本体内の温度分布に基づいて,キルン本体の傾斜角度を調節可能な構成としても良い。この場合,キルン本体の回転によって廃棄物を攪拌しながら燃焼させることにより,廃棄物を効率的に燃焼させることができ,また,キルン本体の傾斜角度を変えることにより,廃棄物の移動速度を調節し,廃棄物を確実に燃焼させることができる。例えば,前記キルン本体を支持する支持架台と,前記支持架台を回転可能に支持する中心軸と,前記支持架台を昇降させる昇降機構とを備え,前記支持架台が前記中心軸を中心として回転しながら,前記昇降機構によって昇降させられることにより,前記キルン本体の傾斜角度が調整される構成とし,前記キルン本体の傾斜角度の調整を停止させた状態において前記支持架台を固定させる固定用機構を備えた構成にしても良い。また,前記ロータリーキルン装置のキルン本体内の温度を測定する温度計を,前記キルン本体の長さ方向に複数並べて備えても良い。
前記二次燃焼装置の炉本体内に空気を供給する複数の空気供給口を設け,前記空気の供給流量を可変としても良い。また,前記残渣物を水中に浸漬させる水封式コンベア装置を備えても良い。
本発明によれば,一次燃焼装置によって廃棄物を燃焼させることにより,廃棄物中の樹脂等の燃焼成分を効率良くガス化させることができ,有価金属を含む残渣物を短時間で得ることができる。例えば,ロータリーキルン装置によって廃棄物を攪拌しながら燃焼させることにより,廃棄物を効率良く燃焼させることができる。さらに,一次燃焼装置において発生したガスを二次燃焼装置において燃焼させ,排ガス中のダイオキシン類を分解した後,急冷させることにより,ダイオキシン類の再合成を防止できる。従って,ダイオキシン類が大気中に排出されることを防止できる。
以下,本発明の好ましい実施の形態を,廃プリント基板を処理する廃棄物処理システムに基づいて説明する。本実施の形態において,廃棄物とは,廃プリント基板(廃棄品,ロットアウト品を含む)であり,ガラス繊維を樹脂で固めた基板上に,金,銅等の有価金属が使用されたプリント配線が施され,さらに,金,銀,銅,プラチナ等の有価金属が使用されたコンデンサやコネクタ等が取り付けられた構造になっている。
図1に示すように,廃棄物処理システム1は,廃プリント基板を破砕する破砕装置2,破砕装置2において破砕した破砕物を定量的に切り出す例えばベルトフィーダ等の定量供給装置3,破砕物を燃焼させる一次燃焼装置の一例としてのロータリーキルン装置4,ロータリーキルン装置4において発生した排ガスを燃焼させる二次燃焼装置5,二次燃焼装置5において燃焼させた排ガスを急冷する急冷装置6を備えている。さらに,冷却した排ガスから飛灰を分離するバグフィルター装置7,飛灰を除去した排ガスを大気中に排出する煙突8を備えている。二次燃焼装置5の下部には,ロータリーキルン装置4において燃焼させた後の残渣物を搬送する水封式コンベア装置10が設けられている。
図2に示すように,ロータリーキルン装置4は,略円筒状の回転可能なキルン本体20と,キルン本体20を回転させる駆動部21とを備えている。キルン本体20は,長さ方向を横方向に向けて備えられており,内部の空洞が一次燃焼室22となっている。キルン本体20の内面は,耐酸性及び耐熱性を有する材質によって覆われている。キルン本体20の一端部には,キルン本体20の端部を閉塞する壁部23が取り付けられており,キルン本体20の他端部は,後述する二次燃焼装置5の炉本体51の側面に接続され,炉本体51内において開口している。キルン本体20の端部と壁部23との間には,図示しないシール機構が備えられている。また,キルン本体20の外周面と炉本体51との間にも,シール機構24が備えられている。そして,キルン本体20の端部と壁部23との間,及び,キルン本体20の外周面と炉本体51との間を密閉した状態で,固定された壁部23及び炉本体51に対してキルン本体20を回転させることができるようになっている。なお,キルン本体21は,壁部23側から開口端側に向かうに従い下方に僅かに傾斜させるように備えることが好ましく,例えば水平方向に対して約1〜5°程度傾斜させても良い。このようにすると,後述する破砕物供給口31から燃焼室22内に供給された破砕物を,低く配置された開口端側に円滑に移動させることができる。
キルン本体20の外周面には,略円環状のガースギア25及び略円環状のタイヤローラ26,26が固定されている。キルン本体20の下方には,各タイヤローラ26に接触しながらそれぞれ回転可能な複数の支持ローラ27が備えられている。駆動部21は,ガースギア25の外周面に形成された歯車に噛み合わせられたピニオンギア28,及び,ピニオンギア28を回転させるモータ29を備えている。即ち,モータ29を駆動させると,ピニオンギア28が回転し,ピニオンギア28の回転に伴ってガースギア25が回転するようになっている。そして,ガースギア25と一体的にキルン本体20が回転するようになっている。支持ローラ27は,キルン本体20と一体的に回転するタイヤローラ26,26に回転させられながら,タイヤローラ26,26をガイドし,タイヤローラ26,26を介してキルン本体20を下方から支持する。なお,モータ28の回転数及び回転方向,即ちキルン本体20の回転数及び回転方向は可変となっており,燃焼処理中も,燃焼室22内の燃焼状態に応じて回転数及び回転方向を調節することが可能である。
壁部23には,廃プリント基板の破砕物を燃焼室22内に供給する破砕物供給口31が開口されている。破砕物供給口31には破砕物供給路32が接続されている。破砕物供給路32は,破砕物供給口31側に向かうほど下方に向かうように傾斜しており,破砕物が自重により供給路25内を滑降して破砕物供給口31に供給されるようになっている。図1に示すように,破砕物供給路32の入口には,破砕物を一時的に貯蔵するためのホッパー33が備えられている。また,ホッパー33の排出口と破砕物供給路32の入口との間を開閉するダンパ34が介設されている。なお,破砕物供給路32,ホッパー33,ダンパ34は,燃焼室22内の雰囲気に対して連続的に接続されており,燃焼室22からの伝熱により加熱されるようになっている。そのため,ホッパー33,破砕物供給路32内の破砕物は,燃焼室22に供給される前に予備加熱されるようになっている。
