JP2007103587A - 配線回路基板およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ベース絶縁層1上には、電子部品5が実装される領域Sが設けられている。領域Sの対向する2辺の内側から外側にそれぞれ延びるように2組の配線パターン群2gが配置される。各配線パターン群2gは平行に配置された複数の配線パターン2を含む。ベース絶縁層1上で各配線パターン群2gの両側にダムパターン2aが形成される。2つのダムパターン2a間の配線パターン2を覆うようにベース絶縁層1上にソルダーレジスト層3が形成される。電子部品5は配線パターン2の端子部2bに電気的に接続される。ダムパターン2aは、電子部品5とは電気的に接続されない。
【選択図】図1
Description
図1は本発明の一実施の形態に係る配線回路基板の一部を示す斜視図であり、図2は図1の配線回路基板のX―X線断面図である。
次に、配線回路基板10の形成方法の一例として、サブトラクティブ法を用いた場合について説明する。
本実施の形態に係る配線回路基板10においては、ベース絶縁層1上で配線パターン群2gの両側に、ベース絶縁層上にダムパターン2aが形成される。それにより、ソルダーレジスト層3の粘度が低い場合でも、ソルダーレジスト層3の流動がダムパターン2aにより阻止されるので、各配線パターン2上のソルダーレジスト層3の厚みが十分に保持され、配線パターン2のエッジ部が露出することが防止される。また、ソルダーレジスト層3で被膜する必要のない部分に、ソルダーレジスト層3が余計に形成されることが防止される。これらの結果、配線回路基板10の信頼性が向上される。
本実施例では、上記実施の形態に係る配線回路基板10におけるソルダーレジスト層3の流動を調べた。
比較例では、ダムパターン2aを形成しない場合の上記実施の形態に係る配線回路基板10におけるソルダーレジスト層3の流動を調べた。
実施例では、ダムパターン2a間において、配線パターン2のエッジ部が露出することなく良好にソルダーレジスト層3が形成された。
本実施の形態においては、ベース絶縁層1が絶縁層に相当し、配線パターン2が導体パターンに相当し、配線パターン群2gが導体パターン群に相当する。
2 配線パターン
2a ダムパターン
2b 端子部
2g 配線パターン群
3 ソルダーレジスト
5 電子部品
5a ピン端子
10,10a 配線回路基板
Claims (8)
- 電子部品が実装される配線回路基板であって、
絶縁層と、
前記絶縁層上に形成され、前記電子部品に電気的に接続されるべき導体パターンと、
前記絶縁層上で前記導体パターンの少なくとも所定部分に間隔をおいて隣接するように形成され、前記電子部品と電気的に分離されるべきダムパターンと、
前記絶縁層上で前記ダムパターンに関して前記導体パターン側の領域において前記導体パターンの前記所定部分を覆うように形成されるソルダーレジストとを備えることを特徴とする配線回路基板。 - 前記導体パターンと前記ダムパターンとの間隔は、50μm以上1000μm以下であることを特徴とする請求項1記載の配線回路基板。
- 前記ダムパターンの厚みは、前記導体パターンの厚みと等しいことを特徴とする請求項1または2記載の配線回路基板。
- 前記ダムパターンの厚みは、前記導体パターンの厚みよりも大きいことを特徴とする請求項1または2記載の配線回路基板。
- 電子部品が実装される配線回路基板であって、
絶縁層と、
前記絶縁層上に形成され、前記電子部品に電気的に接続されるべき1または複数の導体パターンを含む導体パターン群と、
前記絶縁層上で前記導体パターン群の少なくとも所定領域を挟んで互いに対向しかつ前記導体パターン群の少なくとも前記所定領域に間隔をおいて隣接するように形成され、前記電子部品と電気的に分離されるべき第1および第2のダムパターンと、
前記絶縁層上で前記第1および第2のダムパターンの間において前記導体パターン群の前記所定領域を覆うように形成されるソルダーレジストとを備えることを特徴とする配線回路基板。 - 前記導体パターン群と前記第1および第2のダムパターンの各々との間隔は、50μm以上1000μm以下であることを特徴とする請求項5記載の配線回路基板。
- 電子部品が実装される配線回路基板の製造方法であって、
絶縁層上に前記電子部品に電気的に接続されるべき導体パターンを形成する工程と、
前記絶縁層上で前記導体パターンの少なくとも所定部分に間隔をおいて隣接するように、前記電子部品と電気的に分離されるべきダムパターンを形成する工程と、
前記絶縁層上で前記ダムパターンに関して前記導体パターン側の領域において前記導体パターンの前記所定部分を覆うようにソルダーレジストを形成する工程とを備えることを特徴とする配線回路基板の製造方法。 - 電子部品が実装される配線回路基板の製造方法であって、
絶縁層上に前記電子部品に電気的に接続されるべき1または複数の導体パターンを含む導体パターン群を形成する工程と、
前記絶縁層上で前記導体パターン群の少なくとも所定領域を挟んで互いに対向しかつ前記1または複数の導体パターンの少なくとも前記所定領域に間隔をおいて隣接するように、前記電子部品と電気的に分離される第1および第2のダムパターンを形成する工程と、
前記絶縁層上で前記第1および第2のダムパターンの間において前記所定領域を覆うようにソルダーレジストを形成する工程とを備えることを特徴とする配線回路基板の製造方法。
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JP2005290170A JP2007103587A (ja) | 2005-10-03 | 2005-10-03 | 配線回路基板およびその製造方法 |
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2005
- 2005-10-03 JP JP2005290170A patent/JP2007103587A/ja active Pending
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