JP2006222218A - 配線回路基板およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ベース絶縁層2の上に、電子部品21の外部端子22と接続するための端子部6を含む導体パターン3と、カバー絶縁層4の形成に起因して形成され、端子部6と外部端子22との接続を阻害する阻害部分の有無を判定するための判定マーク8とを同時に形成した後、導体パターン3を被覆し、端子部6および判定マーク8が露出する開口部7が形成されるように、カバー絶縁層4を形成する。その後、カバー絶縁層4の開口部7から露出する判定マーク8を基準として、阻害部分の有無を判定する。
【選択図】図1
Description
このような配線回路基板には、導体パターンに、電子部品などの外部端子と接続するための端子部が設けられている。カバー絶縁層には、端子部に対応するように開口部が形成されており、端子部は、その開口部から露出され、外部端子と接続できるようにされている。
カバー絶縁層の形成方法には、第1の方法として、ソルダレジストを、印刷法により開口部が形成されるように形成する方法、第2の方法として、予め開口部が形成されている絶縁樹脂フィルムを、接着剤を介して貼着するか、または、絶縁樹脂フィルムを、接着剤を介して貼着した後、開口部が形成されるように穿孔する方法、第3の方法として、感光性樹脂を、露光および現像するフォト加工により開口部が形成されるように形成する方法が知られている。
さらには、第3の方法では、フォト加工において、フォトマスクの配置がずれると、図15に示すように、電子部品の実装位置35がカバー絶縁層31によって被覆される場合があり、このような場合にも、電子部品を実装して、外部端子と端子部33とを接続することが困難となる。
また、カバー絶縁層が電子部品の実装位置に到達しているか否かは、通常、電子部品の実装後の導通検査により判定するか、あるいは、端子部において各配線の間に流れ出したカバー絶縁層の寸法を測定するなどの方法によるが、このような方法を、製造工程において実施すると、高い生産性を確保しつつ、コストの低減化を図ることが困難となる。
図1において、この配線回路基板1は、平面視略矩形帯状に延びるフレキシブル配線回路基板であって、図1(a)に示すように、ベース絶縁層2と、ベース絶縁層2の上に形成された導体パターン3と、導体パターン3を被覆するように、ベース絶縁層2の上に形成されたカバー絶縁層4とを備えている。
導体パターン3は、配線回路基板1の長手方向に沿って延び、互いに幅方向(配線回路基板1の長手方向に直交する方向)において間隔を隔てて並列配置される複数の配線5からなり、電子部品21の外部端子22と接続するための端子部6が含まれている。この端子部6は、各配線5が、配線回路基板1の長手方向において、間隔を隔てて分断されるように、形成されている。なお、各配線5の幅W1は、5〜500μmに設定され、各配線5間の間隔W2が、5〜500μmに設定されている。各配線5間の間隔W2が、5〜50μm以下の場合には、後述する阻害部分23(図3参照)が形成されやすくなる。
そして、この配線回路基板1には、カバー絶縁層4の開口部7から露出するベース絶縁層2の上であって、端子部6の近傍に判定マーク8が設けられている。
判定マーク8は、後述するように、カバー絶縁層4の形成に起因して形成され、端子部6と、電子部品21の外部端子22との接続を阻害する阻害部分23(図3参照)の有無を判定するために形成される。
各判定マーク8は、平面視正方形状をなし、端子部6における幅方向最外側の配線5に対して、その幅方向外側から配線5に接触するように、配置されている。
各判定マーク8の長手方向長さL1は、15〜150μm、好ましくは、30〜80μmに設定され、幅方向長さL2は、15〜150μm、好ましくは、30〜80μmに設定されている。これより大きいと、配置できる位置が限定されてしまい、また、これより小さいと、観察が困難となる場合がある。
次に、この配線回路基板1の製造方法を、図2を参照して説明する。
この方法では、まず、図2(a)に示すように、ベース絶縁層2を用意する。ベース絶縁層2は、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの合成樹脂のフィルムが用いられる。好ましくは、ポリイミド樹脂フィルムが用いられる。
また、導体パターン3および判定マーク8は、ベース絶縁層2の上に、例えば、サブトラクティブ法やアディティブ法などの公知のパターンニング法によって、導体パターン3は、上記した端子部6を含む複数の配線5からなる所定パターンで、また、判定マーク8は、端子部6における幅方向最外側の配線5と連続するように、形成する。
次いで、この方法では、図2(c)に示すように、ベース絶縁層2の上に、端子部6が露出する開口部7が形成されるように、カバー絶縁層4を形成する。
次いで、この方法では、図1(d)に示すように、カバー絶縁層4の開口部7から露出する端子部6の各配線5に、金属めっき層9を形成する。金属めっき層9としては、例えば、金やニッケルなどの金属が用いられる。また、金属めっき層9は、例えば、無電解めっきや電解めっきにより形成する。好ましくは、ニッケルめっき層および金めっき層を順次積層する。この金属めっき層9の厚みは、例えば、金めっき層である場合には、例えば、0.1〜1μm、ニッケルめっき層である場合には、例えば、0.5〜5μmである。
次いで、この方法では、図3に示すように、カバー絶縁層4の開口部7から露出する判定マーク8を基準として、阻害部分23の有無を判定する。