また,壁部23には,キルン本体20内に燃焼ガスを供給するバーナー41が設けられている。バーナー41は,キルン本体20の長さ方向に沿って略水平方向に対して傾斜した方向に燃焼ガスを噴射するように備えられている。なお,破砕物供給口31は,バーナー41より上方にあることが好ましい。このようにすると,破砕物供給口31から落下した破砕物が,燃焼室22の底部に落下する前にバーナー41から噴射された直後の燃焼ガスに接触して加熱されるので,破砕物の燃焼を促進させることができる。これにより,供給された破砕物と高温になっているキルン本体20との温度差によるキルン本体20への悪影響や,供給された破砕物と燃焼室22内に堆積している破砕物との温度差による伝熱むらが抑制される。
さらに,壁部23には,燃焼室22内に空気を供給する空気供給口42が設けられている。空気供給口42は,例えば破砕物供給口31の上方に開口されている。
上記空気供給口42から供給される空気の流量,及び,バーナー41に供給される燃料油の流量は,それぞれ可変となっている。即ち,空気の供給流量やバーナー41の出力を調節することにより,燃焼室22内の温度や空気比(破砕物中に含まれる炭素分を完全に酸化させるために必要な理論酸素量によって実際に導入する酸素量を除算した値)を調節できるようになっている。これにより,燃焼室22内を酸化雰囲気に維持することができる。
なお,破砕物を酸化雰囲気中で燃焼させると,残渣物からBr(臭素)を効率的に減少させることができる。図3は,燃焼効果について本発明者らが行った実験の結果であり,破砕物の加熱処理時間と加熱処理後の残渣物中に含まれていたBrの量(熱灼減量値)との関係を示したグラフである。図3より,破砕物を還元雰囲気中で熱分解する場合よりも酸化雰囲気中で燃焼させるほうが,また,空気比を少なくした場合(空気供給流量9L/min)よりも空気比を多くした場合(空気供給流量18L/min)のほうが,Brの揮発が速く,最終的に残渣物中に残留するBrの量も少ないことがわかる。従って,破砕物を酸化雰囲気中で空気比を高くして燃焼させることで,残渣物中のBrの低減を促進することができる。
図1に示すように,二次燃焼装置5は,例えば縦長の略直方体状に形成された炉本体51を備えている。炉本体51は,長手方向を縦に向け,また,側壁を略鉛直にした状態で備えられている。炉本体51の内壁は,例えば煉瓦等によって形成されており,炉本体51の内面が耐酸性,耐熱性を有する構造となっている。そして,この炉本体51の内側が二次燃焼室52となっている。炉本体51の一側壁51aには,前述したキルン本体20の端部を支持する略円形の開口が形成されており,この開口内にキルン本体20の開口端部が挿入されている。キルン本体20の端部は,側壁51aの内面より内側まで挿入されている。即ち,燃焼室22で破砕物を燃焼させた後に残った残渣物(燃え殻)や,燃焼室22内のガス,飛灰が,キルン本体20の開口端から燃焼室52内に確実に導入されるようになっている。また,炉本体51の下端部には,水封式コンベア装置10に接続された残渣物排出口53が設けられている。燃焼室22から燃焼室52に排出された残渣物は,残渣物排出口53から水封式コンベア装置10に排出されるようになっている。
図4に示すように,水封式コンベア装置10は,冷却水を貯留するケーシング61と,ケーシング61内に配設されたスクレーパコンベア機構62とを備えている。残渣物排出口53はケーシング61内の冷却水に浸漬されており,冷却水によって封じられ,外気の流入が遮断されている。ケーシング61には,冷却水が貯留された底部61aから上方に向かって傾斜する傾斜部61bが形成されており,傾斜部61bの上端部には,残渣物を排出する排出口63が設けられている。スクレーパコンベア機構62は,一対の無端状のチェーン65,65と,チェーン65,65の間に設けられた複数のスクレーパ66と,チェーン65,65を支持する複数のローラ67とを備えている。チェーン63,63は,互いに略平行に配設され,複数のローラ67に巻回されており,ローラ67の回転に伴い周動する。スクレーパ66は,チェーン63,63の走行方向に沿って所定間隔ごとに設けられている。そして,チェーン63,63の周動に伴い,底部61aから傾斜部61bに向かって走行し,傾斜部61bにおいて水面上に上昇して排出口63上に移動した後,再び傾斜部61bから底部61aに向かい,水中に戻るように走行する。かかる構成において,残渣物排出口53から排出された残渣物は,ケーシング61内の冷却水中に沈降し,底部61aの底部においてスクレーパ66によって掻き取られ,冷却水から引き上げられ,傾斜部61bの上端部においてスクレーパ66から排出口63に落下して,ケーシング61から排出されるようになっている。排出口63から排出された残渣物は,ヤード68に集積される。
このように残渣物を冷却水に通過させると,残渣物が冷却されると共に,残渣物中に含まれている水溶性塩類,臭素(Br),塩素(Cl),硫黄(S)分等が水に溶解して,残渣物から分離される。図5は,残渣物の水洗効果について本発明者らが行った実験の結果であり,破砕物の燃焼処理時間と燃焼処理後の残渣物に含まれているBr,Cl,Sの残留濃度との関係を示したグラフである。また,燃焼させた後に残渣物を水洗しない場合と水洗した場合における各残留濃度を比較して示している。図5より,残渣物中のBr,Cl,Sは,燃焼処理後に水洗することで低減できることがわかる。従って,残渣物を水封式コンベア装置10において水洗することで,Br,Cl,S等の有害物質を減少させた状態で回収することが可能である。
図1に示すように,炉本体51の上端部には,燃焼室52からガスを導出する導出口71が開口されている。図示の例では,導出口71は側壁51aに対向する側面51bに設けられている。導出口71には導出路72が接続されている。導出路72の出口は急冷装置6に接続されている。
