JP2005064460A - プラズマ処理装置、フォーカスリング及び被処理体の載置装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 プラズマ処理装置に用いられる被処理体の載置装置は、高周波電力が印加されるサセプタ11と、サセプタ11の上面に配置される静電チャック25と、該静電チャック25の外周部25bに載置されるフォーカスリング30とから成り、静電チャック25は、フォーカスリング30が載置される外周部25bの内部において直流電源28と接続される電極板25dを有し、フォーカスリング30は、外周部25bと接触する接触部を形成する二酸化珪素から成る誘電体部30aと、該誘電体部30aを介して外周部25bに対向するシリコンから成る導電体部30bとを有する。
【選択図】 図2
Description
10 チャンバ
11 サセプタ
25 静電チャック
25a 中心部
25b 外周部
25c,25d 電極板
26,28 直流電源
30 フォーカスリング
30a,30c 誘電体部
30b,30d 導電体部
30e 他の誘電体部
36、46 ガス供給ライン
46a ウエハ部ライン
46b フォーカスリング部ライン
44,45 伝熱ガス導入溝
44a,45a 内側導入溝
44b,45b 外側導入溝
Claims (18)
- プラズマ処理が施される被処理体を載置する静電チャックと、該静電チャックに接触部にて接触するフォーカスリングとを有する被処理体の載置装置を備えるプラズマ処理装置において、
前記フォーカスリングは、前記接触部を形成する誘電体部と、該誘電体部を介して前記静電チャックに対向する導電体部とを有することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記誘電体部の厚みは、前記フォーカスリングの半径方向に関して一定であることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 前記誘電体部は、前記導電体部を成す材料の酸化物から成ることを特徴とする請求項1又は2記載のプラズマ処理装置。
- 前記導電体部を成す材料は、シリコンであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記誘電体部を成す材料は二酸化珪素であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- プラズマ処理が施される被処理体を載置する静電チャックに接触部にて接触するフォーカスリングにおいて、
前記接触部を形成する誘電体部と、該誘電体部を介して前記静電チャックに対向する導電体部とを有することを特徴とするフォーカスリング。 - プラズマ処理が施される被処理体を載置する静電チャックと、該静電チャックに接触部にて接触するフォーカスリングとを備えた被処理体の載置装置において、
前記フォーカスリングは、前記接触部を形成する誘電体部と、該誘電体部を介して前記静電チャックに対向する導電体部とを有することを特徴とする被処理体の載置装置。 - プラズマ処理が施される被処理体を載置する静電チャックと、前記被処理体の周辺において前記静電チャックに接触面にて接触するフォーカスリングとを有する被処理体の載置装置を備えるプラズマ処理装置において、
熱媒体が充填される熱伝達部を、前記接触面に有することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記充填される熱媒体の圧力を制御する制御部をさらに備え、前記制御部は、複数の工程から成る前記プラズマ処理の各工程に応じて前記充填される熱媒体の圧力を変更することを特徴とする請求項8記載のプラズマ処理装置。
- 前記フォーカスリングに対向するように前記静電チャックに内包される電極と、該電極に印加される電圧を制御する制御部とをさらに備え、前記電極は、静電吸着力によって前記フォーカスリングを前記静電チャックに吸着させ、前記制御部は、複数の工程から成る前記プラズマ処理の各工程に応じて前記電極に印加される電圧を変更することを特徴とする請求項8記載のプラズマ処理装置。
- 前記熱伝達部は、前記接触面に配設された溝であることを特徴とする請求項8記載のプラズマ処理装置。
- 前記フォーカスリングが前記溝を有することを特徴とする請求項11記載のプラズマ処理装置。
- 前記静電チャックが前記溝を有することを特徴とする請求項11記載のプラズマ処理装置。
- 前記溝の深さは0.1mm以上であることを特徴とする請求項11乃至13のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記溝における隅角部はR形状に成形されていることを特徴とする請求項11乃至14のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記溝は、前記フォーカスリングと同心の環状を呈する少なくとも1つの溝から成ることを特徴とする請求項11乃至15のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- プラズマ処理が施される被処理体を載置する静電チャックに、前記被処理体の周辺において接触面にて接触するフォーカスリングにおいて、
熱媒体が充填される熱伝達部を、前記接触面に有することを特徴とするフォーカスリング。 - プラズマ処理が施される被処理体を載置する静電チャックと、前記被処理体の周辺において前記静電チャックに接触面にて接触するフォーカスリングとを備える被処理体の載置装置において、
熱媒体が充填される熱伝達部を、前記接触面に有することを特徴とする被処理体の載置装置。
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