判定マーク8を基準とする阻害部分23の有無の判定は、例えば、光学顕微鏡(例えば、20〜40倍率)を用いて、観察で判定する。
一方、阻害部分23が「無」と判定された場合には、外部端子22と端子部6との良好な接続を確保することができるので、その配線回路基板1は、良品として処理され、例えば、図1(a)に示すように、電子部品21を実装して、その電子部品21の各外部端子22と、端子部6の各配線5とが電気的に接続される。
なお、上記の説明では、判定マーク8を、端子部6における幅方向最外側の配線5と接触するように、平面視正方形状に形成したが、例えば、図4に示すように、端子部6における幅方向最外側の各配線5に対して、さらに幅方向両外側に、判定マーク8を形成するための専用配線10を形成して、その専用配線10の遊端部に、判定マーク8を設けることもできる。
また、上記の説明では、判定マーク8を、端子部6における幅方向最外側の配線5と接触するように配置したが、例えば、図5に示すように、端子部6における幅方向最外側の各配線5に対して、間隔S2を隔てて判定マーク8を設けることもできる。なお、各配線5に対する判定マーク8の幅方向の間隔S2は、例えば、70μm以内、好ましくは、15〜30μmに設定される。
さらにまた、図5に示す判定マーク8の平面視正方形状に代えて、平面視図形形状や平面視アルファベット形状に形成してもよく、例えば、平面視三角形状(図7参照)、平面視+字形状(図8参照)、平面視−字形状(図9参照)、平面視T字形状(配線回路基板1の長手方向に沿うT字形状、図10参照)、平面視T字形状(配線回路基板1の幅方向に沿うT字形状、図11参照)、平面視L字形状(図12参照)、平面視円形状(図13参照)など、目的および用途などによって、その平面形状は、適宜選択することができる。
なお、上記した図7〜図12に示す判定マーク8において、各判定マーク8の長手方向長さL1は、15〜150μm、好ましくは、30〜80μmに設定され、幅方向長さL2は、15〜150μm、好ましくは、30〜80μmに設定されている。
実施例1
以下の手順で、配線回路基板を1000個製造した。
厚み25μmのポリイミド樹脂からなるベース絶縁層の上に、厚み18μmの銅箔が積層されている銅張積層基板(二層基材)に、厚み10μmのエッチングレジストを、ドライフィルムフォトレジストを露光および現像して、導体パターンおよび判定マークに対応するパターンとして形成した。
その後、エッチングレジストを剥離した後、ソルダレジストを、印刷法によって、端子部に対応して開口部が形成されるように、導体パターンを含むベース絶縁層2の上に塗布し、その後、ソルダレジストを硬化させることにより、厚み10μmのカバー絶縁層を形成した(図2(c)参照)。
阻害部分は、カバー絶縁層の形成時において、端子部における各配線の間に、ソルダレジストが毛細管現象によって流れ出し、その流れ出したソルダレジストが、配線の長手方向における開口部の内側方向において、判定マークを超えた部分とした。
実施例2
以下の手順で、配線回路基板を1000個製造した。
厚み25μmのポリイミド樹脂からなるベース絶縁層の上に、厚み18μmの銅箔が積層されている銅張積層基板(二層基材)に、厚み10μmのエッチングレジストを、ドライフィルムフォトレジストを露光および現像して、導体パターンに対応するパターンとして形成した。
その後、エッチングレジストを剥離した後、端子部における幅方向最両外側の配線に対して、さらに幅方向外側に間隔を隔てた位置のベース絶縁層に、紫外線レーザを用いて、直径50μmの円形の貫通孔からなる判定マークを形成した。
次いで、カバー絶縁層の開口部から露出する判定マークを基準として、阻害部分の有無を、光学顕微鏡を用いて観察により判定した。
阻害部分が有る場合には、不良品として処理し、無い場合には、良品として電子部品を実装した。
2 ベース絶縁層
3 導体パターン
4 カバー絶縁層
6 端子部
7 開口部
8 判定マーク
22 外部端子
23 阻害部分
Claims (2)
- ベース絶縁層と、前記ベース絶縁層の上に形成された導体パターンと、前記導体パターンを被覆するように、前記ベース絶縁層の上に形成されたカバー絶縁層とを備える配線回路基板において、
前記導体パターンは、外部端子と接続するための端子部を含み、
前記カバー絶縁層には、前記端子部に対応して、開口部が形成されており、
前記開口部から露出する前記ベース絶縁層の上には、前記カバー絶縁層の形成に起因して形成され、前記端子部と前記外部端子との接続を阻害する阻害部分の有無を判定するための判定マークが、前記端子部の近傍に設けられていることを特徴とする、配線回路基板。 - ベース絶縁層の上に、外部端子と接続するための端子部を含む導体パターンを形成する工程と、前記ベース絶縁層の上に、前記導体パターンを被覆し、前記端子部が露出する開口部が形成されるように、カバー絶縁層を形成する工程と、前記カバー絶縁層の形成に起因して形成され、前記端子部と前記外部端子との接続を阻害する阻害部分の有無を判定する工程とを備え、
前記導体パターンを形成する工程において、前記開口部から露出する前記ベース絶縁層の上に、前記端子部と前記外部端子との接続を阻害する前記カバー絶縁層の有無を判定するための判定マークを、前記導体パターンと同時に形成し、
前記カバー絶縁層の形成に起因して形成され、前記端子部と前記外部端子との接続を阻害する阻害部分の有無を判定する工程において、前記判定マークを基準として、前記阻害部分の有無を判定することを特徴とする、配線回路基板の製造方法。
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