さらに炉本体51には,燃焼室52に空気を供給する空気供給口81が複数個備えられている。図示の例では,空気供給口81は,炉本体51の対向する2つの側壁51a,51bにおいて,それぞれ上下に並べて設けられている。側壁51aでは,キルン本体20の端部より上方に設けられ,側壁51bでは,導出口71より下方に設けられている。また,図6に示すように,各側壁51a,51bにおいて,空気供給口81は,燃焼室52の中心側から見て左側の縁部に沿って上下に並べて設けられている。即ち,上方から見たとき燃焼室52の中心部を中心として互いに点対称になる位置に配置されている。側壁51a(51b)において上下に並んだ空気供給口81からは,互いに略平行な向きに空気が噴射される。また,燃焼室52の中心側から見たとき,燃焼室52の中心より左側に向かって空気が噴射される。かかる構成においては,各空気供給口81から燃焼室52内に空気を供給すると,供給された空気によって燃焼室52内の雰囲気が攪拌され,上方からみたときに燃焼室52の中心部を中心として反時計方向に旋回する気流が形成される。このようにすると,気流を確実に燃焼させることができ,また,燃焼室52の容積を有効に使用して燃焼させることができる。なお,空気供給口81の位置や向きはかかるものに限定されず,例えば炉本体51の内面に沿って空気が流れるように供給しても良い。そうすれば,炉本体51の内面に沿ったエアーカーテンが形成され,クリンカや残渣物等が炉本体51の内面に付着することを防止できる。また,炉本体51の内壁面同士の間に形成された角部に空気供給口81を開口させても良い。この場合も,炉本体51の角部にクリンカや残渣物等が付着することを防止できる。
また,図1に示すように,炉本体51には,燃焼室52に燃焼ガスを供給するバーナー82が設けられている。図示の例では,バーナー82は側壁51aに設けられ,キルン本体20の開口端上方において,キルン本体20の開口端の近傍で燃焼ガスを噴射するように配置されている。このようにすると,開口端から導入された直後の排ガスに燃焼ガスを混合させ,効率良く燃焼させることができる。また,図示の例では,燃焼ガスの噴射方向が,側壁51aに備えられた空気供給口81からの空気の噴射方向と略平行になるように備えられている。なお,バーナー82は,少なくとも1個の空気供給口81より上方に配置されていること,また,空気供給口81同士の間に配置されていることが好ましい。このようにすると,旋回気流の間に燃焼ガスを供給することができ,旋回気流を効率良く燃焼させることができる。
なお,空気供給口81から供給される空気の流量,及び,バーナー82に供給される酸素の流量は,それぞれ可変となっている。即ち,空気の供給流量やバーナー82の出力を調節することにより,燃焼室52内の温度や気流の速度を調節できるようになっている。また,二次燃焼装置5には,排ガスの温度をフィードバック系によって自動制御する構成を備えても良い。例えば導出口71での排ガスの温度を測定する温度計を設け,この排ガスの温度測定値に基づいて,バーナー82に供給される燃料油の流量を調節する構成とし,該温度測定値が目標値になるようにフィードバック制御すれば良い。
図1に示すように,急冷装置6は,例えば略円筒状の側壁を有する縦長の冷却塔本体91を備えており,冷却塔本体91の内部が冷却室92となっている。冷却塔本体91の天井面は,中央部から周縁部に向かうに従い下方に向かい径が大きくなる略円錐台面状に形成されている。天井面の中央部には,燃焼室52において燃焼させたガスを冷却室92に導入するガス導入口93が開口されている。ガス導入口93には,前述した導出路72の出口が接続されている。また,ガス導入口93内には,ガスを整流するための整流板95が設けられている。
図7に示すように,整流板95は,複数枚,例えば4枚備えられている。各整流板95は薄い平板状に形成されており,例えば略菱形の菱形部95aの対向する2つの角部からそれぞれ細長い長方形部95bが両側に延設された形状になっている。長方形部95bの両端部は,ガス導入口93の中央部に設けられた略円柱状の支持部96の外周面と,ガス導入口93の内周面とにそれぞれ固定されている。そして,支持部96から半径方向に放射状に延びるように備えられている。各整流板95の長方形部95b同士の間の角度は,ほぼ等角度をなしている。また,各整流板95は,鉛直方向に対して傾斜させて備えられている。各整流板95の傾斜方向は,ガス導入口93の中心からみてほぼ同じ傾斜角度になっている。図示の例では,上方から見てガス導入口93の中心を中心とした時計方向に向かうに従い下方に傾斜するように備えられている。従って,各整流板95の上方から排ガスが下方に向かって流れてくると,排ガスが整流板95の傾斜方向に沿って流れ,時計方向に沿って外周側に向かいながら下降していく。こうして,排ガスが時計方向に沿って旋回しながら冷却室92に向かうように整流させることができる。また,排ガスが整流板95から冷却塔本体91の天井面や内側面の近傍に沿って流れるようにすることができる。このようにすると,冷却塔本体91の天井面や内側面が,ガス導入口93から導入された直後の高温の排ガスによって温められる。即ち,冷却塔本体91の天井面や内側面の温度が低下しすぎることを防止でき,冷却塔本体91の天井面や内側面にクリンカが付着することを抑制できる。
また,図1に示すように,冷却室92内に冷却用の液体として例えば水を噴射する冷却水供給口100が設けられている。図示の例では,冷却水供給口100は,冷却塔本体91の天井部において,ガス導入口93の周囲を囲むように複数備えられている。冷却水は,各冷却水供給口100からミスト状に噴霧される。また,各冷却水供給口100の噴射方向は,斜め下方,かつ,例えば上方からみたときにガス導入口93を中心として互いに同じ回転方向,例えば時計方向に沿った方向に向かうようにすることが好ましい。この場合,各冷却水供給口100から冷却水を噴射させると,冷却室92内の雰囲気が攪拌され,冷却室92の中央部を中心とした螺旋状の下降気流が形成される。そうすれば,冷却室92内でのガスの流路が長くなり,ガスを長時間旋回させて十分に冷却させることができる。即ち,冷却室92の容積を有効に使用して冷却することができる。また,冷却塔本体91の内面にクリンカが付着することを抑制できる。
上記冷却水供給口100からの冷却水の噴射量は可変となっており,冷却室92内で排ガスが急冷されるように適宜調節される。排ガスを急速に冷却すると,燃焼室52における燃焼により分解された成分が再合成することを防止できる。特に,ダイオキシン類の再合成が発生しやすい温度(約300℃程度)以下に急速に冷却すると,ダイオキシン類の再合成を防止できる。なお,急冷装置6には,排ガスの温度をフィードバック系によって自動制御する構成を備えても良い。例えば後述する導出口111での排ガスの温度を測定する温度計を設け,この排ガスの温度測定値に基づいて,冷却水供給口100に供給する冷却水の供給流量を調節する構成とし,該温度測定値が目標値になるようにフィードバック制御すれば良い。
冷却室92の下部には,冷却室92内のガスを導出する導管110が設けられている。導管110は,冷却室92の下部中央部から冷却塔本体91の側壁に向かって上昇するように傾斜しており,側壁を貫通して外部に延設されている。導管110の入口は,冷却室92の下部中央部において,下方に向かって開口している。この入口が,冷却室92内のガスを導出する導出口111となっており,導管110の内部が導出路112となっている。
冷却塔本体91の底面は,周縁部から中央部に向かうに従い下方に向かい径が小さくなる略逆円錐台面状に形成されている。底面中央部には,底面に下降した飛灰等を排出する排出口115が開口されている。また,排出口115を開閉するダンパ116が設けられている。排出口115から排出された飛灰等は,前述した水封式コンベア装置10によって搬送された残渣物とともに,ヤード68に集積される。
前述した導出路112は,冷却塔本体91の外側に延出され,バグフィルター装置7に接続されている。また,導出路112の途中には,排ガスの脱臭及びダイオキシン類除去のため活性炭(C)を供給する活性炭供給路120,及び,排ガス中の臭化水素(HBr),塩化水素(HCl),硫黄酸化物(SO)等の酸性成分を中和させる消石灰(水酸化カルシウム,Ca(OH))を供給する消石灰供給路121が接続されている。活性炭供給路120は,活性炭を貯蔵する活性炭貯留槽122に接続されている。消石灰供給路121は,消石灰を貯蔵する消石灰貯留槽123に接続されている。
バグフィルター装置7は,筐体130内に濾布を備えた複数のバグフィルター131が設けられた構造となっている。導出路112の出口は,筐体130の側壁下部に設けられた導入口132に接続されている。導入口132から筐体130内に導入されたガスは,濾布を通過してバグフィルター131の外側から内側に流入し,バグフィルター131の上方に設けられた導出口133から排出される。導出口133は,排出路135を介して煙突8に接続されている。バグフィルター131の外側に捕獲された飛灰は,筐体130の下端部に設けられた排出口141から排出される。
また,排出口141から排出された飛灰を貯蔵する飛灰貯留槽150,飛灰に液体キレート剤等の重金属固定材,水等を添加して重金属固定及び調湿を行う混練装置151が備えられている。
次に,以上のように構成された廃棄物処理システム1を用いた廃棄物処理方法について説明する。先ず,廃プリント基板を破砕装置2に供給して,細粒状に破砕する。破砕は,粒径が例えば約10mm以下程度の大きさになるように行えばよい。細粒状になった破砕物は,破砕装置2から定量供給装置3に供給される。そして,定量供給装置3によって切り出し量(重量又は容積)が調節されながら切り出され,ホッパー26に貯留される。ホッパー26に所定の重量又は容積の破砕物が貯留されたら,ダンパ34を開く。破砕物は,供給路25を通過して供給口22から燃焼室22に供給される。また,破砕物は,燃焼室22からの伝熱によりホッパー33,破砕物供給路32内において予備加熱される。
ロータリーキルン装置4においては,駆動部21の駆動により,キルン本体20が例えば約0.1rpm〜1.0rpm程度の回転数で回転させられる。また,バーナー41から高温の燃焼ガスが供給され,燃焼室22内の雰囲気が例えば開口端付近で約900℃以上程度になるように加熱されている。燃焼室22内に投入される際,破砕物は,破砕物供給口31からばら撒かれるように落下し,さらに,バーナー41から噴射される燃焼ガスによって加熱される。これにより,破砕物の燃焼が促進され,破砕物のうち極めて細粒のものは,落下中に十分に酸化される。こうして,破砕物はキルン本体20の底部に落下する前に,ホッパー33,破砕物供給路32内における予備加熱,バーナー41の燃焼ガスによって十分に加熱される。このようにすると,供給される破砕物とキルン本体20との温度差が少なくなり,温度差により生じる熱応力によるキルン本体20への影響が少なくなる。さらに,供給された破砕物と,既に燃焼室22内に堆積している破砕物との温度差を少なくすることができるので,伝熱むらが抑制され,破砕物を効率的に燃焼させることができる。
燃焼室22底部に堆積した破砕物は,キルン本体20の回転に伴い揺動して攪拌され,開口端に向かって徐々に移動しながら燃焼する。燃焼により,破砕物中の樹脂類等の燃焼成分は酸化又は揮発しながらガス化して上昇する。燃焼室22底部に残留した残渣物は,ガラス繊維に有価金属等が付着した状態になる。また,破砕物の燃焼は,キルン本体20の開口端に向かうに従い促進される。
燃焼室22内の雰囲気は,燃焼室22において破砕物の燃焼が終了して残渣物中の熱灼減量の値がゼロとなるように,適宜制御される。燃焼室22内の温度分布は,破砕物の投入量,空気供給口42による空気の供給流量,バーナー41の出力,キルン本体20の回転数をそれぞれ調節することにより,最適に制御することができる。例えば,壁部23と開口端との間の所定位置において,破砕物の温度が所定の温度(例えば900℃)に達するように制御すれば良い。
また,破砕物の燃焼処理中,燃焼室22内は酸化雰囲気,即ち,空気比1.0以上に維持して,積極燃焼が行われるようにする。このように酸化雰囲気にすると,特にBrの揮発が効率的に行われ,残渣物中に残留するBrの量を効果的に減少させることができる。空気比は,燃焼室22内において一様ではなく,長さ方向及び半径方向において異なるが,破砕物の燃焼を確実に行うためには,空気比は1.0より多く,例えば約1.5程度にすることが好ましい。但し,高酸化雰囲気ではキルン本体20への悪影響が懸念されるので,空気比は例えば2.0以下程度に抑えることが好ましい。なお,燃焼室22内の雰囲気を好適に制御するためには,破砕物を燃焼室22内に定量ずつ供給すると良い。そうすれば,酸化雰囲気の維持に必要な酸素量が把握しやすく,空気供給口42の供給流量,バーナー41の出力,キルン本体20の回転数等の各制御を適切に行いやすくなる。
こうして破砕物が燃焼室22内で焼却された後に残った残渣物は,キルン本体20の開口端から二次燃焼装置5の炉本体51内に落下して,残渣物排出口53を介して水封式コンベア装置10内の冷却水中に排出される。水封式コンベア装置10では,残渣物が冷却水によって水洗されることで冷却され,また,Br,Cl,S等の有害物質が残渣物中から除去される。なお,Br,Cl,S等の有害物質が残渣物中から除去するためには,燃焼室22における燃焼を長時間行い,残渣物を徹底して酸化させる方法が考えられるが,本実施の形態では水封式コンベア装置10によってBr,Cl,S等を減少させることができるため,燃焼室22における燃焼を簡便にすることができる。従って,処理コストの低減を図ることができる。
一方,燃焼室22内のガス(排ガス)は,キルン本体20の開口端から二次燃焼装置5の炉本体51内に排出された後,燃焼室52内で燃焼させられる。即ち,二次燃焼装置5による再燃焼(二次燃焼)が行われる。燃焼室52では,空気供給口81から供給される気流により排ガスが攪拌され,螺旋状に上昇する旋回気流が形成される。燃焼室22内から排出された排ガスは,空気供給口81から供給される空気,及び,バーナー82から噴射される燃料ガスと混合して,螺旋状に上昇しながら燃焼し,キルン本体20の上端部において,導出口71から排気される。この燃焼室52における処理によって,排ガス中のダイオキシン類,一酸化炭素(CO)等を含む未燃ガスが燃焼する。即ち,ダイオキシン類が分解される。また,排ガスを旋回させながら燃料ガスに接触させることで,排ガスを効率的に燃焼させることができる。さらに,キルン本体20へのクリンカの付着を抑制できる効果がある。
燃焼中,空気供給口81から燃焼室52内に供給する空気の風速は,例えば約10m/s以上,望ましくは30m/s以上とすることが好ましく,また,排ガスが燃焼室52内に滞留する時間(燃焼時間)は,2秒以上,望ましくは4秒以上,例えば6秒以上であることが好ましい。また,排ガスの燃焼温度は,少なくとも800℃以上,望ましくは900℃以上にすることが好ましい。これにより,排ガスを確実に燃焼させ,排ガスの完全燃焼を図ることができ,ダイオキシン類を確実に分解することができる。なお,燃焼温度が高すぎると,後の冷却工程での負担が大きくなるので,燃焼温度は1100℃以下,望ましくは1000℃以下にすることが好ましい。
導出口71から排出された排ガスは,導出路72,ガス導入口93を介して冷却室92に導入される。ガス導入口93を通過するとき,排ガスは整流板95によって所定の回転方向に向かうように整流され,また,冷却室92では,各冷却水供給口100から噴射されるミスト状の冷却水によって攪拌される。これにより,冷却室92で螺旋状に下降する旋回気流が形成される。排ガスは,冷却水のミストと混合して冷却されながら螺旋状に下降し,導出口111に流入して冷却室92から排出される。排ガスに含まれていた粉塵は,冷却塔本体91の底部に沈積する。上記のように螺旋状の下降気流を形成することで,排ガスを確実に急冷することができる。また,冷却塔本体91の底部に下降した粉塵が気流によって抑えられ,粉塵が舞い上がることを防止できる。従って,粉塵を確実に回収することができる。さらに,冷却塔本体91にダストやクリンカが付着したり腐食が発生したりすることを防止できる。
冷却室92内の気流の速度や温度は,冷却水の噴射量を調節することにより制御することができる。また,冷却室92内において排ガスが短時間で所定の温度まで急冷されるように適宜調節される。例えば,ガス導入口93から約900℃以上の状態で導入された排ガスが,導出口111において約180℃以下程度になるように調節される。排ガスの冷却速度は,ダイオキシン類の再合成が生じない冷却速度,例えば約500℃/s以上程度であれば良い。このように排ガスを急速に冷却することで,燃焼室52における燃焼により分解された成分が再合成することを防止できる。特に,ダイオキシン類の再合成が発生しやすい温度(約300℃程度)以下まで急速に冷却させることで,ダイオキシン類の再合成を防止できる。また,後に排ガスの飛灰除去処理を行うバグフィルター装置7の熱による損傷,劣化を防止できる。冷却水の噴射量は,例えばガス導入口93での排ガスの温度測定値に基づいて,該温度測定値が目標値,例えば約180℃になるようにフィードバック制御される。
導出口111から導出された排ガスには,導出路112を通過してバグフィルター装置7に導入される。排ガスが導出路112を通過する間に,活性炭供給路120,消石灰供給路121からそれぞれ活性炭,消石灰が供給され,排ガスと混合される。バグフィルター装置7に導入された排ガスは,バグフィルター131の外側から内側に流入する。排ガス中に残留していた飛灰,活性炭等はバグフィルター131の外側に捕獲され,排ガスから除去される。バグフィルター131で捕獲される飛灰には,重金属が含まれている。また,排ガスは活性炭によってさらに浄化される。さらに,排ガス中にわずかに残留していた無機類や一酸化炭素等は活性炭に吸着され,活性炭と共にバグフィルター131に捕獲される。また,導出路112内やバグフィルター131の濾布表面上において,排ガスに含まれていたHBr,HCl,SO等の酸性成分が,消石灰によって中和される。そして,消石灰や中和により生成された塩類は,バグフィルター131の外側に捕獲される。なお,導出路112に供給する消石灰の供給量は,予測される排ガス中の酸性成分含有量に基づいて,排ガスを十分に中和できる量に決めれば良い。
バグフィルター131によって清浄化された排ガスは,導出口133によってグフィルター装置7から排出され,排出路135を通じて煙突に送られる。そして,実質的に無害な清浄ガスとして,煙突8から大気中に放出される。
一方,前述した水封式コンベア装置10に集められた残渣物は,スクレーパコンベア機構62の駆動により水封式コンベア装置10から排出され,ヤード68に搬送される。また,急冷装置6において冷却塔本体91の底部に堆積した粉塵は,排出口115から排出され,ヤード68に搬送される。ヤード68に集積された残渣物等は製錬所に搬送される。そして,従来の金や銅等の製錬工程によって,残渣物中の有価金属類が回収され,再利用される。
また,バグフィルター装置7においてバグフィルター131の外側に捕獲された飛灰等は,筐体130の下端部に落下させられ,排出口141から排出される。そして,飛灰貯留槽150に貯留された後,混練装置151に供給され,重金属固定材や水等が添加され,飛灰の調湿,重金属固定,安定化が行われる。その後,最終処分場に搬送され,埋め立て処理が行われる。
かかる廃棄物処理システム1によれば,ロータリーキルン装置4によって破砕物を燃焼させることにより,破砕物中の樹脂等の燃焼成分を効率良くガス化させることができ,有価金属を含む残渣物を短時間で得ることができる。また,ロータリーキルン装置4の燃焼室22を降温させることなく破砕物を供給することができるので,燃焼室22の降温や昇温等の調整が不要であり,燃焼室22内を高温に維持することができ,効率的である。また,廃プリント基板を破砕した状態で,ロータリーキルン装置4によって攪拌しながら燃焼させるので,破砕物を満遍なく燃焼させ,燃焼成分を確実にガス化させることができる。
さらに,ロータリーキルン装置4において発生した排ガスを二次燃焼装置5において燃焼させることにより,排ガス中のダイオキシン類が分解され,その後急冷装置6において急冷させることにより,ダイオキシン類の再合成を防止できる。従って,ダイオキシン類が大気中に排出されることを防止できる。また,消石灰と活性炭の添加,及び,バグフィルター装置7での集塵により,飛灰,HBr,HCl,SO等の酸性成分,ダイオキシン類を排ガスから確実に除去し,排ガスを大気中に安全に排出できる。
また,ロータリーキルン装置4においては,キルン本体20の回転数,空気供給口42からの空気の供給流量,バーナー41の出力等を調節することにより燃焼室22内の雰囲気を制御することができるので,破砕物の種類,成分,粒子の大きさ等に応じて,燃焼状態を任意に調節して,好適に燃焼させることができる。二次燃焼装置5においては,空気供給口81からの空気の供給流量やバーナー82の出力を調節することにより燃焼室52内の雰囲気を制御できるので,排ガスの状態に応じて燃焼状態を任意に調節し,排ガスを確実に燃焼させることができる。急冷装置6においては冷却水供給口100からの冷却水の噴射量を調節することにより冷却室92内の雰囲気を制御できるので,ダイオキシン類の再合成が生じないように排ガスを確実に冷却させることができる。
以上,本発明の好適な実施形態について説明したが,本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば,特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において,各種の変更例または修正例に想到しうることは明らかであり,それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
図8に示すように,ロータリーキルン装置4のキルン本体20には,燃焼室22内において異なる位置の温度を測定する複数の温度計160を備えても良い。温度計は,キルン本体20の長手方向に沿って定間隔で配置しても良く,この場合,温度計160の間隔は,例えば約1〜3m程度,好ましくは約2m程度が良い。このように温度計160を複数個所に配置することで,各温度計160の測定値に基づいて,燃焼室22内の温度分布や破砕物の温度変化を把握することが可能になる。即ち,燃焼室22内の温度分布や破砕物の昇温速度に基づいて,空気供給口42の供給流量,バーナー41の出力,キルン本体20の回転数等の調節を行うことで,燃焼室22内の雰囲気と破砕物の温度をより適切に制御し,燃焼状態を向上させることができる。
なお,温度計160において,キルン本体20の壁部内に内蔵される測温体160aは,図9に示すように,例えばガラスウール等の耐熱性を有する材質を用いて保護することが好ましい。図9に示した例では,略棒状の測温体160aの外周面が,略円筒状に形成されたガラスウールからなる保護材161によって覆われており,さらに保護材161の外周面が,略円筒状の外殻162によって覆われている。また,キルン本体20には,キルン本体20の外殻を構成するキルンシェル20a及びキルンシェル20aの内面に沿って設けられた耐火物20bを貫通する貫通孔163が形成されている。外殻162は,貫通孔163内に通して固定されている。また,キルン本体20の外側において,外殻162の端部には,フランジ164が備えられている。測温体160aは,このフランジ164に固定されており,フランジ164を介して外殻162,キルン本体20に対して固定されている。そして,保護材161内を通ってキルン本体20の耐火物20bより燃焼室22側に突出し,突出した先端部において燃焼室22内の温度を測定できるように配置されている。なお,燃焼室22側の測温体160aの先端部を例えばセメント等によって覆うようにすれば,測温体160aをさらに確実に保護することができる。
また,ロータリーキルン装置4のキルン本体20の傾斜角度を調節する傾斜角度調節機構を備え,傾斜角度を可変としても良い。そうすれば,壁部23側から開口端に向かう方向における破砕物の移動速度を制御することができ,また,燃焼室22内の温度分布や,熱量のバランス等を制御することができる。特に,キルン本体20の回転数を変えることなく破砕物の移動速度を調節することができるので,キルン本体20の回転による攪拌能力を低下させず,破砕物の燃焼状態の均一性を良好に保つことができる。例えば,破砕物の流動性に応じて,破砕物の移動速度等を調節することができる。
傾斜角度調整機構170は,例えば図8に示すように,傾斜角度を調節可能な支持架台171と,支持架台171の縁部171aを上下させる昇降機構172とを備えた構成としても良い。図8において,駆動部21,支持ローラ27,キルン本体20等は,支持架台171上に設置されている。支持架台171は,二次燃焼装置5側の縁部171b側に沿って備えられた中心軸173を支点として傾斜可能であり,縁部171bと対向する壁部23側の縁部171a側は,昇降機構172の駆動により昇降可能になっている。昇降機構172は,支持架台171の下方に備えられており,支持架台171の縁部171a側の下面に接続されたシャフト174を昇降させる。昇降機構172としては,例えば油圧ジャッキ等を用いると良い。かかる昇降機構172を駆動させると,シャフト174を介して支持架台171の縁部171a側が上下し,支持架台171と一体的にキルン本体20の傾斜角度が変化する。これにより,燃焼室22の傾斜角度が任意に調節されるようになっている。なお,キルン本体20の傾斜角度の可変範囲は,略水平面に対して上方に例えば約0.1°〜5°程度の間としても良い。キルン本体20の傾斜角度は,例えば複数の温度計160の測定値より把握された燃焼室22内の温度分布や,破砕物の温度等に基づいて調節しても良い。例えば破砕物の昇温や燃焼の進行が遅いときは,シャフト174を下降させ,キルン本体20の傾斜角度を緩やかにして,破砕物の移動速度を遅くすれば,燃焼時間を長くして,十分に燃焼させることができる。逆に,破砕物の昇温や燃焼の進行が速いときは,シャフト174を上昇させ,キルン本体20の傾斜角度を大きくすれば,破砕物の移動速度を速くして,燃焼時間を短くすることができる。また,燃焼室22内において壁部23側の温度が低い場合は,キルン本体20の傾斜角度を緩やかにすれば,壁部23側の温度を昇温させることができ,温度分布を改善することができる。なお,ロータリーキルン装置4における破砕物の焼却では,キルン本体20の傾斜角度が1°異なるだけでも,キルン本体20内の燃焼領域が変化し,燃焼時間,温度分布等の燃焼状況に大きな影響が及ぼされる。そのため,キルン本体20の傾斜角度を僅かに調整するだけでも,燃焼状況を制御することができる。
また,例えば図10に示すように,キルン本体20の傾斜角度の調整を停止させた状態において支持架台170を固定させる固定用機構182を備えても良い。そうすれば,キルン本体20や支持架台170をより安定した状態で支持することができ,安全性が向上する。また,キルン本体20や支持架台170の荷重を固定用機構182に分散させることで,昇降機構172に加えられる荷重を軽減させることができ,昇降機構172の故障を防止できる。
図10に例示した傾斜角度調整機構180は,上記の傾斜角度調整機構170と同様に,キルン本体20を支持する支持架台171,支持架台171を床面181に対して昇降させる昇降機構172,支持架台171を回転可能に支持する中心軸173を備えており,支持架台171の縁部171b側が中心軸173を中心として回転させられながら,縁部171a側が上昇又は下降させられることにより,支持架台171及びキルン本体20の傾斜角度が調整される構成となっているが,昇降機構172が取り付けられている位置が傾斜角度調整機構170とは異なっている。さらに,図10に示した実施形態においては,支持架台170を固定させる固定用機構182が複数個備えられている。
かかる傾斜角度調整機構180にあっては,昇降機構172のシャフト174の上端部は,壁部23側に設けられているタイヤローラ26及び支持ローラ27の下方において,支持架台170の下面に取り付けられている。また,図11に示すように,支持ローラ27,27は,キルン本体20を挟むようにして,タイヤローラ26の下部両側にそれぞれ設けられており,昇降機構172は,各支持ローラ27,27の下方にそれぞれ対応させて設けられている。即ち,支持ローラ27から支持架台170に対して荷重が集中して加えられる箇所を,下方から持ち上げるように取り付けられている。このようにすると,支持架台170をバランス良く支持することができ,傾斜角度の調整も安定して行うことができる。
固定用機構182は,支持架台171の縁部171aの近傍と,昇降機構172の近傍と,駆動部21の下方とに,それぞれ複数個ずつ設けられている。各固定用機構182は,例えばボルトとナット等によって構成しても良い。図12に示す例では,両端部側に雄ねじ溝がそれぞれ形成されているボルト(スタッドボルト)186と4個のナット187とを備えた構成になっている。
ボルト186の一端部(下端部)側は,支持架台171の下方において,床面181に固定された基台185によって保持されている。即ち,基台185に設けられた保持孔191内に,上下に貫通するように設けられている。保持孔191の下方と上方においては,ナット187がボルト186に対してそれぞれ螺合されている。この2つのナット187によって保持孔191の周縁部を上下から挟むことにより,ボルト186の下端部側が保持孔191に対して固定されるようになっている。
一方,ボルト186の他端部(上端部)側は,支持架台171に接続されている。即ち,支持架台171に設けられた保持孔192内に,上下に貫通するように設けられている。保持孔192の下方と上方においては,ナット187がボルト186に対してそれぞれ螺合されている。この2つのナット187によって保持孔191の周縁部を上下から挟むことにより,ボルト186の上端部側が保持孔192に対して固定されるようになっている。
かかる構成において,支持架台171の傾斜角度を固定させるときは,各固定用機構182においてナット187を締め付け,ボルト186の両端部を基台185及び支持架台171に対してそれぞれ固定させれば良い。これにより,支持架台71を複数の固定用機構182によって保持することができる。一方,支持架台171の傾斜角度を変えるときは,各固定用機構182において,ボルト186に対するナット187の位置を変更し,ナット187を保持孔191又は保持孔192から離隔させ,支持架台171又は基台185に対するボルト186の固定を解除すれば良い。即ち,支持架台171又は基台185に対する各ボルト186の固定を解除した後,昇降機構172の作動によって支持架台171の傾斜角度を調整し,傾斜角度の調整が終了したら,再び支持架台171又は基台185に対して各ボルト186を固定させることで,支持架台171の傾斜角度を再び固定させれば良い。
例えば支持架台171を持ち上げて傾斜角度を大きくする場合は,支持架台171側において,各保持孔192の上方に設けられているナット187を回転させ,各ボルト186に沿ってそれぞれ上昇させ,各保持孔192から上方にそれぞれ離隔させるようにすれば良い。これにより,各ボルト186の上端部側の固定が解除され,各保持孔192がボルト186に沿って上下移動できるようになり,支持架台171の傾斜角度を昇降機構172の作動によって調整できるようになる。なお,支持架台171の傾斜角度は十分に小さく,横方向におけるボルト186に対する保持孔192の位置ずれの大きさも十分に小さいので,保持孔192の動きがボルト186によって妨げられる心配は無い。従って,傾斜角度の調整を円滑に行うことができる。こうして各ボルト186の上端部側の固定をそれぞれ解除した状態で,昇降機構172の作動によってシャフト174を昇降させ,支持架台171の傾斜角度が所望の角度になったら,昇降機構172の作動を停止させ,支持架台171をシャフト174によって保持した状態で静止させる。そして,支持架台171側の各ナット187の位置を再度調節し,各ボルト186の上端部側を再び支持架台171に対してそれぞれ固定させ,支持架台171を固定させれば良い。即ち,保持孔192の下方に位置するナット187を上昇させ,2つのナット187によって保持孔192を上下から挟むようにすれば良い。
以上のような構成によれば,キルン本体20及び支持架台171の傾斜角度を変更可能な状態と傾斜角度を固定する状態との切り替えを,ナット187の位置を調節することにより,簡単に行うことができる。また,各固定用機構182が取り付けられている位置における支持架台171と基台185との間の高さに合わせて,各ナット187の位置を自在に変えることができるので,支持架台171の傾斜角度を変えても,支持架台171を確実に支持することができる。
なお,固定用機構182は,例えば各支持ローラ27,27の下方,駆動部21などにそれぞれ対応させて設けても良い。即ち,支持ローラ27又は駆動部21などから支持架台170に対して荷重が集中して加えられる箇所を,下方から持ち上げるように取り付けても良い。このようにすれば,支持架台170をバランス良く支持することができる。
本実施形態においては廃棄物として廃プリント回路板を例示したが,廃棄物とはかかるものに限定されず,他の電子廃棄物(例えばプリント配線板等の電子基板,電子部品等)であっても良い。また,有価金属含有スラッジ等であっても良い。
本発明は,電子廃棄物やスラッジ等,有価金属を含む廃棄物から有価金属を含む残渣物を回収する方法及びシステムに適用できる。
本実施の形態にかかる廃棄物処理システムの構成を説明する説明図である。 キルン本体の概略側面図である。 燃焼時間と残渣物中のBrの濃度との関係を示したグラフである。 水封式スクレーパコンベアの概略縦断面図である。 燃焼時間と残渣物中のBr,Cl,Sの濃度との関係を示したグラフである。 二次燃焼装置の燃焼室における気流を説明する概略横断面図である。 ガス導入口に備えた整流板の概略斜視図である。 キルン本体に複数の温度計を備えた実施形態,及び,キルン本体の傾斜を可変とした実施形態を示す概略縦断面図である。 温度計の近傍を拡大して示した概略縦断面図である。 傾斜角度調整機構及び固定用機構を備えた実施形態にかかる概略側面図である。 昇降機構の配置を説明する概略正面図である。 固定用機構を拡大して示した概略側面図である。
符号の説明
1 廃棄物処理システム
4 ロータリーキルン装置
5 二次燃焼装置
6 急冷装置
10 水封式コンベア装置
20 キルン本体
21 駆動装置
22 燃焼室
31 破砕物供給口
41 バーナー
42 空気供給口
52 燃焼室
81 空気供給口
82 バーナー
92 冷却室
100 冷却水供給口

Claims (13)

  1. 廃棄物から有価金属を含有した残渣物を回収する廃棄物処理方法であって,
    廃棄物を燃焼させ,有価金属を含有した残渣物を回収し,
    前記燃焼によって発生したガスを燃焼させ,
    前記燃焼させたガスをダイオキシン類の再合成が生じない冷却速度で冷却することを特徴とする,廃棄物処理方法。
  2. 前記ガスの燃焼を900℃以上で行い,
    前記ガスを900℃以上から180℃以下まで,ダイオキシン類の再合成が生じない冷却速度で冷却することを特徴とする,請求項1に記載の廃棄物処理方法。
  3. 前記ガスの燃焼において,前記ガスを風速10m/s以上で供給した空気によって攪拌させることを特徴とする,請求項1又は2に記載の廃棄物処理方法。
  4. 前記残渣物を水洗することを特徴とする,請求項1,2又は3に記載の廃棄物処理方法。
  5. 前記廃棄物は電子廃棄物であることを特徴とする,請求項1〜4のいずれかに記載の廃棄物処理方法。
  6. 廃棄物から有価金属を含有した残渣物を回収する廃棄物処理システムであって,
    廃棄物を燃焼させる一次燃焼装置と,
    前記一次燃焼装置において発生したガスを燃焼させる二次燃焼装置と,
    前記二次燃焼装置において燃焼させたガスをダイオキシン類の再合成が生じない冷却速度で冷却させる急冷装置とを備えたことを特徴とする,廃棄物処理システム。
  7. 前記一次燃焼装置は,回転するキルン本体を備えたロータリーキルン装置であって,
    前記キルン本体の傾斜角度を調節可能な構成としたことを特徴とする,請求項6に記載の廃棄物処理システム。
  8. 前記キルン本体を支持する支持架台と,前記支持架台を回転可能に支持する中心軸と,前記支持架台を昇降させる昇降機構とを備え,
    前記支持架台が前記中心軸を中心として回転しながら,前記昇降機構によって昇降させられることにより,前記キルン本体の傾斜角度が調整される構成とし,
    前記キルン本体の傾斜角度の調整を停止させた状態において前記支持架台を固定させる固定用機構を備えたことを特徴とする,請求項7に記載の廃棄物処理システム。
  9. 前記一次燃焼装置は,回転するキルン本体を備えたロータリーキルン装置であって,
    前記ロータリーキルン装置のキルン本体内の温度を測定する温度計を,前記キルン本体の長さ方向に複数並べて備えたことを特徴とする,請求項6〜8のいずれかに記載の廃棄物処理システム。
  10. 前記二次燃焼装置の炉本体内に空気を供給する複数の空気供給口を設け,
    前記空気の供給流量を可変としたことを特徴とする,請求項6〜9のいずれかに記載の廃棄物処理システム。
  11. 前記残渣物を水中に浸漬させる水封式コンベア装置を備えたことを特徴とする,請求項6〜10のいずれかに記載の廃棄物処理システム。
  12. 前記急冷装置は,ガスを冷却させる冷却室と,前記冷却室にガスを導入するガス導入口とを備え,
    前記ガス導入口から導入されるガスが旋回しながら前記冷却室に向かうように整流する整流板を備えたことを特徴とする,請求項6〜11のいずれかに記載の廃棄物処理システム。
  13. 前記廃棄物は電子廃棄物であることを特徴とする,請求項6〜12のいずれかに記載の廃棄物処理システム。
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